Устройство для питания гальванических ванн импульсным током

 

Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к устройствам для осаждения металла в нестационарных режимах по току и электролиту для получения монослоя осадка за период одного импульса, а также может быть использовано в импульсной технике и электронике. Целью изобретения является получение различных структурных характеристик покрытия путем применения многоступенчатого импульса с регулируемыми независимыми параметрами. Устройство содержит входную шину, к которой подключены источник пороговых уровней 1, счетчик импульсов 2, коллекторная цепь транзистора Т и вход первого одновибратора 3, инверсный выход которого соединен с входом первого амплитудного усилителя 6 и входом второго одновибратора 4. Инверсный выход Q одновибратора 4 в свою очередь соединен с входом второго амплитудного усилителя 7 и входом третьего одновибратора 5, инверсный выход Q которого связан с амплитудным усилителем 8. При этом к каждому одновибратору подключены внешние времязадающие цепочки R<SP POS="POST">X</SP>C<SP POS="POST">X</SP>, а выходы амплитудных усилителей 6-8 подсоединены с одной стороны к ограничительным цепочкам D<SB POS="POST">1</SB>R<SB POS="POST">1</SB>, делители которых подключены к разнополярным источникам питания +U<SB POS="POST">1</SB> и U<SB POS="POST">2</SB>, а с другой стороны к резисторам R<SB POS="POST">2</SB>, R<SB POS="POST">4</SB> и R<SB POS="POST">6</SB> резистивной матрицы соответственно, которые другими своими концами подключены к выходной шине, к которой также подключены резисторы R<SB POS="POST">3</SB> и R<SB POS="POST">5</SB>, заземленные вторыми выводами. Выход счетчика импульсов 2 соединен с резистором R<SB POS="POST">7</SB> базовой цепи транзистора Т, эмиттер которого заземлен, а к базовой цепи подключены также конденсатор C<SB POS="POST">1</SB>, резистор R<SB POS="POST">8</SB> и диод D<SB POS="POST">8</SB>, вторые выводы которых заземлены. Питается транзистор Т от источника питания - U<SB POS="POST">2</SB> через резистор R<SB POS="POST">9</SB>. Одновибраторы питаются от источника питания +U<SB POS="POST">1</SB>, а амплитудные усилители - от источника питания +U<SB POS="POST">3</SB>. Повышение качества покрытия достигается введением в предлагаемое устройство одновибратора, усилителей амплитуды, ограничительных цепочек, резистивной суммирующей матрицы, счетчика импульсов, источника пороговых уровней, транзистора с базовой цепочкой, трех источников питания и резистора. 2 ил.

СОЮЗ СОВЕТСНИХ

СОЦЙАЛИСТИЧЕСНИХ

РЕСЛУБЛИН (51) 5 С 25 В 21/12

ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

F>!APPgp g ., .;г

ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ

ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМ

ПРИ П1НТ СССР

Н ABTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4475768/31-02 (22) 23.08,88

- (46) 23.12 ° 90, Бюл, У 47 (71) Львовский политехнический институт цм. Ленинского комсомола (72) В.Г. Норейко и Ы,К. Борзунов (53) 621.357.77(088.8) (56) -Авторское свидетельство СССР

Р 1239845, кл. Н 03 К 4/02, 1984.

Авторское свидетельство СССР

М 1307555, кл, Н 03 К 5/01, 1985 °

„.Я0„„1615238 А 1

2 (54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПИТАНИЯ ГАЛЬВАНИЧКСКИХ ВАНН ИМПУЛЬСНЫМ ТОКОМ (57) Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к устройствам для осаждения металла в нестационарных режимах по току и электролиту для получения монослоя осадка sa период одного импульса, а также может быть использовано и импульсной технике и элект" ровике. Целью изобретения является получение различных структурных характе-.

