Способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВКДЕТЕЛЬСТВУ с оюз Саеетскии

Сециалистическик

Республик (

Н 01 21/66

Государственный комитет

СССР но лелам изобретений и открытий (23) Приоритет

Опубликовано 280283. Бюллетень )»)9 8 (53) УДК 621 ° 382 (088. 8) Дата опубликования описания 28.02.83

В. И. Поляков, П. И. Перов и В. А. Пет ррв :;:, -.--,. j .- .. -.:-/

Ордена Трудового Красного Знамени институт радиотехники и электроники AH СССР (72) Авторы изобретения (71) Заявитель (54) СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ЭФФЕКТИВНОЙ КОНЦЕНТРАЦИИ ПРИМЕСЕЙ

В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МАТЕРИАЛАХ ГЕТЕРОПЕРЕХОДОВ

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля гетероструктур.

Известен способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах, основанный на измерении зависимости высокочастотной емкости диода Шоттки от напряжения смещения 11.

Недостатком этого способа является его непригодность для определения эффективной концентрации примесей в материалах гетероперехода.

Наиболее близким к предлагаемому является способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов, основанный на измерении зависимости высокочастотной емкости гете-, роперехода от напряжения смещения (2).

Недостатком этого способа является его непригодйость для определения эффективной концентрации примесей колько в одном иэ материалов, составляющих асимметричный гетерюпереход.

Цель изобретения — расширение области применения способа.

Поставленная цель достигается тем, что, согласно способу определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гете ро переходов, ос нов анном. на и змере.нии зависимости высокочастотной емкости гетероперехода от напряжения смещения, дополнительно измеряют зависимость фото-ЭДС насыщения при об-лучении гетероперехода излучением, энергия квантов Е{Л) котррого удовлетворяет условию Е()() Ъ Е ЪЕ». ъ1 где Е, Е, — ширина запрещенной зоны материалов, образующих гетеропереход, повторно измеряют зависимость фотоЭДС насыщения от напряжения смещения при облучении гетероперехода излучением, энергия квантов которого лежит в пределах Е тЕ(Л) б й, а эффективную концентрацию примесей в полупроводниковых материалах гетероперехода определяют расчетным путем по измерительным значениям высокочастотной емкости и фото-ЭДС насыщения.

На чертеже изображена энергетическая зонная диаграмма реального изотипного гетероперехода.

На диаграмме обозначены величины и потенциалов (изгибов зон )

1001237 на границе, напряжение.. g== V< +y2 смещения, падейие напряжения Ч,„ и на каждом из полупроводников, ширина E + и E+ запрещенных зон полупроводников, энергетический разрыв Ь Е з оны проводимости, э нергети.ческий разрыв ДЕЧ валентной зоны; квазиуровни Ер и Е ферми, уро1 вень Е ферми в полупроводниковых материалах гетероперехода до приложения напряжения смещения 10

I д„2 EC.I2-ЕF1 l (1) Определение эффективной концентрации .примесей (N ) в полупроводниковых 15 материалах гетероперехода производит- ся следующим образом.

На гетеропереход подается напряжение смещения Ч и он освещается импульсопе света, энергия квантов ко-

TOPOI O Е ()I ) > Eg1 ) Eg2. В Этом СЛУ» чае фото-ЭДС насыщенйя равна (-1/ф)х

x(<„- Ч2) . Затем гетеропереход освеща"ется импульсом света с Е ) E(A))E<

1 %1

В этом случае фото-ЭДС насыщения (-Ч2 /a) . Из проведенных двух измерений находятся значения Ч1. и и при данном напряжении смещения измеряЮТ С < . Затем ттзмерения емкости и потенцйалов на границе раздела гетероперехода повторяются при изменении напряжения смещения на величину

ЙЧ-ДЧ +AV . (2)

При roM,Iêàê видно из зонной диагр BMME4 g

Вт -бЧ g, аЧ =дЧ q, (Ç), I так как д „, d< d Eс, ЛЕч не меняются при изменении найряжения смещения.

Высокочастотную емкость гетероперехода можно записать в виде

4О с„с2 свц= С (4) C<+ С2 где С1 и С2 — емкость ОПЗ каждого иэ полупроводников, по определению равные аа аа2

I

Q1 O2 — величина заряда на включениях последовательно емкостях С4, С2. Но при последовательном сОединении емкостей а =Ц,,3я„=ж .(Ь)

Следовательно, из (3-6) получаем

1 2 AV2 (a) Таким образом, зная иэ эксперимен та свч ° AYq H A v2 Рас HTHBBlor 65

С и С по формулам (4 ) и (7) и эффективную кОнцентрацию примесей в полупроводниковых материалах гетероперехода по формуле для Шоттки диодов

1.2. 1 2

2С (в о 5

Последовательно изменяя напряжение смещения и измеряя изменения высокочастотной емкости В Свч, а также ай, АМ2 и используя .формулы (4-7), можно расчитать 8С1 и Ь С2, а следовательно, и профиль легирования полупроводников гетероперехода.

Способ был использован для определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых матерна тттах гетероперехода nGdS -йСйзе. При изменении напряжения смещения на ве пичину 0,05 В, . de 0,036 эВ,,бра

0,014 эВ. Подставляя измерение значения в формулы (4, 7 и 8 ) находим

16 -3

N 10 см и N

С85 Cdse

По сравнению с известным способом определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов, основанном на измерении зависимости высокочастотной емкости гетерЬперехода от напряжения сметцения, предлагаемый способ позволяет определять эффективную концентрацию примесей в ттолупроводниковых материалах реального гетероперехода независимо DT ее величины в каждом из полупроводников.

Формула изобретения

Способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов, основанный на измерении зависимости высокочастотной емкости гетероперехода от напряжения смещения, о т личающийся тем,что,c целью расширения области применения способа, дополнительно измеряют зависимость Itloro-ЭДС насыщения при облучении гетероперехода излучением, энергия квантов Е(л) Koroporo ypoIIлетворяет условию Е(Л))Е, „) Е, где:Е,, Š— ширина з апрещенной эоны материалов, образующих гетеропереход, повторно измеряют зависимость фото-ЭДС насыщения от напряжения смещения IlpH облучении гетероперехода излучением, энергия квантов, которого лежит в пределах Й ) Е:(A )-) Е 2, а эффективную .концентрацию примесей в по« лупроводниковых материалах гетероперехода определяют расчетным путем

1001?37

Frt

Составитель Л. Смирнов

Редактор A. Власенко Техред О. Неце Корректор A. Ференц

Заказ 1411/63 Тирвк 701 Подписное

ВНИИПИ Гасударственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

113035, Москва, З-35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП "Патент", r . Уагород, ул . Проектная, 4 по измеренным значениям высокочастотной емкости и фото-ЭДС насыщения

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

1. Блад П., Ормон Дк. В. Методы измерения электрических свойств полупроводников. - "Зарубежная радиоэлектроника", 1981,. 9 1, 3, с. 25.

2. Шарма Б.Л., Пурохит P.Ê. Полупроводниковые гетеропереходы. "Советское радио", M., 1979, с. 97-98

S прототип ).

Способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов Способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов Способ определения эффективной концентрации примесей в полупроводниковых материалах гетеропереходов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх