Эпитаксиальная феррит-гранатовая структура

 

Использование: при разработке и изготовлении малогабаритных планарных СВЧ приборов на поверхностных магнитостатических волнах (ПМСВ). Сущность изобретения: эпитаксиальная феррит-гранатовая структура (ЭФГС), содержащая подложку из гадолиний-галлиевого граната (ГГГ) ориентации (100), включает пленку на основе железо-иттриевого граната (ЖИГ) с содержанием Ga, L a и/или Se и разориентирована от плоскости (100) к плоскости (110) на угол 0 - 15o. Предлагаемая структура обеспечивает термостабильность частот возбуждения ПМСВ в интервале от -70 до +85oС. 2 ил.

Изобретение относится к монокристаллическим материалам, в частности к эпитаксиальным феррит-гранатовым структурам (ЭФГС) на основе железо-иттриевого граната (ЖИГ), и может быть использовано при разработке и изготовлении малогабаритных планарных сверхвысокочастотных (СВЧ) приборов на поверхностных магнитостатических волнах (ПМСВ).

Для создания планарных СВЧ-приборов на ПМСВ используются ЭФГС, включающие эпитаксиальный слой на основе ЖИГ, осажденный на подложку из гадолиний-галлиевого граната. Одним из основных требований к приборам на ПМСВ является стабильность частоты возбуждения ПМСВ при изменении температуры окружающей среды. Температурная нестабильность частоты возбуждения ПМСВ обусловлена в основном температурной зависимостью намагниченности насыщения эпитаксиальной пленки ЖИГ. В этой ситуации представляет интерес изыскание путей термостабилизации частот возбужденря на уровне достаточном для практического изменения (f= 510-5oC-1) в максимально широком интервале температур.

Наиболее близкой к изобретению по технической сущности является эпитаксиальная феррит-гранатовая структура (ЭФГС), содержащая эпитаксиальную пленку железистого граната с добавками ионов Cо, и/или РЗМ, полученная методом жидкофазной эпитаксии из расплава системы PbO B2O3 на монокристаллической подложке из немагнитного граната, имеющей ориентацию плоскости100} Пленки данного типа обладают повышенным значением угла Фарадеевского вращения и анизотропией типа "легкая плоскость", что позволяет использовать их для конструирования магнитооптических вентилей волноводного типа. Недостатком данной структуры является повышенное значение ширины линии ФМР, вследствие чего она не может быть использована в устройствах обработки информации СВЧ-диапазона на магнитостатических волнах.

Цель изобретения расширение температурного интервала температурной стабильности частот возбуждения ПМСВ.

Цель достигается тем, что эпитаксиальная феррит-гранатовая структура, содержащая подложку из ГГГ ориентации (100) и эпитаксиально осажденную на нее пленку на основе железо-иттриевого граната отличается тем, что последнюю берут с содержанием Ga, La и/или Sc, а структура разориентирована от плоскости (100) к плоскости (110) на угол 0-15о. Концентрации легирующих добавок Sc и La Х 0-0,5 ат/форм.ед. Gа у 0-1,6 ат/форм.ед. что обеспечивает низкие потери при распространении ПМСВ в диапазоне частот 1-10 ГГц.

Температурная зависимость частоты возбуждения ПМСВ в данной структуре имеет вид прямой с температурным коэффициентом f не более 510-5оС-1 в широком интервале температур (-70)-(+185)оС. Эффект обусловлен тем, что для выбранной ориентации эпитаксиального слоя изменение частоты ПМСВ от температуры, вызванное нестабильностью намагниченности насыщения пленки компенсируется эквивалентным и противоположным изменением частоты вследствие температурной зависимости размагничивающих факторов кристаллографической анизотропии. Ориентационная зависимость значений размагничивающих факторов приводит к тому, что при угле разориентации более 15о увеличивается наклон линейной зависимости f(Т), и f становится больше, чем 510-5оС-1.

Авторам не известно использование структур ЖИГ ориентации (100) с разориентацией 0-15о в других технических решениях.

На фиг.1 изображены температурные зависимости частоты возбуждения ПМСВ в пленках ЖИГ, выращенных на подложках ГГГ: поз.1 образец 1, ориентация (100), разориентация 0о; поз.2 образец 2, ориентация (100), разориентация 5,2о; поз.3 образец 3, ориентация (100), разориентация 15о; поз.4 образец 4, ориентация (100), разориентация 16о.