Ю, 161523 ристик покрытия путем применения многоступенчатого импульса с регулируемыми независимыми параметрами. Устрой,ство, с.одержит входную шину, к которой подклвчены источник пороговых уровней

1, счетчик импульсов 2, коллекторная цепь гранзистора T. и вход первого од-. новибратора 3, инверсный выход котороi га соединен с входом первого амплитуд"10 .ного усилителя 6 и входом второго одновибратора 4, инверсный выход Q одновибратора 4 в свою очередь . соединен с входом второго амплитудного усилите, ля 7 и входом третьего одновибратора ,, 5, инверсный выход (которого связан с амплитудным усилителем 8. При этом к каждому одновибратору подключены внешние времязадающие цепочки RC a выходы амплитудных усилителей 6 - 8 Ю подсоединены с одной стороны к огра-! ничительным цепочкам 0 К4, делители которых подключены к разнополярным источникам питания +U1 и -Ug а с другой стороны — к резисторам R„ 2S

8 4

К и К резистивнои матрицы соответб ственно, которые другими своими концами подключены к выходной шине, к которой также подключены резисторы R y u

R, заземпенные вторыми выводами. Выход счетчика импульсов 2 соединен с резистором R базовой цепи транзистора Т, эмиттер которого заземлен, а к базовой цепи подключены также конден- о сатор С, резистор R и диод D8 âòîрые выводы которых заземлены, Питается транзистор Т от источника питания

-U< через резистор К . Одновибраторы питаются от источника «питания +U< а амплитудные усилители - от источника питания +U . Повышение качества покрьггия достйгается введением в предлагаемое устройство одновибратора, усилителей амплитуды, ограничительных цепочек, резистивной суммирующей матрицы, счетчика импульсов, источника пороговых уровней, транзистора с базовой цепочкой, трех источников питания и резистора. 2 ил, Изобретение относится к оборудованию для гальванотехники, в частности для осаждения металла в нестационарных режимах по току и электролиту для получения монослоя осадка эа период одного импульса, а также может быть использовано в импульсной технике и электронике, Цель изобретения — получение различных структурных характеристик покрытия путем применения.многоступенчатого импульса с регулируемыми независимыми параметрами, !

На фиг. 1 показана схема предлагаемого устройства; на фиг. 2 — временные диаграммы, поясняющие его работу.

Устройство содержит источник 1 пороговых уровней, счетчик 2 импульсов, входную шину "Вх, шина", одновибраторы 3- 5 (которые могут быть выполнены, например, на микросхемах КР

+,Ф

155 АГ 1), времязадающие цепочки R С, усилители 6 — 8 амплитуд, ограничительные цепочки, состоящие из диодов

D н делителя с переменным коэффициентом деления — потенциометром R <, суммирующую резистивную матрицу К, R R R К, выходную шину "Вых.

55 лителя 7 амплитуд и входом третьего одновибратора 5, инверсный выход Q которого соединен с усилителем 8 амплитуд, при этом к каждому одновибратору подключены. внешние времязадающие цепочки R+Ñ, а выходы усилителей 6 - 8 амплитуд подключены с одной стороны к ограничитеиьным цепочкам DIRI, делители которых подключены к разнополяр- ным источникам питания +U и -U, a c другой стороны к резисторам К, К и

К резистивнай матрицы соответственно, ° шйна" и транзистор Т, образующий вместе со счетчиком 2 импульсов функциональный ключ, к базовой цепи транзистора Т подключены резисторы R>, К д од- 06. конденсатор С а также йс1 точники питания U,Пе,U и резистор

К

Источник 1 пороговых уровней соединен, с входной шиной "Вх. шина", ко40 торая соединена со счетчиком 2 импульсов, коллекторной цепью транзистора

Т и входом пе р в o ro однови бр ат ора 3, инверсный выход Q которого. соединен с входом первого усилителя 6 амплитуд и

45 входом. второго одновибратора 4, ин. версный выход Q которого, в свою очередь, соединен с входом второго уси16152 которые другими своими концами подключены к выходной шине "Вых. шина", к которой также подключены резисторы

К и R которые вторыми выводами заземлены. Выход счетчика 2 импульсов

5 соединен с резистором R базовой цепи транзистора Т, эмиттер которого saseMлен, а к базовой цепи подключены также конденсатор С1 резистор КВ и диод 1О

D, вторые выводы которых заземлены.

