Способ получения кристаллического сцинтиллятора на основе самоактивированного редкоземельного галогенида


Y10T117/1096 -
Y10T117/1096 -
Y10T117/1064 -
Y10T117/1064 -
Y10T117/1016 -
Y10T117/1016 -

Владельцы патента RU 2762083:

Федеральное государственное бюджетное учреждение "Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт" (RU)

Изобретение относится к технологии выращивания сцинтилляционных монокристаллов на основе бромида церия с общей формулой CeBr3 со 100 %-ным содержанием сцинтиллирующего иона Се3+ методом горизонтальной направленной кристаллизации (ГНК) и может быть использовано при изготовлении элементов детекторов и спектрометров, чувствительных к гамма-, рентгеновскому излучению и другим видам ионизирующего излучения. Способ получения кристаллического сцинтиллятора на основе самоактивированного редкоземельного галогенида CeBr3 включает плавление исходной шихты и выращивание кристаллов в кварцевых ампулах или в графитовой лодочке в установке для ГНК путем их перемещения через зону нагрева, при этом ампулы с установленными кристаллическими затравками CeBr3 внутри откачанного перчаточного бокса загружают безводными кристалликами исходного материала чистотой 99,99 %, подогревают до температуры более 100°C в течение 2 ч, откачивают до 10-3 мм рт.ст. и запаивают кислородно-пропановой горелкой, далее ампулы устанавливают в ростовую установку, после создания в установке вакуума до 10-3 мм рт.ст. нагревают до расплавления шихты, выдерживают в ростовой установке в течение 2-4 ч до установления в расплаве равновесного состояния, выращивают монокристалл путем создания в ампуле градиентного температурного участка при горизонтальном протягивании из зоны нагрева в зону охлаждения со скоростью 5 мм/ч, после чего для отжига выращенного кристалла ампулу медленно охлаждают до комнатной температуры, а при выращивании в графитовой лодочке исходный материал с затравкой CeBr3 устанавливают в ростовую установку, которую затем вакуумируют до 10-3 мм рт.ст., сушат при температуре 200°C в течение 24 ч, после чего напускают инертный газ Ar и Br в смеси с добавлением бромирующего агента тетрабромметана CBr4 и дегидрирующего агента бромида кадмия CdBr2 до избыточного давления 1,06 атм, расплавляют шихту при температуре 732°C, поднимают температуру на 50°C и осуществляют процесс выращивания кристаллов по методу горизонтальной направленной кристаллизации со скоростью горизонтальной протяжки лодочки 5 мм/ч, после завершения процесса кристаллизации выращенный кристалл отжигают при медленном снижении температуры ~ 10-15°/ч. Техническим результатом является получение материалов стехиометрического состава CeBr3 с чистотой 99,99 % в виде монокристаллических образцов либо поликристаллов. 2 ил., 3 пр.

 

Область техники

Изобретение относится к области техники, связанной с выращиванием из расплавов методом горизонтально направленной кристаллизации (ГНК), сцинтилляционных монокристаллов на основе бромида церия с общей формулой CeBr3 со 100% содержанием сцинтиллирующего иона Се3+ и может быть использована при изготовлении элементов детекторов и спектрометров, чувствительных к гамма-, рентгеновскому и другим видам ионизирующего излучения.

Уровень техники

Известны и широко используются кристаллы-сцинтилляторы типа иодида натрия с примесью таллия NaI(Tl), обнаруженные в 1948 г. Robert Holstadter. Такие материалы характеризуются высоким световым выходом порядка 38000-40000 фотонов/МэВ, являются основой современных сцинтилляторов и до сих пор остаются преобладающими в этой области техники. Такие материалы, как NaI(Tl), имеют среднее энергетическое разрешение (~ 7% на линии 662 кэВ 137Cs), но имеют большую постоянную времени высвечивания, равную приблизительно 230 нс. CsI(Tl) также имеет большую постоянную времени высвечивания, превышающую 500 нс. Сцинтилляционные материалы типа NaI(Tl) характеризуются высокой гигроскопичностью, что является их существенным недостатком. По причинам, изложенным выше, разработка новых сцинтилляционных материалов с улучшенными характеристиками в настоящее время продолжает оставаться предметом многочисленных исследований.

