Стекло для покрытия металла
СТЕКЛО ДЛЯ -ПОКРЫТИЯ МЕТАЛЛА , включающее Р BaO, SrO, Sn02 о т л и ч a щ е е с я тем, что, с целью обеспечения КЛТР
СОЮЗ СОВЕТСКИХ
tNIWI
PEG %ËÈÍ
С 03 С 3/16
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
Н ILBTOPCKOMV СВИДЕТЕ7ВСТВМ
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР
ПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЬ1ТИЙ (2l ) 3353814/29-33 (22) 22.09.8l (46) 30.03,83. Бюл. У 12 (72) В. 3. Петрова, И. О. Стернюк;
О. В. Бобицкая, Г, М. Сачко, IO.В.ldeaченко и lO. Я. Яковлев (71) Львовский государственный институт прикладного и декоративного искусства (53) 666. 112 . 92: 546. 15(088.8) (56) 1. Авторское свидетельство СССР
М 480661 кл. С 03 С 7/00, 1973.
2, Авторское свидетельство СССР
М 627093, кл. С 03 С 7/00, 1977 (прототип) °
„„Я0„„1008175 А (54) (57) СТЕКЛО ДЛЯ ПОКРЫТИЯ МЕТАЛЛА, включающее Р20, ВаО, Sr0, Srt0, о т л и ч а Е щ е е с я тем, что, с целью обеспечения КЛТР (87,19-103 00)»
40 град и повышения химической стойкости, оно дополнительно содержит 2по, La20 А1203 при следу щем соотношении компонентов, мас. :
Pg О 58-60
ВаО 9-15
Sr0 7-10
Ьп02 0,5-1,5
Zn0 5-.10
203 6-10
А120 05-1 5
1008175
Изобретение относится к составам стекол, применяемых для получения изолирующих покрытий по металлам, используемых в различных областях промышленности (электронной, радиотех-$ нической и др.) .
Известна эмаль, включающая, мас,Й
Р2ОУ 45-70; Li 021-5; Na20 1-5;К>0
0,1-5; А1 0 0>1-5; РвО 10-30; SiOg, 0,1-5; ВаО 0,1-7; Li Г 1-10 и NaF 1"
10 Г1 Ъ
Данная эмаль имеет KJlTP при 20250 С (120-150) ° 10 "град ",äèëàêòîэлектрическая температура размягчения 250-280 С.
Наиболее близкой по технической сущности и достигаемому результату к предлагаемой является. эмаль, включающая, мас,4 Р О 40-60; РвО 415; Ма О 2-5; К20 1-4; Li20 0,3-2; 16
S i 0 2 0, 5-7, по крайней мере один окисел из группы ВаО, SrO 10-30;
znclgo>5-5; su0g 5-20 P? J. с
Компоненты
Sr0
10
10
Zn0
10
20Э
ВаО
13
0>5
1
1 5
0,5
1 5
А1 0
Sn02 вводят посредством соответству.ющего окисла.
Отжиг образцов осуществляют в электрической печи (муфельной) в течение
18 ч при 350-400оo.
Свойства стекал приведены в табл.2.
Т а б л и ц а 2
Стекло синтезируют из химических реактивов х.ч. и ч.д.а. Р Ос вводят посредством однозамещенного фосфорнокислого аммония, оксид стронция стронция азотнокислого, оксид бария45 углекислого бария, Zn0, А1203> La20>>
0,18
0,210 0,223 0,20 д ) клтР (2o-4oo) с -10 град-"
99>37 87>19 103,00 92,35
Химическая устойчивость к воде (потери веса, мг/г> после
3 ч кипячения в все
Недостатком известного стекла яв- ляется высокий КПТР в пределах. 20400 С (124-146)10 >град " Кроме того, стекло имеет невысокую химическую устойчивость к воде 0,4-6,4 вес.4.
Цель изобретения - обеспечение
КПТР (87,19-103,00) 10 град "и повышение химической стойкости.
Поставленная цель достигается тем, что стекло для покрытия металла, включающее Р20, ВаО, Sr0, Sn02, дополнительно содержит Zno La О
2 Э
А120 при следующем соотношении компонентов> мас. :
Р205 58-60
ВаО 9-15
S r0 7-10
ЬыОд 0,5-1>5
Zn О 5-10
1.а, 03
6-10
А1203 0,5-1,5
Конкретные составы стекол приведены в табл. 1.
Таблица
Состав мас
2 Д 1 м
59 60 60
1008175
Продолжение табл. 2
Свойства
Состав
l 2 3
АилайтЬметрическая температура размягчения,оc 544
539 521.Плотность, г/см 3.39
3,20 3,17 3 19
Редактор П.ФилЬ
Техред I.Êàñòåëåâè÷ КорректоР И. Шулла
Заказ 2259/31 . Тираж 484 Подписное
ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий
113035,. Иосква Х-35, Раушская наб., д. 4/5
Филиал ППП "Патент", r. Ужгород, ул. Проектная, 4
Стекло характеризуется ill гидроли-. .тическим классом, высокой химической устбйчивостью к воздействию реагентов, применяемых в фотолитографическом процессе (например, к действию HF Н О С г О Н О4 НЙО . l
< НЗР04 КЛТР(87,19-103,00):10 т граФГЯ
;хорошей адгезией к металлу, что определяет его наиболее выгодным для покрытий по металлу, в частности, для получения качественного изолирующего покрытия по титану.
