Способ выращивания кристаллов окиси магния

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Респуйлик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 12@, 17/06

Заявлено 18.Х.1965 (№ 1032784/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 09.VJ.1967. Бюллетень № 13

МПК В 01!

УДК 669-172.002.2(088.8) комитет по делам иаооретеиий и открытий лри Совете тлииистров

СССР

Дата опубликования описания 18Х11.1967

Авторы изобретения

С. Г. Тресвятский, В. Я. Карпенко и В. Л. ольдштейн

Институт проблем материаловедения АН УССР

Заявитель

СПОСОБ ВЬ!РАЩИВАНИЯ КРИСТАЛЛОВ ОКИСИ МАГНИЯ

Известен способ выращивания кристаллов окиси магния направленной кристаллизацией блока расплава в дуговых печах трехфазного тока, заключающийся в том, что из расплава одновременно поднимают электроды со скоростьь ю 0,1 — 1 ми(и ин.

Предлагаемый способ отличается от известных тем, что в качестве исходного сырья используют магнезию, содержащую не менее

90 вес. % активной окиси магния, в котор ю в процессе гидратации вводят не менее

6 мол. % избыточной воды. При расплавлении шихты наплавляют блок расплава объемом пе менее 0,2 л1-", с отношением высоты к диаметру от 1:2 до 1:1 и перегревают расплав на

20 — 100=С выше температуры плавления окиси магния.

Проведение процесса выращивания кристаллов при указанных условиях дает возможность получать друзы оптически прозрачных металлов 50 лтл длиной и 25 — 30 млт диаметром в количестве 25 — 30 вес. % закристаллизованного блока, Кристаллы могут использоваться в полупроводниковой технике, и в радиоэлектронике и расчетной технике. П рп увеличении масштаба плавки могут быть получены кристаллы больших размеров.

Предмет изобретения

Способ выращивания кристаллов окиси магния в дуговых печах трехфазного тока путем расплавления исходной гидратированной

10 х агпезии с последующей направленной кристаллизацией блока расплава со скоростью перемещения фронта кристаллизации 0,1 — 1 лтл (мин, отличающийся тем, что, с целью получения оптически прозрачных кристаллов уве15 личенных размеров, направленной кристаллизации подвергают перегретый на 20 —:100 С выше температуры плавления блок расплава объемом не менее 0,2 лтз с отношением высоты к диаметру от 1:2 до 1:1, причем в исход20 ную магнезию, содержащую не менее 90 вес.% активной окиси магния, в процессе гидратации вводят не менее б мол. % избыточной воды.

Способ выращивания кристаллов окиси магния 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к получению сложных полупроводниковых соединений типа A3B5 и A4B6

Изобретение относится к металлургии, преимущественно к технологии получения литых монокристаллических заготовок из сплавов, содержащих Fe-Co-Ni-Al-Cu-Ti (ЮНДКТ)

Изобретение относится к выращиванию синтетических монокристаллов и промышленно применимо при изготовлении ювелирных изделий, а также высокопрочных оптических деталей (небольших окон, линз, призм и т.п.)

Изобретение относится к получению монокристаллических тиоиндатов щелочных металлов структуры АIBIIICVI 2, в частности монокристаллов соединения LiInS2, используемого в лазерной технике в качестве преобразователя излучения

Изобретение относится к области выращивания монокристаллов замораживанием при температурном градиенте на затравочный кристалл без использования растворителей и промышленно применимо для выращивания высококачественных монокристаллов большого диаметра, в том числе в условиях невесомости

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов замораживанием при температурном градиенте на затравочный кристалл без использования растворителей и промышленно применимо для выращивания высококачественных монокристаллов большого диаметра, в том числе в условиях невесомости

Изобретение относится к кристаллам тройных халькогенидов, предназначенных к применению в квантовой электронике и оптоэлектронике
Наверх