Среди появившихся в последние годы новых сцинтилляционных материалов можно особо выделить кристалл LaBr3:Се3+ и CeBr3, соответственно имеющие очень хорошее энергетическое разрешение (2,9 и 3,8%% на линии 662 кэВ), короткие времена затухания (26 и 16 нс), высокие световые выходы (63 и 60 фотона/кэВγ) и высокие плотности (5,29 и 5,06 г/см3). Отличительная особенность кристаллов CeBr3 заключается в сверхнизком собственном фоновом излучении 0,004 Бк/см3, что является их значительным преимуществом по сравнению с кристаллами на основе лантана, имеющих наличие собственного γ-излучения из цепочки распада 138La.

Известно изобретение для получения сцинтилляционных монокристаллов общей формулы М(1-x)CexBr3 (Патент США № 7067816 В2. МПК G01K 11/85 (2006.01). Сцинтилляционные кристаллы, способы их изготовления и их применение. Опубликовано 27.06.2006), где М - элемент, выбранный из группы La, Gd, Y, или их смесь, х - мольная доля замещения М церием. Согласно этому изобретению сцинтилляционный монокристалл получают из смеси порошков MBr3 и CeBr3 методом кристаллизации Бриджмена в вакуумированной запаянной кварцевой ампуле в виде соединений LaBr3, либо GdBr3, либо YBr3 легированных ионами Се3+. В данном патенте в указанных соединениях ионы церия играют роль примеси, легирующей основную кристаллическую матрицу в виде кристаллов MBr3 (М=La, Gd, Y).

Известно изобретение для получения сцинтилляционных монокристаллов общей формулы Ln(1-y)CeyX3:M (Патент США № 7692153 В2. МПК G01T 1/202 (2006.01). Сцинтилляционный кристалл и детектор излучения. Опубликовано 06.04.2010), где Ln - один или более элементов, выбранных из группы редкоземельных элементов, X - один или более элементов, выбранный из галогенов, М - легирующая добавка к материалу матрицы кристалла, выбранная из группы элементов Li, Na, К Rb, Cs, Al, Zn, Ga, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Ge, Ti, V, Cu, Nb, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Mo, Ru, Rh, Pb, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Та, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, TiBi, где у - число, удовлетворяющее условиям неравенства 0,0001≤у≤1. Сцинтилляционный монокристалл на основе бромида лантана с примесью ионов церия и многочисленными легирующими добавками М, согласно этому изобретению получают методом Бриджмена в запаянной ампуле. Исходную шихту, представляющую собой смесь коммерчески доступных соединений LaBr3 и CeBr3 в виде примеси и легирующей добавки, нагревают до расплавления, а затем охлаждают для кристаллизации. В качестве легирующей добавки используют вещество, содержащее такие элементы как Na, Fe, Cr или Ni, предпочтительно NaBr, FeBr2, CrBr2 и NiBr2. Ростовая печь, которую применяют для осуществления способа, выполнена с возможностью вертикального перемещения в ней тигля (ампулы с шихтой) для выращивания по методу Бриджмена. В данном патенте в указанных соединениях ионы церия играют роль примеси, легирующей основную кристаллическую матрицу в виде кристаллов LaBr3 с добавкой прочих многочисленных атомов металлов р- и d-элементов.

Известен неорганический сцинтилляционный материал, кристаллический сцинтиллятор и детектор излучения (Патент РФ № 2426694), представляющий собой смесь бромидов металлов сцинтилляционного материала типа галогенида с общей формулой Ln(1-m-n)HfnCemA(3+n), где А - либо Br, либо Cl, либо I, либо смесь, по меньшей мере, двух галогенов из этой группы, Ln - элемент из группы: La, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Lu, Y; m - мольная доля замещения Ln церием, n - мольная доля замещения Ln гафнием, m и n - числа больше 0, но меньше 1, сумма (m+n) меньше 1. Для решения задачи уменьшения гигроскопичности получаемых кристаллов предлагается получение методом Бриджмена сцинтилляционных монокристаллов на основе бромида лантана: La0,95Ce 0,05Br3. La0,948Hf 0,002Ce0,05Br3,002 La0,986Hf0,004Ce 0,01Br3,004, La0,935Hf0,015Ce0,05Br3,015, имеющих общую формулу La(1-m-n)HfnCemBr(3+n), где m - мольная доля замещения лантана церием, число из интервала 0,0005≤m≤0,3, предпочтительно из интервала 0,03≤m≤0,05,n - мольная доля замещения лантана гафнием, число из интервала 0≤n≤0,015, предпочтительно 0≤n≤0,01. В данном патенте в указанных соединениях ионы церия играют роль примеси, легирующей основную кристаллическую матрицу в виде кристаллов LaBr3 с добавкой атомов гафния и прочих многочисленных металлов f-элементов.

