Состав для ретуширования фотошаблонов

 

Изобретение относится к фотографии, в частности к составу для ретуширования фотошаблонов. С целью повышения выхода годных фотошаблонов состав имеет следующее соотношение компонентов мас.ч.: краситель - эриохром черный Т, или эриохром синий SE, или эриохром оранжевый 14-33, растворитель - диметилсульфоксид 67-86. Данный состав обеспечивает хорошее качество фотошаблонов, т.к. получаемая ретушь устойчива к воздействию растворителей (водный раствор мыла, спирт), применяемых для отмывки фотошаблонов после нескольких актов контактной печати на фоторезистивные слои заготовок изделия. Годность фотошаблонов, изготовленных с использованием данного состава составляет в среднем 90%, а после пятой отмывки - в среднем 80%. 1 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

РЕСГ1УБЛИН (51) 5 G 03 С 11/04

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

fl9 ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

11РИ ГННТ СССР (21) 4438407/23-04 (22) 08,06 88 (46) 23.04.90. Бюл. 0 - 15 (71) Ярославское научно-производственное объединение "Электронприбор" (72) В.В.Смирнов, С.В.Мельников и Л,Ф.Краева (53) 77 1 .5 (088 .8) (56) Краткий справочник фотолюбителя. / Под ред, Н,Д,Панфилова и

А.А. Фомина . — M. Искусс тво, 1 985, с. 329. (54) СОСТАВ ДЛЯ РЕТУШИ1,ОВАНИЯ

ФОТОШАБЛОНОВ (57) Изобретение относится к фотографии, в частности к составу для ретуширования фотошаблонов. С целью

Изобретение относится к микроэлектронике и радиоэлектронике, к составам для ретуширования эмульсионных штриховых фотошаблонов, применяемых при изготовлении гибридных интегральных схем с размерами элементов 100 мкм и более и печатных плат.

Целью изобретения является повышение выхода годных фотошаблонов, Пример 1. В 0,8 мл диметилсульфоксида (уд.в . 1, 0946) растворяют 0,25 г эриохрома черного Т.

Получают состав, мас .ч.: эриохром черный Т 33; диметилсульфоксид 67.

Ретуширование производят на пластинки фотографические для фотошаб,SU„ I4 A 1

2 повышения выхода годных фотошаблонов состав имеет следующее соотношение компонентов, мас.ч.: краситель эриохром черный Т или эриохром синий

SE или эриохром оранжевый 14-33, растворитель диметилсульфокс ид 6786. Данный состав обеспечивает хорошее качество фотошаблонов, т.к . получаемая ретушь устойчива к воздействию растворителей (водный раствор мыла, спирта), применяемых для отмывки фотошаблонов после нескольких актов контактной печати на фоторезистивные слои заготовок изделия, Годность фотошаблонов, изготовленных с использованием данного состава, составляет в среднем 90_#_ а после пятой отмывки — в среднем 807..

1 табл. лонов интегральных схем ВР-П (ТУ

6-17-927-83) с помощью микроскопа

МБС-9 при температуре состава 20—

25 С. Фотопластинку с нанесенной ретушью выдерживают на воздухе 1020 мин, отмывают з деионизованной воде и сушат в термошкафу при С = о

50 С в течение 5-10 мин, Пример 2. В 1,6 мл диметилсульфоксида (уд.в. 1. 0946) растворяют 0,4 г эриохрома чернего Т.

Получают состав, мас.ч., "эриохром черный Т 20; диметилсульфоксид 80.

Далее, как в примере 1.

Пример 3. В 2,7 мл диметилсульфокснда (уд.в. 1, 0946) раство»

1559324

Устойчивость ретуши к воздействию растворителей (спирт, водный раствор мыла), применяемых для отмывки фотошаблонов, проверяли после пяти (1-я отмывка), десяти (2-я отмывка), и двадцати пяти актов контактной печати (5-я отмывка), Срок службы фотошаблона 30 ак тов .

10 Отмывки проводят после каждых 5 актов, Результаты проверки представлены в таблице.

Количество отмывк и образцов, шт, первой второй пятой

100

10

10

100

80

10

100

80

70

Из представленных в таблице данных следует, что предлагаемый состав обеспечивает хорошее качество. фотошаблонов, так как получаемая ретушь устойчива к воздействию растворителей (водный раствор мыпа, спирт), применяемых для отмывки фотошаблонов после нескольких актов контактной печати на фоторезистивные слои заготовок изделия. После второй отмывки все фотошаблоны, изготовленные 50 с использованием известного состава, приходят в негодность, годность же фотошаблонов, изготовленных с использованием предлагаемого соста" ва, в среднем составляет 90Х а посряют 0,5 r эриохрома черного Т.

Получают состав, мас.ч.: эриохром черный T 14; диметилсульфоксид 86.

Далее, как в примере 1.

Быпо подготовлено еще 6 составов, 3 из которых отличались от приведенных ранее „лишь использованием в качестве красителя эриохрома синего

SE а 3 — использованием эриохрома оранжев огб.

Пример Состав смеси, мас.ч.

Эриохром черный Т 33

Диметилсульфоксид 67

Эриохром черный Т 20

Диметилсульфоксид 80

Эриохром черный Т 14

Диметилсульфоксид 86

Эриохром синий SE 33

Диметилсульфоксид 67

Эриохром синий SE 20

Диметилсульфоксид 80

Эриохром синий SE 14

Диметилсульфоксид 86

Эриохром оранжевый 33

Диметилсульфоксид 67

Эриохром оранжевый 20

Диметилсульфоксид 80

Эриохром оранжевый 14

Диметилсульфоксид 86

Прототип

Годность образцов, X,íîñëå

100 100

100 90

100 80

100 100

100 90

100 80

100 100

100 90

100 80

10 10 ле пятой отмывки (последней) — в среднем 803, Формула изo6 ретения

Состав для ре туширов а ния фо тошаблонов, включающий краситель и растворитель, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных фотошлаблонов, состав в качестве красителя содержит эриохром черный Т или эриохром синий SE или эриохром оранжевый, а в качестве растворителя - диметилсульфоксид при следующем соотношении компонентов, мас.ч,:

Краситель 14-33

Диметилсульфоксид 67-86

Состав для ретуширования фотошаблонов Состав для ретуширования фотошаблонов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к фотографии, в частности к составу для ретуширования фотошаблонов, применяемых при изготовлении гибридных интегральных схем с размерами элементов 50 мкм и более, и для печатных плат

Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет повысить качество восстановленных фотошаблонов, Облучсчют дефектное место фотошаблона сфокусированным лазерным излучением со стороны маскирующего слоя и со стороны основания а Осаждают продукт фоторазложения со стороны основания фотошаблона до уменьшения мощности лазерного излучения на 70- 85%, а со стороны маскирующего слоя - до получения оптически плотного слоя Показателем качества ремонта дефектов является интегральная оптическая плотность дефектного места после осаждения , определяемая фотометрированием

Изобретение относится к микроэлектронике и радиоэлектронике и позволяет повысить точность ретуширования фоторезистивных слоев

Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов для микросборок, устройств функциональной электроники и печатных плат
Наверх