Питается транзистор Т от источника питания -U< через резистор К . Одновибраторы питаются от источника питания

+П 1 а амплитудные усилители от исTоч 1 5 ника питания +Uy, Устройство работает следующим образом.

В зависимости от требований,предьявляемых к осадку: величина зерна, шеро- 20 ховатость поверхности, интегральные характеристики покрываемой детали, устанавливают значение амплитуд с по-. мощью резисторов К < и длительностей составляющих импульса с помощью вре- 25 мяэадающих цепочек К С+ и задают коэффициент пересчета N счетчика 2 количества импульсов. При этом выходной триггер счетчика 2 переходит в нулевое состояние, а транзистор Т закрывается. 30

При включении источника 1 пороговых уровней (которым может быть любой источник периодических сигналов, например синусо щальных) на вход одновибратора 3 поступает напРяжение, превы- 35 шающее порог срабатывания одновибратора Пцдч (фиг ° 2 а) и запускает его, Одновибратор формирует импульс U с хорошей стабильностью длительности (рис. 2б), величина которой определя- 40 ется сочетанием величин сопротивления и емкости (К+ и (; ) внешней времяэадар ющей цепочки и большой крутизной переднего фронта. Сформированный одновибратором отрицательный импульс явля- 45 ется частью составного импульса и обеспечивает своим положительным перепадом запуск следующего одновибратора. С инверсных выходов одновибраторов

3 — 5 .импульсы поступают на усилители

6 — 8 с регулируемой амплитудой выходного сигнала путем ограничения напряжения на коллекторе с помощью диода

D. и делителя К с переменным коэффициентом деления. С. выхода этих трех у, усилителей 6 — 8 частичные юшульсы, имеющие в общем случае различную амплитуду и длительность (фиг. 2в, r) поступают на резистивную суммирующую

Количество импульсов подсчитывается по формуле:

gi т

1=l — количество составных импульсов; — ток составной части импульса; — длительность составной части импульса; — количество частей составного

N где N импульса;

k=3 — для данного устройства; — количество электричества, необходимое для переноса данной массы металла через гальваническую ванну.

Таким образом, необходимая точность наращивания металла определяется ко.личеством импуль ов, а время осаждения t>t, легко определяется из соотношения:

t. = N Ò ос где Т вЂ” период составного импульса.

38 6 матрицу К - К, где образуется ре эультирующйй трехступенчатый импульс (фиг. 2д), реостат R . служит для ус,тановления начального (нулевого) уровня суммирования относительно вы-, хода.

В момент прохождения переднего фронта й-ro импульса от источника пороговых уровней срабатывает схема сравнения (например, U) в счетчике импульсов и выходной триггер счетчика импульсов устанавливается в положение 1, при этом транзистор Т полностью открывается и шунтирует вход таким образом, что выходной сигнал от источника пороговых уровней становится пренебрежимо малым и не может вызвать срабатывания одновибратора 3, Поскольку последний .запускается от переднего фронта порогового сигнала и дальнейшее срабатывание одновибраторов 4 и S не эависи от сигналов на входе схемы, N-й импульс будет сформирован полностью, а поскольку длительность составного импульса во много раэ больше длительности переходных процессов в счетчике импульсов и транзисторе, устройство гарантировано выключается во время паузы после прохождения Й-ro импульса.