Известен способ обработки хлорида или бромида, или йодида редкоземельного металла в углеродсодержащем тигле но изобретение (Патент РФ № 2324021), объектом описания которого, в частности, является применение тигля, сделанного из графита или аморфного углерода, и в частности графитового тигля, покрытого пиролитическим покрытием, для роста кристаллов, которые содержат галогенид редкоземельного элемента, в частности галогенид, - формула которого является: AeLnfX(3f+е), в которой Ln означает один или несколько редкоземельных элементов, X означает один или несколько атомов галогена, выбранных из Cl, Br и I, и А означает один или несколько щелочных металлов, выбранных из К, Li, Na, Rb и Cs, е и f имеют значения, такие что: е, который может быть нулем, меньше или равен 2f, - f больше или равен 1. В данном патенте, сцинтиллятором является матрица на основе хлоридов, бромидов и йодидов, с примесью атомов щелочных металлов и любых редкоземельных элементов.

Все вышеупомянутые изобретения относятся к сцинтилляторам на основе кристаллов LaBr3 с примесью ионов церия и добавками других различных химических элементов. Отличительная особенность кристаллов CeBr3, в которых атомы церия входят в качестве образующих кристаллическую матрицу, а не в качестве ионов сцинтиллирующей примеси, заключается в низком собственном фоновом излучении 0,004 Бк/см3, что является их значительным преимуществом при создании гамма-детекторов по сравнению с кристаллами на основе LaBr3, имеющих наличие собственного у- излучения из цепочки распада 138La.

Наиболее близким аналогом к заявляемому изобретению является устройство для осуществления способа получения кристаллических галоидных сцинтилляторов, включающий плавление исходной шихты в контейнере и выращивание кристаллов в установке для горизонтальной направленной кристаллизации путем перемещения контейнера через зону нагрева (патент на изобретение RU № 2643980).

Технической проблемой, на решение которой направлено заявляемое изобретение является совершенствование технологии выращивания сцинтилляционных монокристаллов на основе бромида церия из расплавов методом горизонтально направленной кристаллизации (ГНК).

Раскрытие сущности изобретения

Техническим результатом предлагаемого изобретения является получение материалов стехиометрического состава CeBr3 с чистотой 99,99 % в виде монокристаллических образцов, либо поликристаллов.

Для достижения технического результата предложен способ получения кристаллического сцинтиллятора на основе самоактивированного редкоземельного галогенида, включающий плавление исходной шихты в контейнере и выращивание кристаллов в установке для горизонтальной направленной кристаллизации путем перемещения контейнера через зону нагрева, при этом, выращивание монокристаллов CeBr3 осуществляют в кварцевых ампулах или в графитовой лодочке, при этом, ампулы с установленными кристаллическими затравками CeBr3 внутри откаченного перчаточного бокса загружают безводными кристалликами исходного материала чистотой 99,99 %, подогревают до температуры более 100°С в течение 2 ч, откачивают до 10-3 мм рт.ст. и запаивают кислородно-пропановой горелкой, далее ампулы устанавливают в ростовую установку, после создания в установке вакуума до 10-3 мм рт.ст. нагревают до расплавления шихты, выдерживают в ростовой установке в течение 2-4 ч до установления в расплаве равновесного состояния, выращивают монокристалл путем создания в ампуле градиентного температурного участка при горизонтальном протягивании из зоны нагрева в зону охлаждения со скоростью 5 мм/ч, после чего для отжига выращенного кристалла ампулу медленно охлаждают до комнатной температуры, а при выращивании в графитовой лодочке, исходный материал с затравкой CeBr3 устанавливают в ростовую установку, которую затем вакуумируют до 10-3 мм рт.ст., сушат при температуре 200°С в течение 24 часов, после чего напускают инертный газ Ar и Br в смеси с добавлением бромирующего агента тетрабромметана CBr4 и дегидрирующего агента бромида кадмия CeBr2, до избыточного давления 1,06 атм, расплавляют шихту при температуре 732°С, поднимают температуру на 50°С и осуществляют процесс выращивания кристаллов по методу горизонтальной направленной кристаллизации со скоростью горизонтальной протяжки лодочки 5 мм/ч, после завершения процесса кристаллизации выращенный кристалл отжигают при медленном снижении температуры ~ 10-15°/ч.

