Разрядные приборы с устройствами для ввода объектов или материалов, подлежащих воздействию разряда, например с целью их исследования или обработки (H01J37)
H Электричество(232322)
H01J Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы (искровые разрядники H01T; дуговые лампы с расходуемыми электродами H05B; ускорители элементарных частиц H05H)
(10498)
H01J37 Разрядные приборы с устройствами для ввода объектов или материалов, подлежащих воздействию разряда, например с целью их исследования или обработки (H01J33,H01J40,H01J41,H01J47,H01J49 имеют преимущество; исследование или анализ поверхностных структур на атомном уровне с использованием техники сканирующего зонда G01N13/10, например растровая туннельная микроскопия G01N13/12; бесконтактные испытания электронных схем с использованием электронных пучков G01R31/305; детали устройств, использующих метод сканирующего зонда вообще G12B21)(805)
H01J37/02 - Элементы конструкции(9)
H01J37/06 - Источники электронов; электронные пушки(48)
H01J37/063 - Геометрическое устройство электродов для формирования лучей(2)
H01J37/065 - Конструкция электронных пушек или их частей ( H01J37/067-H01J37/077 имеют преимущество)(8)
H01J37/067 - Замена частей электронных пушек; регулировка положения электродов относительно друг друга ( H01J37/073-H01J37/077 имеют преимущество; вакуумные затворы H01J37/18)(3)
H01J37/07 - Устранение вредных эффектов, вызванных действием температуры, электрического или магнитного полей ( H01J37/073-H01J37/077 имеют преимущество)(31)
H01J37/073 - Электронные пушки с использованием источника электронов с автоэлектронной эмиссией, фотоэмиссией или вторичной эмиссией(2)
H01J37/075 - Электронные пушки с использованием термоионной эмиссии с катодов, нагреваемых за счет бомбардировки частицами или облучения, например лазерами(3)
H01J37/077 - Электронные пушки с использованием разряда в газах или парах в качестве источников электронов(24)
H01J37/08 - Источники ионов; ионные пушки(66)
H01J37/09 - Диафрагмы; экраны, связанные с электронно- или ионно-оптическими устройствами; компенсация возмущающих полей(1)
H01J37/10 - Линзы(2)
H01J37/12 - Электростатические(6)
H01J37/14 - Магнитные(22)
H01J37/141 - С электромагнитами(2)
H01J37/147 - Устройства для направления или отклонения разряда вдоль требуемого пути (линзы H01J37/10)(4)
H01J37/15 - Механическая регулировка извне электронно- или ионно-оптических элементов конструкции ( H01J37/067, H01J37/20 имеют преимущество)(3)
H01J37/153 - Электронно-оптические или ионно-оптические устройства для коррекции дефектов изображения, например стигматоры(2)
H01J37/16 - Баллоны; колбы(1)
H01J37/18 - Вакуумные затворы(5)
H01J37/21 - Приспособления для фокусировки(2)
H01J37/24 - Общие схемы, не предназначенные для какого-либо специального применения и не отнесенные к другим рубрикам(14)
H01J37/244 - Детекторы; связанные составные части или схемы для них(7)
H01J37/248 - Составные части, связанные с питанием высоким напряжением (устройства питания высоким напряжением вообще H02J,H02M)(2)
H01J37/252 - Приборы для анализирования пятна с помощью электронных или ионных лучей; микроанализаторы (исследование или анализ с использованием вторичной эмиссии G01N23/22)(3)
H01J37/256 - С использованием сканирующих лучей(3)
H01J37/28 - Со сканирующими лучами (микроанализаторы со сканирующими лучами H01J37/256)(114)
H01J37/285 - Эмиссионные микроскопы, например автоэлектронные микроскопы(39)
H01J37/29 - Зеркальные (отражательные) электронные микроскопы(5)
H01J37/295 - Дифракционные трубки с отклонением ионов или электронов(1)
H01J37/301 - Устройства, дающие возможность лучам проходить между областями с различным давлением(1)
H01J37/302 - Управление приборами с помощью информации, поступающей извне, например программное управление ( H01J37/304 имеет преимущество)(4)
H01J37/304 - Управление приборами с помощью информации, поступающей от объекта, например сигналов коррекции(3)
H01J37/305 - Для литья, расплавления, испарения, гравировки или травления(13)
H01J37/31 - Для резания или сверления(37)
H01J37/315 - Для сварки(6)
H01J37/317 - Для изменения свойств объектов или для нанесения тонких слоев на них, например ионное внедрение ( H01J37/36 имеет преимущество)(30)
H01J37/32 - Газонаполненные разрядные приборы (нагрев за счет разряда H05B)(39)
H01J37/34 - Работающие с катодным распылением ( H01J37/36 имеет преимущество)(22)
Изобретение относится к технике нанесения композитных покрытий путем проведения неравновесных плазмохимических процессов, объединяющих ионное распыление в магнетронном разряде и распыление ионным пучком.
