Устройство для электронно-лучевого испарения

 

1. Устройство для электронно-лучевого испарения, преимущественно при обработке подложек большой площади, содержащий электронно-лучевую пушку, высоковольтный источник постоянного напряжения, электрически соединенный с катодом электронно-лучевой пушки, регулятор режима испарения в виде транзисторного ключевого элемента, электрически соединенного через блок сравнения с волноводными датчиками режима, электрически соединительными с СВЧ-генератором, катушки отклонения и развертки электронного луча, отличающееся тем, что, с целью повышения точности поддержания скорости испарения, регулятор режима испарения снабжен генератором пилообразного напряжения, источником постоянного отклонения, микропроцессорной системой обработки информации, интервальным таймером и дополнительным волноводным датчиком режима, при этом выход генератора пилообразного напряжения электрически соединен с катушками разверток, источник постоянного отклонения электрически соединен через транзисторный ключевой элемент с катушками отклонения, выходы микропроцессорной системы электрически соединены с входом транзисторного ключевого элемента через интервальный таймер, а ее входы - через блок сравнения с волноводными датчиками режима.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в волноводных датчиках режима в качестве чувствительного элемента использована металлическая нить, а датчики выполнены с возможностью расположения диаметрально противоположных краев обрабатываемой подложки.

3. Устройство по пп.1 и 2, отличающееся тем, что блок сравнения снабжен детекторами, видеоусилителями и балансными схемами, выходы которых электрически соединены с входами микропроцессорной системы, а входы детекторов электрически соединены с датчиками режима и СВЧ-генератора.



 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к использованию электрического разряда для нагрева и химико-термической обработки изделий в электромагнитном поле индуктора

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий, в частности к устройству для контроля толщины покрытий в процессе нанесении их в вакууме, и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении для контроля толщины покрытий при нанесении их в вакууме

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытий и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий

Изобретение относится к устройствам для напыления пористых покрытий на ленту и может быть использовано при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий

Изобретение относится к способу осаждения вещества на подложку, импульсному источнику питания для магнетронного реактора и магнетронному реактору
Наверх