Технический результат достигается тем, что в данном изобретении впервые используется метод ГНК для выращивания подобного класса материалов.

Кроме того, разработаны методики получения чистых исходных материалов, ингибирования образования оксигалогенидов, улучшения стехиометрии выращиваемого кристалла по содержанию брома, уменьшения остаточных напряжений и трещин в кристаллах.

Кроме того, найдены и предложены к использованию новые дополнительно к кварцу материалы тиглей на основе специальных марок графитов, не вступающих в контакт с расплавом и поверхностью растущего галогенида редкоземельного металла.

Кроме того, найдены и предложены к использованию новые дополнительно к кварцу материалы тиглей на основе специальных марок графитов, не вступающих в контакт с расплавом и поверхностью растущего галогенида редкоземельного металла.

Кроме того, созданы технологические циклы подготовки исходных материалов для получения чувствительных к влаге и кислороду сцинтилляционных монокристаллов CeBr3.

Краткое описание чертежей

На Фиг. 1 изображена зависимость степени диссоциации галогенов от температуры при давлении 1 атм.

На Фиг. 2 изображен спектр люминесценции кристалла CeBr3 при комнатной температуре.

Осуществление изобретения

Известна особенность редкоземельных бромидов образовывать оксибромиды при воздействии кислорода и влаги при повышенной температуре. Бромид церия имеет гексагональную кристаллическую решетку с ярко выраженной спайностью. По этой причине связи между кристаллическими плоскостями весьма слабы. Наличие слабых связей в матрице материала позволяет молекулам воды эффективно проникать в состав исходной шихты и структуру растущего кристалла и соответственно ухудшать его оптические и сцинтилляционные свойства.

Таким образом в заявленном изобретении для достижения оптимальных сцинтилляционных характеристик (короткое время высвечивания, низкое значение энергетического разрешения, высокий световой выход, снижение гигроскопичности) предлагается использовать при приготовлении исходных материалов для выращивания CeBr3 добавок к шихте - бромида кадмия CdBr2 в качестве дегидрирующего агента и тетрабромметана CBr4 к составу газовой среды выращивания кристалла в качестве бромирующего агента, который поддерживает стехиометрический состав растущего кристалла CeBr3.

Добавка бромида кадмия к шихте связывает имеющуюся в ней влагу, в соответствии с химическими реакциями, протекающей в две стадии:

CdBr2+НОН=CdOHBr+HBr, или

Ионное уравнение: Cd2++НОН=CdOH++

CdOHBr+НОН=Cd(OH)2+HBr, или

Ионное уравнение: CdOH++НОН=Cd(OH)2+

Cd(ОН)2пл.=130°C; Ткип.=3000°С) и газообразный HBr легко удаляются из кристаллизационной камеры ростовой установки в условиях вакуума и соответствующего подъема температуры. Таким образом, при внедрении ионов Cd2+ из шихты в расплав, происходит блокирование доступа молекул воды в матрицу растущего кристалла CeBr3.

При нагревании, молекулы галогенов распадаются на атомы. Малые энергии связи в молекулах галогенов обусловливают их малую прочность, и соответственно подверженность молекул к термической диссоциации.

На фиг. 1 показаны кривые температурной зависимости степени диссоциации молекул галогенов при давлении 1 атм. и отдельно для F2 в вакууме при давлении 1 торр. [Л.Н. Сидоров. Молекулярный и атомарный фтор. Химия. МГУ им. М.В. Ломоносова. Соросовский образовательный журнал т. 6, № 8, с. 61-68, 2000 г.].

Как следует из представленных зависимостях на фиг. 1, величина степени термодиссоциации сильно зависит от давления. При выращивании кристаллов в результате термодиссоциации молекулы CeBr3 из расплава будет происходить испарение ионов брома, в соответствии с ионным уравнением:

CeBr3→Се3++3Br-,

что приведет к нарушению стехиометрии состава выращиваемого соединения. Для компенсации дефицита брома предложено использовать кристаллический тетрабромметан CBr4, в качестве бромирующего агента, имеющего низкую температуру плавления 90,1°С. В результате термодиссоциации кристаллов CBr4:

CBr4→С4++4Br-

в кристаллизационной камере ростовой установки создавалась необходимая газовая атмосфера из инертного газа с добавлением брома.