Изобретение относится к области активированного микроволновой плазмой химического осаждения из паровой фазы. Технический результат - повышение площади химического осаждения из паровой фазы.
Газоразрядный источник электронов // 2792635
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к газоразрядным источникам электронов, и может быть использовано в электрореактивных двигателях, в том числе, работающих на химически активных газах, для нейтрализации ионного потока, а также в вакуумно-плазменной технологии обработки поверхности различных материалов и нанесения функциональных покрытий с использованием химически активных газов, а также в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Газоразрядная электронная пушка, управляемая источником ионов с замкнутым дрейфом электронов // 2792344
Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано для создания полностью управляемых газоразрядных электронных пушек, применяемых для плавки, сварки и размерной обработки тугоплавких металлов.
Устройство для электронно-лучевой литографии // 2791181
Изобретение относится к оборудованию для создания устройств микроэлектроники с помощью технологии электронно-лучевой литографии. Устройство для электронно-лучевой литографии (фиг.1) содержит: электронно-оптическую систему 1 с блоком контроля интенсивности электронного луча 2; координатный столик 3 с электроприводом 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5; управляющий компьютер 6; генератор изображений 7; драйвер координатного столика 8; драйвер генератора изображений 9, при этом входы управления параметрами электронного луча электронно-оптической системы 1 подключены к соответствующим выходам генератора изображений 7, вход которого соединён с выходом блока контроля интенсивности электронного луча 2, а порт обмена данными связан по оптоволоконной линии связи через драйвер генератора изображений 9 с управляющим компьютером 6, который другим своим портом обмена данными через драйвер координатного столика 8 соединён с электроприводом координатного столика 4 и блоком контроля текущего положения подвижной платформы 5.
Катодный узел электронной пушки // 2789848
Изобретение относится к элементам конструкции вакуумных электронных приборов с термокатодом, точнее к катодным узлам для мощных (60-1200 кВт) электронных пушек для электротермии. Технический результат - повышение надёжности катодного узла.
Аппарат для плазменной обработки подложек // 2789412
Изобретение относится к способам для обработки подложек и к соответствующему аппарату. В частности, изобретение относится к реакторам для плазменного атомно-слоевого осаждения.
Изобретение относится к устройствам, предназначенным для генерации низкотемпературной сильно-ионизованной плазмы. Технический результат – повышение радиальной однородности плазмы низкого давления для обработки полупроводниковых пластин большого диаметра до 600 мм.
Изобретение относится к машиностроению и может быть использовано при обработке внутренней поверхности протяженных отверстий металлических изделий или труб для повышения их поверхностной твердости, коррозионной стойкости и износостойкости.
Изобретение относится к установке для модификации поверхности полимерных пленок. Техническим результатом является регулирование площади, степени и достижение равномерной модификации без изменения физико-механических и диэлектрических свойств поверхности модифицируемых полимерных пленок.