1615238

Использование в качестве формирователей отдельных частей импульсов предлагаемой схемы позволяет формировать трехступенчатый (или много5 ступенчатый - в зависимости от количества одновибраторов) .импульс с крутыми фронтами и независимо регулируемой в широких пределах амплитудой и длительностью каждой части. Это дает 10

1 возможность выращивать многослойное покрытие за период одного импульса с различной величиной зерна, что, в свою очередь, позволяет получать различные по толщине слои покрытия, отличающиеся между собой по структуре, текстуре и физико"механическим свойствам. При этом каждая компонента трехступенчатого импульса несет свои .строго определенные физикой воз- 20 действия на процесс функции. Для каждого размера зерна в зависимости от

1 атомного веса металла и типа электро-! лита определяется оптимальное соотношение всех параметров составного импульса. Предлагаемое устройство позволяет получать импульсы с крутизной переднего фронта импульса не хуже

50 нс, что дает возможность при достаточной амплитуде получить ударное 30 внедрение на поверхности катода центров зародышеобразования для широкого спектра энергетических поверхностей катода и ионов, туннелируемых через

ДЭС (двойной электрический слой), Не- 35 посредственное (без перерыва) следова- . ние следующей компоненты импульса дает возможность предотвратить пассивацию поверхности, а .соответствующая длительность этой компоненты дает воз- 40 можность обеспечить рост зародышей до необходимого размера зерна (исходя из расчета 77-977 покрытия площади поверхности катода монослоем). Задачей третьей компонепты является дора- 45 ботка поверхности до заданного состояния чистоты поверхности., необходимой с точки зрения получения либо максимальной адгезии, либо максимальной проводимости, либо минимальной шероховатости.

В результате экспериментальной отработки схемы получены следующие параметры сокрытия для различных сочетаний параметров компонент (ступенек) импульсов для меди: средний размер зерна 0,5 — 39 мкм; адгезия 4400—

970 MIIa- пластичность (измеряют методом перегиба на 180 полоски осадка о шириной 10"мм, толщиной 60 мкм)

2-8, Воспроизводимость результатов обес- ° печивается пропусканием через раствор определенного, счетного количества импульсов. Выключение установки во вревремя прохождения импульса может деформировать его и привести к изменению поверхностных свойств осадка и ухудшению воспроизводимости осадка.

В предлагаемом устройстве это исключается путем введения ключа, которым обеспечивается выключение установки во время паузы между импульсами после прохождения заданного количества им-, пульсов, определяемого счетчиком импульсов. Увеличение скорости осаждения (производительность техпроцесса) обеспечивается за счет увеличения сред. ней величины тока за период, что возможно в условиях нестационарного рег жима как по току, так и электролитуработе в трубулентном потоке электролита. формула изобретения

Устройство для питания гальванических ванн импульсным током, содержащее источник питания, входную и выходную шины, два последовательно соединенных одновибратора и времязадающие цепи, состоящие из резистора и конденсатора, каждая из которых подключена к соответствующему одновибратору, о тличающееся тем, что, с целью получения различных структурных характеристик покрытия путем применения многоступенчатого импульса с регулируемыми независимыми параметрами, оно снабжено дополнительным одновибратором, включенным последовательно с основными усилителями амплитуды по количеству одновибраторов, каждый из которых включен последовательно соответствующему одновибратору, ограничительными цепочками в виде диода и делителя с переменным коэффициентом деления, резистивной суммирующей матрицей, состоящей из пяти резисторов, один из которых переменный, счетчиком импульсов, источником пороговых уровней, транзистором с базовой цепочкой в виде делителя, состоящего из двух резисторов, диода и конденсатора, и резистором, при этом источьык питания выполнен в виде трех блоков, входная шина соединена с вторым блоком источl0

1615238

Фиг. 2

Составитель С. Пономарев

Техред И.Дидык Корректор Т. Малец

Редактор Н, Яцопа

Заказ 3964 Тираж 551 Подписное

ВНИКПИ Государственного комитета по ииэобретениям и открытиям при ГКН СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/