Низкие температуры плавления 732°С позволили выращивать кристаллы CeBr3, как в графитовых контейнерах, имеющих форму лодочек, так и герметичных кварцевых ампулах с использованием метода горизонтальной направленной кристаллизации (ГНК).

Предварительный синтез исходного материала для выращивания осуществляется из шихты CeBr3 чистотой 99,99 % путем ее перекристаллизации в газовой атмосфере инертного газа Ar с добавлением Br. Процесс синтеза заключается в плавлении и выдержке в бромирующей среде реактива при температурах, превышающих температуру его плавления, в течение 6-7 часов. Для этого исходные компоненты шихты в графитовом тигле помещаются в ростовую камеру, в которой создается вакуум до остаточного давления 10-3 мм рт. ст. После чего камера заполняется инертным газом Ar. Для бромирования атмосферы роста и дегидрирования используется тетрабромметан CBr4пл.=90,1°С) и бромид кадмия CdBr2пл.=568°С).

Тетрабромметан помещается в камеру роста в графитовом контейнере в зону установки, в которой температура не превышает 50°С при температуре в камере нагрева ~ 200°С. Соединение CdBr2 помещается вместе с шихтой в тигель в количестве ~ 1 мас. %. Реакция дегидрирования расплава осуществляется по вышеуказанной двухступенчатой схеме. Образовавшаяся гидроокись кадмия Се(ОН)2 при температурах >250°С в вакууме полностью возгоняется. При нагреве CBr4 до температуры выше 100°С в атмосфере Ar происходит пиролиз этого соединения, в результате чего в кристаллизационной камере создается бромирующая атмосфера. В результате описанной методики синтеза получаются исходные материалы с чистотой 99,99 % в виде монокристаллических образцов, либо поликристаллов, состоящие из кристалликов с характерным размером в несколько миллиметров стехиометрического состава CeBr3.

После проведения синтеза полученный исходный материал загружается в тигель и помещается в ростовую камеру. Все операции с чистым исходным материалом по загрузке в тигли производились в перчаточном боксе в атмосфере аргона. Выбор ориентации затравок определяется в соответствии с существующими значительными различиями в коэффициентах расширения вдоль различных осей кристаллов CeBr3 и тенденцией этих галогенидов легко раскалываться вдоль плоскостей скола, параллельных оси С. Наиболее оптимальная ориентация для роста - это затравка вдоль оси С. Это сведет к минимуму расширение по длине кристалла и при этом, плоскости скола будут ориентироваться параллельно оси роста. Это способствует снижению склонности к растрескиванию, когда в конце охлаждения происходит продольное сжатие кристалла.

Выращивание монокристаллов CeBr3 описанное в данном изобретении может осуществляться как в кварцевых ампулах, так и в графитовой лодочке.

При выращивании в кварцевой ампуле необходимо ее очистить ацетоном и метанолом, промыть деионизированной водой. Ампулы с установленными кристаллическими затравками CeBr3 внутри откаченного перчаточного бокса загружаются безводными кристалликами исходного материала чистотой 99,99 %, подогреваются до >100°С в течение 2 часов, откачиваются до 10-3 мм рт.ст. и запаиваются кислородно-пропановой горелкой. Далее ампула устанавливается в ростовую установку, после создания в установке вакуума до 10 ~ 3 мм рт.ст., нагревают до расплавления шихты, выдерживают в ростовой установке в течение 2-4 часов до установления в расплаве равновесного состояния, выращивают монокристалл путем создания в ампуле градиентного температурного участка при горизонтальном протягивании из зоны нагрева в зону охлаждения со скоростью 5 мм/ч, после чего для отжига выращенного кристалла ампулу медленно охлаждают по соответствующей схеме до комнатной температуры.

При выращивании в графитовой лодочке, исходный материал с затравкой устанавливают в ростовую установку, которую затем вакуумируют до 10-3 мм рт.ст., исходный материал сушат при температуре 200°С в течение 24 часов, после чего напускают инертный газ в смеси с бромирующим газообразным агентом до избыточного давления 1,06 атм, расплавляют шихту при температуре 732°С, поднимают температуру на 50°С и осуществляют процесс выращивания кристаллов по методу ГНК со скоростью горизонтальной протяжки лодочки 5 мм/ч. После завершения процесса кристаллизации выращенный кристалл отжигают при медленном снижении температуры ~ 10-15°/ч.