Изобретение относится к области генерации электронного пучка в источниках электронов с плазменными эмиттерами в условиях ускорения и транспортировки электронного пучка в анодной плазме. Технический результат - повышение стабильности зажигания и горения тока дугового разряда в плазменном эмиттере и снижение влияния ионного потока из ускоряющего промежутка на генерацию эмиссионной плазмы.
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к источникам индуктивно-связанной плазмы. Технический результат – повышение коэффициента полезного действия (КПД) и снижение тепловых потерь газоразрядного устройства.
Газоразрядная электронно-лучевая пушка // 2777038
Изобретение относится к электронике и электротехнике в области термообработки металлов с целью их вакуумного плавления, испарения, наплавления, сварки, резки, для аддитивных технологий. Технический результат - повышение надежности, возможность реализации длительных технологических процессов, расширение функциональных возможностей электронно-лучевой пушки по обеспечению программно управляемых режимов нагрева в соответствии с заданными требованиями.
Изобретение относится к области ускорительной техники. Технический результат - получение технологической дозы 1019 нуклонов за предельно короткое время (около 25 часов) с возможностью получения четырехзарядных ионов железа.
Устройство для модификации кластерным пучком поверхности трубчатого имплантируемого изделия // 2776136
Изобретение относится к области применения кластерных ускорителей для обработки поверхности твердых материалов. Технический результат - получение одного и более имплантируемых изделий трубчатой конструкции с осевой ориентацией, используемых для сердечно-сосудистой хирургии, с модифицированной внутренней и внешней поверхностью за один цикл обработки и сокращение времени обработки.
Устройство магнетронного распыления // 2773044
Изобретение относится к устройству (100) и способу магнетронного распыления. Устройство содержит подложку (20), анод (34) в электрическом поле постоянного тока, мишень (16), которая образует катод (30) в электрическом поле постоянного тока и содержит электропроводящую смесь (36) для нанесения покрытия на подложку (20).
Изобретение относится к области образования заряженных частиц при атмосферном давлении и может быть использовано в научной деятельности, в медицине, в технологических процессах, во вторичной ионной масс-спектрометрии при атмосферном давлении.
Изобретение относится к области генерации электронных пучков большого сечения. Технический результат - повышение эффективности генерации и вывода электронного пучка из вакуума в атмосферу или объем повышенного давления путем использования импульсно-периодического высокочастотного вспомогательного тлеющего разряда.
Изобретение относится к области электронно-лучевой обработки и, в частности, касается автоматической электронной пушки с анастигматическим устройством и способа коррекции астигматизма электронного пучка для электронной пушки.
Трехэлектродная ионно-оптическая система // 2766430
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к ионным системам, и может быть использовано в области ракетно-космической техники при разработке и сборке ионно-оптических систем (ИОС) ионных двигателей, ионных пушек и ионных ускорителей.
Изобретение относится к области плазменной техники. Технический результат - повышение эффективности ионизации текущей среды и безопасности работы реактора.
Магнетронное распылительное устройство // 2761900
Изобретение относится к устройствам ионно-плазменного распыления в скрещенных магнитном и электрических полях и может быть использовано в качестве базового распылительного оборудования. Технический результат изобретения - повышение эффективности использования оборудования в составе системы вакуумного распыления в магнетронах и установках катодного осаждения за счет повышения общего эксплуатационного ресурса мишени, а также упрощение конструкции устройства и повышение надежности при эксплуатации.
Электронная пушка свч прибора // 2761107
Изобретение относится к области электронной техники, в частности к электронным пушкам для СВЧ приборов О-типа с длительным и дискретным взаимодействием. Технический результат - снижение энергопотребления электронной пушки СВЧ прибора, уменьшение времени разогрева катода и повышение надежности прибора в целом.
Изобретение относится к способу электронно-лучевой сварки. Способ включает перемещение электронного луча со скоростью сварки Vсв и осцилляцию электронного луча в виде пилообразных колебаний вдоль стыка свариваемых деталей с формированием сварочной ванны и парогазового канала заданной глубины.
Плазменный эмиттер импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда // 2759425
Устройство относится к области плазменной техники и может быть применено при разработке электронно-лучевых устройств, а также использовано в электроннолучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии.
