Способ формирования разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности на основе органического полимера в доменосодержащих кристаллах

 

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РАЗДЕЛИТЕЛЬНОГО СЛОЯ СО СГЛАЖЕННЫМ РЕЛЬЕФОМ ПОВЕРХНОСТИ НА ОСНОВЕ ОРГАНИЧЕСКОГО ПОЛИМЕРА В ДОМЕНОСОДЕРЖАЩИХ КРИСТАЛЛАХ, основанный на нанесении органического полимера на доменосодержащий слой путем центрифугирования и последующей термообработке сформированной пленки, отлинающийся тем, что, с целью повышения надежности формирования разделительного слоя путем снижения температуры термообработки , термообработку проводят при температуре не выше 280С, а в качестве органического полимера используют полиамидокнслоту на основе пиромилитового диангидрнда и диаминодифенилового эфира, растворенную в диметилформамиде. i

COOS СОЮЕТСНИХ

РЕСПУЬЛИН

„,SU„„1112407 A за G 1 1! !4

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТ СССР

ГЮ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТИЙ

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ, II АВТОВСИОИУ СВИВВТВОВСТВУ

«М

Ю 3 (21) 3567836/24-24 (22) 23.03.83 (46) 07.09.84. Бюл. № 33 (72) А. А. Сидоров, О. Е. Киселев, Г. Н. Орлов и Н. К. Хавич (53) 681.327.66 (088.8) (56) 1. IEEE Trans. Magn., Ч. MAG-16, 1980, № 5, р. 1044.

2. J. Арр1. Phys, ч. 52, 1981, № 3, р. 2010 (прототип). (54) (57) СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РА3ДЕЛИТЕЛЪНОГО СЛОЯ СО СГЛАЖЕННЪ(М РЕЛЪЕФОМ ПОВЕРХНОСТИ НА ОСНОВЕ ОРГАНИЧЕСКОГО ПОЛИМЕРА В

ДОМЕНОСОДЕРЖАЩИХ КРИСТАЛЛАХ, основанный на нанесении органического полимера на доменосодержащий слой путем центрифугирования и последующей термообработке сформированной пленки, отличающийся тем, что, с целью повышения надежности формирования разделительного слоя путем снижения температуры термообработки, термообработку проводят при температуре не выше 280 С, а в качестве органического полимера используют полиамидокислоту на основе пиромилитового диангидрида и диаминодифенилового эфира, растворенную в диметилформамиде.

1!12407

Составитель Ю. Розенталь

Тех ред И. Be pec Корректор О. Тнго

Тираж 574 Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий

I 13035, Москва, Ж вЂ” 35, Раушская наб., д. 4/5

Филиал ППП <Патент>, r. Ужгород, ул. Проектная, 4

- еда кто р В. Да н ко

Заказ 6068/36

Изобретение относится к вычислительной технике и может быть использовано при изготовлении запоминающих устройств на.ци. пиндрических магнитных доменах (ЦМД).

Известен способ сглаживания рельефа поверхности доменосодержащего слоя с токопроводящими аппл икациями путем форм ирования методами фотолитографии разделительного слоя {1).

Этот способ весьма сложен для практической реализации и не обеспечивает пол!

О ностью сглаженную поверхность перед напылением пермаллоя.

Наиболее близким техническим решением к изобретению является способ формирования разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности на основе органического полимера в доменосодержащих кристаллах, основанный на нанесении органического полимера на доменосодержащий слой путем центрифугирования и последующей термообработке сформированной пленки. Прн этом за счет действия центробежных сил и сил поверхностного натяжения формируется пленка разделительного слоя, сглаживающего рельеф токопроводящих аппликаций и исключающая образование в дальнейшем ступенек в пермаллоевых аппликациях 12) .

Однако для полной полимеризации материала, используемого в известном способе, требуется довольно высокая температура термообработки — 450 С, что приводит к деструктуризации токопроводящих аппликаций на основе сплава ал юминий — медь. с уменьшением их устойчивости к токовым импульсам, а также к разрушению ионно-имплантированного доменосодержащего слоя, и вызывает возникновение «жестких> ЦМД, имеющих поле коллапса существенно большее, чем поле коллапса «нормальных» ЦМД.