На фиг.2 изображены температурные зависимости частоты возбуждения ПМСВ в пленках легированного ЖИГ, выращенных на подложках ГГГ: поз.1 образец 5, ориентация (100), разориентация 0о; 4гМ 585 Гс поз.2 образец 6, ориентация (100), разориентация 5,2о; 4гМ 446 Гс поз.3 образец 7, ориентация (100), разориентация 15о;
4гМ 360 Гс
поз.4 образец 8, ориентация (100), разориентация 16о;
4гМ 550 Гс
поз.5 образец 9, ориентация (110), разориентация 26,5о
4гМ 400 Гс
П р и м е р 1. Методом жидкофазной эпитаксии из раствора-расплава на основе PbO были выращены эпитаксиальные пленки ЖИГ на подложках ГГГ ориентации (100) с различной разориентацией плоскости (100) к плоскости (110), ; образец 1, толщина пленки d 19,5 мкм, 2 H 0,6 Э; 0о; образец 2, d 15 мкм, 2 Н 0,5 Э; 5,2о; образец 3, d 21,2 мкм; 2 Н 0,7 Э; =15о; образец 4, d 17,9 мкм, 2 Н 0,6 Э, 16о.

Образцы 1, 2 и 3 имели (f )= 0, 1,510-5 и 4,510-5оС-1соответственно в интервале температур -80 -+60С; образец 4 имел температурный коэффициент (f )= 5,510-5оС-1.

П р и м е р 2. Методом жидкофазной эпитаксии из раствора-расплава на основе PbO были выращены эпитаксиальные пленки легированного ЖИГ с пониженной намагниченностью насыщения на подложках ГГГ ориентации (100) с различной разориентацией образец 5, d 18,2 мкм, 2 Н 0,7 Э, 4гМ 585 Гс, = 0о;
образец 6, d 10,7 мкм, 2 Н 0,8 Э, 4гМ= 446 Гс, 5,2о;
образец 7, d 11,8 мкм, 2 Н 0,8 Э, 4гМ= 360 Гс, 15о;
образец 8, d 21 мкм, 2 Н 0,7 Э, 4гМ= 550 Гс, = 16о;
образец 9, d 30 мкм, 2 Н 0,35 Э, 4гМ= 400 Гс, 26,5о(соответствует плоскости (210)).

Образцы 5, 6 и 7 имели (f)5 10-5 в интервале температур от -60 до +20оС, образцы 8 и 9 имели (f) 8,510-5оС-1. Таким образом, в пленках выращенных на подложках ориентации (100) с разориентацией = 0-15о, температурный коэффициент (f) не превышает 510-5оС-1 в широком интервале температур. Увеличение (f) при 15о связано с увеличением наклона зависимости температурной частоты возбуждения ПMСВ.

Предлагаемая структура позволяет обеспечить термостабильность частоты ПМСВ на уровне (f ) 510-5оС-1 в широком интервале температур.


Формула изобретения

Эпитаксиальная феррит-гранатовая структура, содержащая подложку из гадолиний-галлиевого граната ориентации (100) и эпитаксиально осажденную на нее пленку на основе железо-иттриевого граната, отличающаяся тем, что последнюю берут с содержанием Ca, La и/или Se, а структура разориентирована от плоскости (100) к плоскости (110) на угол 0 15o.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии тонкопленочных материалов и может быть использовано для получения сверхпроводящих, каталитических материалов, в магнитооптике, лазерной технике, интегральной оптике, СВЧ-технике
Изобретение относится к выращиванию монокристаллов и промышленно применимо при производстве монокристаллических пленок феррит-гранатов, предназначенных для использования в различных магнитооптических устройствах и запоминающих устройствах на цилиндрических магнитных доменах

Изобретение относится к получению монокристаллов для лазерной техники
Изобретение относится к области выращивания монокристаллов и промышленно применимо при изготовлении ювелирных изделий

Изобретение относится к области искусственных монокристаллов и может быть использовано в ювелирной промышленности при изготовлении вставок в ювелирные изделия, иммитирующих изумруд, аквамарин, сапфир, аметист

Изобретение относится к области искусственных монокристаллов и может быть использовано в ювелирной промышленности при изготовлении вставок в ювелирные украшения, имитирующих изумруд, аквамарин, сапфир, аметист

Изобретение относится к полупроводниковой технологии и может найти применение в промышленности при изготовлении ряда дискретных полупроводниковых приборов (например, тензодатчиков, полевых транзисторов, переключателей, датчиков малых перемещений и других приборов)

Изобретение относится к технологии получения полупроводниковых соединений А В и может быть использовано при производстве электролюминесцентных структур

Изобретение относится к технологии материалов твердотельной электроники и может быть использовано при изготовлении оптоэлектронных устройств

Изобретение относится к технологии получения гранатовых слоев и может быть использовано в производстве магнитных приборов микроэлектроники

Изобретение относится к технологии полупроводниковых материалов и может быть использовано для получения кремниевых структур, применяемых для изготовления дискретных приборов и интегральных схем
Наверх