Изобретение относится к плазменной технике, к разделу способов управления плазмой. Технический результат – обеспечение возможности повышения точности управления потоками плазмы.
Волновой плазменный источник электронов // 2757210
Изобретение относится к космической технике, в частности к катодам-компенсаторам электрических ракетных двигателей (ЭРД) электростатического типа ускорения (Холловского и ионного типа), в частности к безэлектродным плазменным источникам электронов с волновым источником плазмы.
Изобретение относится к электротехнике, в частности к приборам и устройствам для термообработки материалов и изделий в вакууме и может быть использовано в конструкции электронно-лучевой пушки для плавки тугоплавких металлов.
Изобретение относится к области образования заряженных частиц при атмосферном давлении и может быть использовано в научной деятельности, в медицине, в технологических процессах, во вторичной ионной масс-спектрометрии при атмосферном давлении, в которых возможно использование протонных пучков, содержащих до 1012 протонов в секунду.
Источник импульсных электронных пучков // 2754347
Источник импульсного электронного пучка относится к разрядным устройствам и может быть использован для модификации поверхностных свойств материалов. Технический результат - повышение однородности электронного пучка на поверхности мишени.
Изобретение относится к области обработки диэлектрических изделий ускоренными ионами или быстрыми атомами и предназначено для травления канавок с высоким аспектным отношением и получения изделий с повышенными механическими и электрофизическими характеристиками поверхности за счет имплантации в нее легирующих элементов.
Газоразрядное распылительное устройство на основе планарного магнетрона с ионным источником // 2752334
Изобретение относится к газоразрядному распылительному устройству для нанесения композитных покрытий путем проведения неравновесных плазмохимических процессов, объединяющих ионное распыление в магнетронном разряде и распыление ионным пучком.
Источник ионов // 2749668
Изобретение относится к плазменной технике. Технический результат - увеличение ресурса, повышение надежности и упрощении конструкции источника ионов за счет исключения сеточных или перфорированных электродов, при этом обеспечивается независимое регулирование плотности тока и энергии ускоренных ионов.
Изобретение относится к плазменной технике и технологии и может быть использовано для получения электрического разряда в большом объеме. Технический результат - повышение устойчивости электрического разряда между анодом и катодом при сверхкритических параметрах катода.
Изобретение относится к области электротехники, в частности к электрическим газоразрядным приборам, генерирующим поток нетермического водяного пара для дезинфекции рук, поверхностей предметов и воздуха.
Устройство для формирования антикоррозионных слоев на поверхности тепловыделяющих элементов // 2747969
Изобретение относится к устройству для формирования антикоррозионных слоев на поверхности тепловыделяющих элементов (твэлов) посредством термообработки пучком электронов и может быть использовано для формирования антикоррозионных слоев на поверхности цилиндрических изделий большой длины.
Магнетронное распылительное устройство // 2747487
Изобретение относится к магнетронному распылительному устройству обращенного закрытого типа. В вакуумной камере с рабочим газом размещены по меньшей мере один анод, два распыляемых полых катода с расположенными внутри на держателе объектами для напыления, магнитную систему, создающую над поверхностью катодов магнитное поле.
Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103–106 Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов.
Изобретение относится к способам обработки изображений и предназначено для выравнивания изображений слоев, полученных с помощью растрового электронного микроскопа с фокусированным ионным пучком, для последующего построения трехмерной модели образца.
Изобретение относится к способу нанесения покрытия по меньшей мере из одного слоя TiCN на поверхность покрываемой подложки способом HiPIMS. Для осаждения по меньшей мере одного TiCN-слоя используют по меньшей мере одну Ti-содержащую мишень в качестве источника Ti для создания TiCN-слоя, которую распыляют в реакционной атмосфере HiPIMS-способом в камере для нанесения покрытий.
Изобретение относится к компоновочной схеме ионно-плазменного распыления, вакуумной установке для нанесения покрытий и способу для осуществления способов нанесения покрытий магнетронным распылением импульсами большой мощности.
