Способ нанесения тонких пленок (его варианты)

 

1. Способ нанесения тонких пленок, включающий вакуумирование рабочего объема и формирование пучка атомов осаждаемого материала, отличающийся тем, что, с целью повышения чистоты пленок, пучок облучают монохроматическим световым потоком, резонансно-поглощаемым атомами осаждаемого материала или атомами примеси, причем, если длина волны светового потока соответствует резонансному поглощению атомами осаждаемого материала, световой поток направляют навстречу пучку атомов и облучение проводят в режиме, обеспечивающем соотношение E_u≥E_a≥E_э, где E_a - энергия атомов осаждаемого материала в резонансно-возбужденном состоянии; E_u - минимальная энергия испарения осаждаемых атомов с подложки; E_э - пороговая энергия эпитаксии, если же длина волны светового потока соответствует резонансному поглощению атомами примеси, световой поток направляют по движению пучка и облучение проводят в режиме, обеспечивающем соотношение E_п≥E_u, где E_п - энергия атомов примеси в резонансно-возбужденном состоянии.

2. Способ нанесения тонких пленок, включающий вакуумирование рабочего объема и формирование пучка молекул осаждаемого материала, отличающийся тем, что, с целью повышения чистоты пленок, пучок молекул направляют на охлаждаемую отражающую поверхность и облучают его монохроматическим излучением, резонансно-возбуждающим молекулы пучка, при этом для формирования пленки используют пучок отраженных молекул.