Производственно-издательский комбинат "Патент", г.Ужгород, ул. Гагарина, 101

9 ника питания через резистор, резисто= ры времязадающих цепей подключены к первому блоку источника питания, а инверсный выход каждого предыдущего одновибратора соединен с входом последующего одновибратора и входои предыдущего усилителя амплитуды, выходы которых соединены с одной стороны с положительным выводом диода, ограничительной цепочки, отрицательный вывод которого соединен со средней точкой соответствующего делителя с переменным коэффициентом деления, а концы делителя подключены к разнопОлярным клеммами.15 первого и второго блока источника питания, а с другой стороны усилители ,амплитуды подключены к выходной шине через три резистора реэистивнгй суммирующей матрицы, а через два резистора, один из которых является переменным, выходная шина соединена с землей, при этом к входу первого одновибратора подключены выход источника пороговых уровней, вхрд счетчика импульсов-и коллектор транзистора, эииттер которого эазеилен, а база подключена к средней точке делителя, образованного двумя. резисторами, один из которых своим вторым концом подсоединен к выходу счетчика импульсов,а второй резистор своим вторым выводом заэемлен и параллельно ему подключены емкость ,и диод, подсоединенный отрицательным выводом к базе, а третий блок источника питания подключен к усилителям амплитуды.

Устройство для питания гальванических ванн импульсным током Устройство для питания гальванических ванн импульсным током Устройство для питания гальванических ванн импульсным током Устройство для питания гальванических ванн импульсным током Устройство для питания гальванических ванн импульсным током 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологическому оборудованию производства печатных плат и может быть использовано в автоматизированных линиях модульного типа

Изобретение относится к оборудованию для электрохимической обработки изделий

Изобретение относится к оборудованию для гальванотехники и может быть использовано для управления автооператорами автоматических линий гальванопокрытий

Изобретение относится к гальванотехнике и может быть применено в гальванических ваннах для контроля и автоматического регулирования средней плотности тока

Изобретение относится к гальванотехнике и может быть использовано в гальванических цехах предприятий в технологических процессах, в которых применяются нерастворимые аноды, при получении сплавов с улучшенными физико-механическими свойствами

Изобретение относится к гальванотехнике и может быть использовано для контроля массы осажденного металла в процессе нанесения гальванопокрытия

Изобретение относится к оборудованию для гальванотехники

Изобретение относится к гальванотехнике и может быть использовано для питания ванн осталивания асимметричным и выпрямленным двухполупериодным током

Изобретение относится к электрохимии и может быть использовано для нанесения покрытий на ферромагнитные изделия

Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к устройствам для контроля толщины осажденного слоя металла

Изобретение относится к оборудованию для гальванотехники и может быть использовано, например, при микродуговом оксидировании вентильных металлов и их сплавов или при нанесении покрытий путем осаждения металлов и их сплавов

Изобретение относится к установке для электролитического нанесения металлического покрытия на ленты

Изобретение относится к цветной металлургии, а именно, к устройствам для электролитического получения цветных металлов в электролизерах с плоскими или пластинообразными электродами, в частности, к устройствам для автоматического контроля массы осаждаемого цинка на катодах электролизной ванны при управлении процессом электролиза

Изобретение относится к гальванотехнике, в частности к устройствам для микродугового оксидирования поверхностей вентильных металлов

Изобретение относится к оборудованию для гальванотехники и используется для стабилизации тока источника питания гальванических ванн при нанесении покрытий путем осаждения металлов и сплавов с высокой точностью по толщине слоя

Изобретение относится к оборудованию для электролитической обработки поверхностей изделий из металлов и металлических сплавов путем оксидирования

Изобретение относится к области гальванотехники и может быть использовано для лакирования изделий, в частности автомобильных кузовов

Изобретение относится к химической обработке струйным методом поверхностей размещаемых на подвесках деталей машиностроения и приборостроения и применимо в гальваническом производстве, производстве печатных плат и других производствах, использующих данный метод обработки

Изобретение относится к электрическому контактированию плоского изделия в электролитических или химических жидкостных установках непрерывного действия
Наверх