Целью изобретения является повышение надежности формирования разделительного слоя путем снижения температуры термообработки.

Поставленная цель достигается тем, что согласно способу формирования разделигельного слоя со сглаженным рельефом поверхности на основе органического полимера доменосодержащих кристаллах, основан<ому на нанесении органического полимера на доменосодержащий слой путем центрифугирования и последующей термообработке сформированной пленки, термообработку проводят при температуре не выше 280 С, а в качестве органического полимера нсполь- 50 зуют полиамидокислоту на основе пиромилитового диаигидрида и диаминодифенило-. вого эфира, растворенную в диметилформамиде.

В соответствии с предложенным способом д качестве исходното материала для формирова ни я раздел ител ьного слоя может быть использован лак АД-9103 (ТУ-6-05-1608-80), представляющий собой раствор полиамидокислоты на основе пиромилитового ангидрида и диаминодифенилового эфира в диметил. формамиде с концентрацией 12 — 14Р/р сухого остатка.

Формирование разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности в соответствии с предложенным способом осуществляют следующим образом.

С целью обеспечения требуемой толщины разделительного слоя исходный продукт лак АД-9103 растворяют в диметилформамиде (ГОСТ 20289-74) в соотношении 1:1об.г после чего полученный раствор наносят на подложки со сформированным проводннковым слоем путем центрифугирования при скоростии вра щения 3000 — 5000 об/мин. С корость вращения выбирается из этого диапазона скоростей равной тому значению, которое обеспечивает требуемую конструкцией доменосодержащего кристалла толщину разделительного слоя.

После завершения. операции нанесения лака полученная пленка подвергается термообработке, в процессе которой осуществляется удаление растворителя и полимеризация органического материала с образованием плотной пленки, обладающей высокой адгеэией к ранее нанесенным слоям. Для исклю. чеиия возможности усадки пленки разделительного слоя при дальнейших термообработках ее задубливание производится при

280 С на воздухе в течение ч. Эта температу р а не п ревы шает тем пер атур воздейств и я на доменосодержащий кристалл на других стадиях его изготовления и не вызывает ни деструктирования материала токопроводящих аппликаций, ни возникновения «жестких» доменов в доменосодержащем слое.

Использование предложен ного способа обеспечивает по сравнению с известными следующие преимущества: формирование разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности при умеренных температурах; увеличение выхода годных изделий эа счет снижения температурных воздействий.

Ожидаемый годовой экономический эффект от использования предложенного способа составит ориентировочно 8036$ руб.

Способ формирования разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности на основе органического полимера в доменосодержащих кристаллах Способ формирования разделительного слоя со сглаженным рельефом поверхности на основе органического полимера в доменосодержащих кристаллах 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к информатике и вычислительной технике и может быть использовано в магнитооптических запоминающих устройствах внешней памяти электронно-вычислительных машин и бытовых приборах

Изобретение относится к перемагничиванию магнитного слоя с плоскостной намагниченностью

Изобретение относится к усовершенствованному многоразрядному магнитному запоминающему устройству с произвольной выборкой и способам функционирования и производства такого устройства

Изобретение относится к области полупроводниковой нанотехнологии и может быть использовано для прецизионного получения тонких и сверхтонких пленок полупроводников и диэлектриков в микро- и оптоэлектронике, в технологиях формирования элементов компьютерной памяти

Изобретение относится к вычислительной технике и может быть использовано при реализации запоминающих устройств, в которых носителями информации являются плоские магнитные домены (ПМД)

Изобретение относится к электронике и может быть использовано для записи и воспроизведения информации в бытовой, вычислительной и измерительной технике

Изобретение относится к вычислительной технике, в частности к магнитным запоминающим устройством с произвольной выборкой информации

Изобретение относится к области вычислительной техники и автоматики и может быть использовано в запоминающих устройствах, в которых носителями информации являются плоские магнитные домены (ПМД)
Наверх