Фиг. 2 демонстрирует спектр люминесценции кристалла CeBr3, снятый на дифракционном спектрометре СДЛ-1. В качестве материалов лодочек используются тигли из немецкого изостатического графита марки Ringsdorff R6650 Р5 (термически обработанный при температуре >2600°С, имеющий пористость менее 3 %, плотность >2 г/см3, чистоту 5 ррт), и стеклоуглерода марки СУ-2000 («Донкарб Графит») с плотностью 1,46-1,51 г/см3 и пористостью 1-2 %.

Примеры:

Пример 1. Методом ГНК выращен монокристалл CeBr3 в кварцевой ампуле, откаченной до 10-3 мм рт.ст. Кристалл прозрачный, имелись трещины. При экспонировании в течение 2-х часов в атмосфере с влажностью ~ 50 % поверхность кристалла мутнеет с адгезией к поверхности контейнера.

Пример 2. Методом ГНК выращен монокристалл CeBr3 в тигле из стеклоуглерода. Кристалл прозрачный с небольшими приповерхностными вкраплениями графита от контакта с материалом контейнера (лодочки), без трещин. При экспонировании в течение 3-х часов в атмосфере с влажностью ~ 50 % поверхность кристалла начинает слегка мутнеть, адгезия к стенкам тигля отсутствует.

Пример 3. Методом ГНК выращен монокристалл CeBr3 в тигле из малопористого высокоплотного графита марки Ringsdorff R6650 Р5. Кристалл прозрачный, без посторонних включений и без трещин. При экспонировании в течение 3-х часов в атмосфере с влажностью ~ 50 % поверхность кристалла визуально не изменилась, адгезия к стенкам тигля отсутствует.

Примечание: В Примерах 2 и 3 в тигель с исходным материалом для дегидрирования добавляли CeBr2 и выращивание проходило в смешанной газовой атмосфере Аг+Br2.

Таким образом, по сравнению с кристаллами на основе галогенидов лантана, обладающих собственным γ-излучением из цепочки распада l38La, кристаллы CeBr3 обладают сверхнизким собственным фоновым излучением 0,004 Бк/см3, что является их значительным преимуществом при создании гамма-детекторов.

Преимуществами являются:

- использование в качестве контейнера запаянной кварцевой ампулы с исходным веществом или изготовление контейнера из малопористого изостатического графита или стеклоуглерода;

- выращивание монокристалла путем горизонтальной протяжки контейнера с расплавленной шихтой при 790°С в низкотемпературную зону ростовой установки в условиях создаваемого в контейнере градиентного температурного участка;

- использование добавок бромида кадмия в качестве дегидрирующего агента и тетрабромметана в качестве бромирующего агента, обеспечивающих получение качественных кристаллов бромида церия.

Способ получения кристаллического сцинтиллятора на основе самоактивированного редкоземельного галогенида, включающий плавление исходной шихты в контейнере и выращивание кристаллов в установке для горизонтальной направленной кристаллизации путем перемещения контейнера через зону нагрева, отличающийся тем, что выращивание монокристаллов CeBr3 осуществляют в кварцевых ампулах или в графитовой лодочке, при этом ампулы с установленными кристаллическими затравками CeBr3 внутри откачанного перчаточного бокса загружают безводными кристалликами исходного материала чистотой 99,99 %, подогревают до температуры более 100°C в течение 2 ч, откачивают до 10-3 мм рт.ст. и запаивают кислородно-пропановой горелкой, далее ампулы устанавливают в ростовую установку, после создания в установке вакуума до 10-3 мм рт.ст. нагревают до расплавления шихты, выдерживают в ростовой установке в течение 2-4 ч до установления в расплаве равновесного состояния, выращивают монокристалл путем создания в ампуле градиентного температурного участка при горизонтальном протягивании из зоны нагрева в зону охлаждения со скоростью 5 мм/ч, после чего для отжига выращенного кристалла ампулу медленно охлаждают до комнатной температуры, а при выращивании в графитовой лодочке исходный материал с затравкой CeBr3 устанавливают в ростовую установку, которую затем вакуумируют до 10-3 мм рт.ст., сушат при температуре 200°C в течение 24 ч, после чего напускают инертный газ Ar и Br в смеси с добавлением бромирующего агента тетрабромметана CBr4 и дегидрирующего агента бромида кадмия CdBr2, до избыточного давления 1,06 атм, расплавляют шихту при температуре 732°C, поднимают температуру на 50°C и осуществляют процесс выращивания кристаллов по методу горизонтальной направленной кристаллизации со скоростью горизонтальной протяжки лодочки 5 мм/ч, после завершения процесса кристаллизации выращенный кристалл отжигают при медленном снижении температуры ~ 10-15°/ч.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к области исследования космической радиации, а именно к детекторам частиц и гамма-излучения, устанавливаемых на космических аппаратах. Техническим результатом является обеспечение возможности размещения устройства для регистрации рентгеновского излучения, гамма-излучения и заряженных частиц (т.е.

Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано при изготовлении сцинтилляторов для обнаружения излучения в системах компьютерной томографии (КТ), позитронно-эмиссионной томографии (ПЭТ), однофотонной эмиссионной компьютерной томографии (ОФЭМТ). Сначала формируют порошок пламенно-аэрозольным пиролизом жидких предшественников; синтезом в процессе горения; обработкой для получения частиц с размером менее 500 мкм, например, размалыванием; осаждением частиц из жидких растворов путем изменения рН или синтезом на основе золегелевой технологии.

Изобретение относится к области реакторных измерений и может быть использовано в системах контроля и управления ядерных реакторов. Размещают первый источник ионизирующего излучения на заданном расстоянии от детектора и определяют показания калибруемого счетного канала.

Изобретение относится к области радиационного контроля и обеспечения радиационной безопасности объектов использования атомной энергии и может применяться для обнаружения области протечки радионуклидов и оценки ее величины при эксплуатации водо-водяных ядерных реакторов. Техническим результатом изобретения является обеспечение возможности обнаружения области протечки радиоактивного азота в парогенераторах ядерных реакторов КЛТ-40.

Группа изобретений относится к системам визуализации. Система визуализации излучения включает в себя устройство генерирования излучения, выполненное с возможностью генерировать излучение по направлению к объекту, устройство детектирования излучения, выполненное с возможностью детектировать, в виде сигнала изображения, излучение, падающее на него, камеру, выполненную с возможностью записывать видеоизображение, относящееся к обстоятельствам, при которых осуществляется визуализация излучения с использованием излучения в кабинете для визуализации, и устройство управления камерой, выполненное с возможностью управлять камерой.

Изобретение относится к рентгенотехнике и может быть использовано в медицинских рентгеновских установках и томографах с высоким пространственным разрешением, чувствительностью и скоростью сканирования. Технический результат – повышение чувствительности до предельно возможной, устранение паразитного фона рассеянного рентгеновского излучения, повышение разрешающей способности и площади регистрации, увеличение динамического диапазона, повышение ресурса и долговечности работы устройства, снижение дозовой нагрузки на пациента.

Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано при изготовлении устройств для систем безопасности или обнаружения ультрафиолетового и/или рентгеновского излучения, например датчиков, индикаторов или детекторов. Материал характеризуется следующей формулой (I): в которой М' - комбинация по меньшей мере двух моноатомных катионов разных щелочных металлов, выбранных из Li, Na, K и Rb, содержащая 0-98 мол.

Изобретение относится к измерению ядерных излучений. Способ измерения интенсивности радиационного излучения неизвестного состава, при котором радиационное излучение пропускают через как минимум два детектора и систему обработки, при этом детектирование производится во время облучения, при этом сами детекторы имеют чувствительные элементы разного объема; затем, при помощи системы обработки, включающей в себя микроконтроллер, по соотношению скоростей счета в разных детекторах определяют суммарную интенсивность радиационного излучения и соотношение вкладов заряженных и нейтральных компонент в измеряемом радиационном излучении.

Изобретение относится к области техники детектирования ионизирующего излучения. В детекторе массив единичных сцинтилляционных ячеек с лунками для сбора света выполнен в виде монолитного блока.

Изобретение относится к электронным устройствам для считывания данных с датчиков ионизирующих излучений. Устройство для определения координаты ионизирующей частицы в М-канальном полупроводниковом датчике ионизирующего излучения на основе регулярных структур p-n переходов представляет собой набор керамических конденсаторов определенной емкости Cd, соединяющих последовательно несколько каналов полупроводникового многоканального датчика.

Изобретение относится к способам формирования структурированного рентгеновского экрана, с помощью которого изображение, переданное в рентгеновских или гамма-лучах, становится контрастным в оптическом диапазоне спектра, и предназначенного для регистрации рентгеновского или гамма-излучения. Технический результат - повышение однородности свечения по площади структурированного экрана.
Наверх