Установка для нанесения покрытий в вакууме

 

368349

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 04Л.1970 (Ж 1392461/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 26.1 1973. Бюллетень № 9

М. Кл. С 23с 13J08

Котвитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14.002.51 (088.8) Дата опубликования описания 2ЛУ.1973

Авторы изобретения И. М. Чистополов, А. А. Акберов, И. М. Мусаев, P. Х. Сайфуллин, И. С. Смышляев и Н. Х, Фахрутдииов

Заявитель

УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области вакуумных покрытий.

Известна установка для нанесения покрытий в вакууме, содержащая откачную систему, вакуумную камеру, механизм вращения подложек, испаритель и иа|куумный ввод.

Однако в такой установке измерение температуры нагрева вращающихся подложек производится через вращающийся коллектор и блок щеток, находящихся в вакуумной камере, что уменьшает точность измерения температуры и увеличивает газовыделения в вакуумной камере.

Цель изобретения — повышение точности измерения температуры нагрева вращающихся подложек и уменьшение газовыделения в вакуумной камере. Это достигается тем, что вакуумный ввод выполнен в виде вращающегося полого вала, в полости которого проходят термопары, соединенные одним концом с подложками, а другим — с герметичным штепсельным разъемом, за крепленным на валу.

На фиг. 1 .изображена схематично установка; на фиг. 2 — вал вакуумного ввода.

Установка для нанесения покрытий в вакууме состоит из камеры 1, внутри которой расположены испаритель 2 и вакуумный ввод

8, механизма вращения 4. Ввод 8 выполнен в виде вращающегося вала, в полости которого проходят термопары 5, соединенные одним концом с подложками б, а другим— с герметичным штепсельным разъемом 7, закрепленном на валу. На фланце левой крышк и 8 имеется испаритель 2, который в рабочем положении находится внутри анода 9, на котором крепятся напыляемые подложки б.

Вращение на валу вакуумного ввода пере10 дается ременной передачей от электродвигателя 1О, закрепленного,на тележке 11.

Вал вакуумного ввода 8 (фиг. 2) расположен внутри корпуса 12 и установлен в подшипниках 18. Герметизация вала ввода 8

15 обеспечивается двумя магнитам и 14, находящимися в корпусе 15, причем полость между магнитами 14 может откачиваться форвакуумным насосом через штуцер lб.

На правом конце ввода 8 установлен rep20 метичный штепсельный разъем, причем розетка 17 закреплена в корпусе коллектора 18, кольца которого электрически изолированы друг от друга прокладками 19. К .кольцам коллектора припаяны проводники термопар 5, 25 проходящие через герметичный штепсельный разъем 7 к вращающимся подложкам б.

Предмет изобретения

Установка для нанесения покрытий в ва30 кууме, содержащая откачную систему, каме368349 к бакууинои гигтеме

9иу 1 ру, внутри которой расположены испаритель и вакуумный ввод, механизм вращения подложек, отличающаяся тем, что, с целью повышения точности измерения температуры

:нагрева вращающихся подложек и уменьше.ния источников газовыделения в вакуумной камере, вакуумный ввод выполнен в виде вращающегося полого вала, в полости которого проходят термопары, соединенные одним концом с подложками, а другим — с герметичным штепсельным разъемо м, закрепленном на валу.

368349

Составитель Б. Либерман

Редактор В. Фельдман Техред Т. Ускова Корректоры. А. Николаева и E. Давыдкина

Заказ 656/13 Изд. № 158 Тираж 826 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, )К-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Установка для нанесения покрытий в вакууме Установка для нанесения покрытий в вакууме Установка для нанесения покрытий в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к использованию электрического разряда для нагрева и химико-термической обработки изделий в электромагнитном поле индуктора

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий, в частности к устройству для контроля толщины покрытий в процессе нанесении их в вакууме, и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении для контроля толщины покрытий при нанесении их в вакууме

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытий и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий

Изобретение относится к устройствам для напыления пористых покрытий на ленту и может быть использовано при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий

Изобретение относится к способу осаждения вещества на подложку, импульсному источнику питания для магнетронного реактора и магнетронному реактору
Наверх