Изобретение относится к области обработки поливных и сточных вод. Технический результат - повышение эффективности и производительности процесса очистки поливных и сточных вод.
Изобретение относится к устройствам передачи радиочастотной мощности. Устройство, выполненное с возможностью резонирования (2), подходящее для передачи РЧ мощности, в частности, используемое для генерации плазмы и выполненное с возможностью электрического подключения ниже по потоку относительно радиочастотного источника (3) питания, работающего на постоянной или переменной частоте, содержащее по меньшей мере один индуктивный элемент (Lр), который может быть запитан, при использовании, от такого по меньшей мере одного источника (3) питания; по меньшей мере один емкостный элемент (Cр), электрически соединенный с выводами такого по меньшей мере одного индуктивного элемента (Lр); причем такое по меньшей мере одно устройство (2) имеет резонансную круговую частоту, равную:.Емкостный элемент (Cр) и индуктивный элемент (Lр) имеют такие значения, чтобы в состоянии резонанса они обеспечивали эквивалентный импеданс, измеренный на выводах такого устройства (2), по существу резистивного типа и намного больше, чем значение паразитного импеданса выше по потоку относительно таких выводов такого устройства (2), поэтому при использовании эффект такого паразитного импеданса является по существу незначительным.
Настоящее изобретение относится к барьерным пленкам, включающим барьерное PECVD-покрытие из алмазоподобного углерода, и к способу изготовления таких пленок, и, кроме того, к многослойным упаковочным материалам, включающим такие пленки, в частности, предназначенным для упаковки жидких пищевых продуктов.
Плазменный полый катод-компенсатор // 2732889
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к плазменным полым катодам-компенсаторам, работающим на газообразных рабочих телах. Плазменный полый катод-компенсатор содержит корпус 1, поджигной электрод 2, эмиссионный узел 3 с трубкой подвода газа 4 и размещенный между корпусом 1 и поджигным электродом 2 соосно им керамический колпачок 5, который своей боковой поверхностью 6 сопряжен с поджигным электродом посредством резьбы 7, а с корпусом при помощи клеевого соединения, заполняющего ряд сквозных отверстий 8 в корпусе 1 и канавки 9 на наружной боковой поверхности 6 керамического колпачка, резьба на поджигном электроде выполнена по меньшей мере на двух участках 7а и 7б, между которыми выполнены упругие юбки 10 и 11, расположенные относительно друг друга по схеме «ласточкин хвост», торцевая поверхность сопряжения 12 керамического колпачка выполнена под углом, близким углу наклона сопрягаемой с ним юбки, между корпусом и поджигным электродом соосно им дополнительно размещено поджимающее керамическое кольцо 13, торцевая поверхность сопряжения 14 которого выполнена под углом, близким углу наклона сопрягаемой с ним другой юбки, причем внутренняя поверхность поджимающего керамического кольца сопряжена с корпусом посредством резьбы 15, а наружная поверхность сопряжена с поджигным электродом посредством клеевого соединения.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла.
Изобретение относится к машиностроению, в частности к устройствам для обработки поверхности изделий быстрыми атомами с целью получения изделий с повышенными механическими и электрофизическими характеристиками поверхности за счет имплантации в нее легирующих элементов и формирования в ней субмикрокристаллической структуры.
Изобретение относится к области формирования интенсивных пучков ионов с высокой яркостью путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.
Изобретение относится к области формирования непрерывных сильноточных пучков ионов путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.
Изобретение относится к устройству (10) для непрерывной обработки полотняной основы (15a) в плазмостимулируемом процессе. Устройство (10) содержит по меньшей мере одну секцию (12a, 12b) обработки с вакуумной рабочей камерой, причем упомянутой по меньшей мере одной секции (12a, 12b) обработки выделен по меньшей мере один блок (13a, 13b) плазменной обработки, который предназначен для формирования зоны (14a, 14b) плазмы в рабочей камере для обработки поверхности полотняной основы (15a).
