Для литья, расплавления, испарения, гравировки или травления (H01J37/305)
H01J37/305 Для литья, расплавления, испарения, гравировки или травления(13)
Изобретение относится к ионно-плазменной установке для нанесения покрытий на поверхность металлических внутрисосудистых стентов, преимущественно из оксинитрида титана. Установка содержит шлюзовую камеру (6) с рабочим столом (8) для загрузки изделий, генератор газовой плазмы (7) для предварительной ионно-плазменной обработки изделий, цилиндрическую вакуумную камеру (1) с аксиально расположенной внутри ее объема дуальной магнетронной распылительной системой (МРС), верхнюю крышку (4) для присоединения затвора (5) шлюзовой камеры (6), высоковакуумную откачную систему, трехканальную систему подачи газов (11), систему автоматического управления (16), средства контроля технологического процесса, а также источники питания: МРС (12), потенциала смещения рабочего стола (13), накала катода (14) и газового разряда (15) генератора плазмы.
Изобретение относится к способу электронно-лучевой наплавки с оперативным контролем положения присадочной проволоки относительно электронного луча. Способ содержит этапы, на которых электронно-лучевую наплавку проводят с непрерывной осцилляцией электронного луча по траектории, имеющей пересечение с присадочной проволокой.
Способ определения изменения положения точки падения непрерывного или импульсного энергетического пучка на ограниченной поверхности, который периодически перемещается по поверхности с помощью отклоняющего устройства, включает операции определения поверхности с помощью камеры, имеющей множество отдельно вычисляемых пикселей в плоскости изображения, при этом каждая точка поверхности ассоциируется с пикселем, оценки определяемых камерой характеристик изображения с помощью узла анализа изображений.
Изобретение относится к мишени для электродугового источника (ARC) с первым телом (3) из подлежащего испарению материала, которое содержит по существу в одной плоскости предусмотренную для испарения поверхность, при этом поверхность в этой плоскости окружает центральную зону.
Изобретение относится к установке для нанесения покрытий на подложки путем электронно-лучевого физического осаждения из паровой фазы. Установка содержит тигельное устройство, содержащее по меньшей мере два тигля, расположенных со смещением друг относительно друга в горизонтальной плоскости.
Изобретение относится к области изготовления полупроводниковых приборов. .
Изобретение относится к нанесению вакуумных покрытий, а именно к способам и устройствам для генерации плазмы электропроводящих материалов, предназначенных для нанесения покрытий в вакууме осаждением конденсата из плазменной фазы, и может быть использовано в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве, в электронной технике и других областях народного хозяйства.
Изобретение относится к области технологии, связанной с тепловой обработкой, плавлением материалов. .
Изобретение относится к изготовлению прецизионных поверхностей изделий и позволяет повысить точность обработки изделий. .