Способ очистки вакуумных камер от коиденсата
И Е 346405
ИЯ
Союз Советских
Социалистических
Республик
К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ
Зависимое от авт. свидетельства №
Заявлено 13Х11.1970 (№ 466857/22-1) с присоединением заявки ¹
Приоритет
Опубликовано 28Х11.1972. Бюллетень № 23
Дата опубликования описания 15Л 11!.)972
М. Кл, С 23с 13/08
1(омитвт по делам изобретений и открытий при Совете Мииистров
СССР
УДK 621.793 14:621.793. . 14.002.52 (088.8) Автор изобретения
С. П. Олеськив
Заявитель
СПОСОБ ОЧИСТКИ ВАКУУМНЫХ КАМЕР ОТ КОНДЕНСАТА
Р=4лЯ рД, Изобретение относится к области нанесения покрытий и получения топких пленок в вакууме, в частности к способам очистки внутренней поверхности вакуумных камер от конденсата, наличие которого на стенках камеры ухудшает ее технологические параметры.
Известен способ очистки вакуумных камер от конденсата путем обработки поверхности растворителями. Однако известный способ требует применения химически активных по отпошеншо к конденсату растворителей, использование которых приводит к коррози > обрабатываемых поверхностей.
Предложенный способ позволяет упростить процесс очистки и использовать в качестве растворителя воду. Он отличается от извссгного тем, что на внутреннюю поверхность камеры предварительно наносят слой вещества, растворимого в воде, например слой минерального вещества, путем термического испарения в вакууме при разрежении не ниже 10- тор, с последующей очисткой камеры от конденсата водой.
Способ состоит в том, что на виутренню1о поверхность камеры предварительно наносят слой вещества, растворимого в воде, например, минерального, путем термического испарения в вакууме при разрежении не ниже
10-4 тор и очистку камеры от конденсата осуществляют обработкой поверхности, покрытой конденсатом, водой.
При осуществлении способа очищенную внутреннюю поверхность вакуумной камеры
5 при разрежении не ниже 10- тор запыляют минеральной пленкой термически испаряемого, например, галита пли другого вещества, которое равномерно конденсируется на внутренних стенках и деталях вакуумной камеры.
10 Количество испаряемого вещества рассчитывают в зависимости от объема камеры по форм ле где P — навеска испаряемого вещества;
R — расстояние от внутренней поверхности камеры до испарителя; р — плотность испаряе»oro вещества; тт — толщина конденсируемого слоя.
После запыления внутренней поверхности камеры в ней можно испарять металлические, диэлектрические и другие материалы, которые будут конденсироваться наряду с объектами
25 напыления таки е на внутренних поверхностях вакуумной камеры, защищенных минеральной пленкой. Очистку камеры от слоя конденсата осуществляют с помощью струи воды небольшого давления, которая растворяет минераль30 ную пленку — подложку.
346405
Предмет изобретения
Составитель Е. Кубасова
Техред 3. Тараненко
Редактор Л. Струве Корректор Е. Исакова
Заказ 2537/8 Изд. № 1085 Тираж 406 Подписное
ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР
Москва, К-35, Раушская наб., д. 4/5
Типография, пр. Сапунова, 2
1. Способ очистки вакуумных камер от конденсата путем обработки поверхности растворителем, отличающийся тем, что, с целью упрощения процесса и предотвращения запыления поверхности, на внутреннюю поверхность камеры, предварительно наносят слой вещества, растворимого в воде, с последующей очисткой камеры от конденсата водой.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, чго наносят слой минерального вещества, растворимого в воде.
3. Способ по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что слой вещества, растворимого в воде, наносят путем термического испарения в вакууме при разрежении не ниже 10- тор.
