Для литья, расплавления, испарения, гравировки или травления (H01J37/305)

H01J     Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы (искровые разрядники H01T; дуговые лампы с расходуемыми электродами H05B; ускорители элементарных частиц H05H) (10498)
H01J37        Разрядные приборы с устройствами для ввода объектов или материалов, подлежащих воздействию разряда, например с целью их исследования или обработки (H01J33,H01J40,H01J41,H01J47,H01J49 имеют преимущество; исследование или анализ поверхностных структур на атомном уровне с использованием техники сканирующего зонда G01N13/10, например растровая туннельная микроскопия G01N13/12; бесконтактные испытания электронных схем с использованием электронных пучков G01R31/305; детали устройств, использующих метод сканирующего зонда вообще G12B21) (805)
H01J37/305                     Для литья, расплавления, испарения, гравировки или травления(13)

Вакуумная ионно-плазменная установка для нанесения покрытий на поверхность металлических внутрисосудистых стентов, преимущественно из оксинитрида титана // 2705839
Изобретение относится к ионно-плазменной установке для нанесения покрытий на поверхность металлических внутрисосудистых стентов, преимущественно из оксинитрида титана. Установка содержит шлюзовую камеру (6) с рабочим столом (8) для загрузки изделий, генератор газовой плазмы (7) для предварительной ионно-плазменной обработки изделий, цилиндрическую вакуумную камеру (1) с аксиально расположенной внутри ее объема дуальной магнетронной распылительной системой (МРС), верхнюю крышку (4) для присоединения затвора (5) шлюзовой камеры (6), высоковакуумную откачную систему, трехканальную систему подачи газов (11), систему автоматического управления (16), средства контроля технологического процесса, а также источники питания: МРС (12), потенциала смещения рабочего стола (13), накала катода (14) и газового разряда (15) генератора плазмы.

Способ электронно-лучевой наплавки с контролем положения присадочной проволоки относительно электронного луча (варианты) // 2704682
Изобретение относится к способу электронно-лучевой наплавки с оперативным контролем положения присадочной проволоки относительно электронного луча. Способ содержит этапы, на которых электронно-лучевую наплавку проводят с непрерывной осцилляцией электронного луча по траектории, имеющей пересечение с присадочной проволокой.

Способ определения изменения положения точки падения энергетического пучка на ограниченной поверхности // 2683250
Способ определения изменения положения точки падения непрерывного или импульсного энергетического пучка на ограниченной поверхности, который периодически перемещается по поверхности с помощью отклоняющего устройства, включает операции определения поверхности с помощью камеры, имеющей множество отдельно вычисляемых пикселей в плоскости изображения, при этом каждая точка поверхности ассоциируется с пикселем, оценки определяемых камерой характеристик изображения с помощью узла анализа изображений.

Мишень для искрового испарения с пространственным ограничением распространения искры // 2562909
Изобретение относится к мишени для электродугового источника (ARC) с первым телом (3) из подлежащего испарению материала, которое содержит по существу в одной плоскости предусмотренную для испарения поверхность, при этом поверхность в этой плоскости окружает центральную зону.

Установка для нанесения покрытий на подложки путем электронно-лучевого физического осаждения из паровой фазы // 2556197
Изобретение относится к установке для нанесения покрытий на подложки путем электронно-лучевого физического осаждения из паровой фазы. Установка содержит тигельное устройство, содержащее по меньшей мере два тигля, расположенных со смещением друг относительно друга в горизонтальной плоскости.

Усовершенствование процесса удаления резиста в установке для травления диэлектрика с использованием пучка плазмы // 2279732
Изобретение относится к области изготовления полупроводниковых приборов. .

Способ нанесения покрытий в вакууме и устройство для его осуществления // 2091989
Изобретение относится к нанесению вакуумных покрытий, а именно к способам и устройствам для генерации плазмы электропроводящих материалов, предназначенных для нанесения покрытий в вакууме осаждением конденсата из плазменной фазы, и может быть использовано в машино- и приборостроении, в инструментальном производстве, в электронной технике и других областях народного хозяйства.

Устройство для нагрева и плавления тугоплавкого вещества // 2007778
Изобретение относится к области технологии, связанной с тепловой обработкой, плавлением материалов. .

Устройство для обработки оптических поверхностей изделий // 1380527
Изобретение относится к изготовлению прецизионных поверхностей изделий и позволяет повысить точность обработки изделий. .
 
.
Наверх