Установка для нанесения покрытий в вакууме

 

ОП ИСАН И Е изоБГетЕнИЯ

К АВТОРСКОМУ CBHPETEJIbCTBy

25880 О

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидегельства ¹

Кл. 48Ь, 13/08

Заявлено 03.VI II.1967 (¹ 1177050/22-1) с присоединением заявки ¹

Комитет по делам изобретений и открытий при Совете Министров

СССР

УПК С 23с

> ДК 658 562 3.621 793 14 (088,8) Приоритет

Опубликовано ОЗ.XI I.1969. Бюллетень х" 1 за 1970

Дата опубликования описания 27.IV.1970

Л. К. Дружинин, М. Г. Лозинский и В. Б. Чижов

Авторы изобретения

Заявитель

УСТАНОВКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Известна установка, состоящая из вакуумной камеры, одно- или многосекционных испарительных устройств, вакуумной станции, устройства для крепления образцов над пспарителем и их подогрева и вспомогательной аппаратуры для контроля за вспомогательными процессами, в которой заданная толщина обеспечивается косвенно поддержаниехт на заранее заданном уровне тепловой мощности, подводимой к ванне с испаряемым материалом.

Предлагаемая установка отличается от известной тем, что в качестве датчика количества напыленпого вещества использован образец-свидетель, расположенный в зоне напыления и соединенный с весовым устройством с механотронным преобразователем, сигна, I с которого подается Iа программный регулятор для регулирования интенсивности испарения.

Это позволяет повысить точность нанесения покрытий по толщине и составу.

На чертеже изображена схема предлагаемой установки.

Она содержит вакуумную камеру 1, внутри которой размещены испарительные ванны 2 и

3. Нагреваются ванны либо с помощью электроннолучевых систем, либо радиационными устройствами, изображенньтхти на рассматриваемой схе. е. "егулирование интенсивности нагрева, а следовательно, и скорости испарения, осуществляется в зависимости от скорости конденсацип материала на контрольных образцах регулирующимп устройствами 4 и 5 (автотрансформаторы, магнитные усилители, 5 регулируемые балластные сопротивления и т. д.). Над пспарительныхтп ваннами располагают образец б, подлежащий напылению и подогреваемый до требуезтой температуры нагревателем 7. Блоки 8 и 9 управления состояг

10 из контрольных образцов !О и ll, которые соединены непосредственно с механотронными весами 12 и 1т.

Требуемая скорость конденсации задается в виде графика-программы, наносимой, напри15 мер, на диаграхтмттю ленту программных регуляторов 14 и 15. Котттрольньте приборы lб и

17 служат для визуального наблюдения за ре>кттхтом конденсацт.п. Предусматривается так?Ке B03M0>KHocTI, ручного регулирования про20 цесса по показаниям приборов и регистрации режимов напыления на диаграммных лентах.

Установка работает следующим образом.

Материал, расположенный в испарительных ваннах 2 и 8, при выведенных на режим нагре25 вателях, испаряется в виде атомарных пли мо IeêóëFIðHû поI oKQB и перемещается IIQ направ eFIHIo к образцу б, предварительно нагретому до требуемой температуры нагревателем

7. Испаренное вещество конденсируется íà IIQ30 верхностях образца б п контрольных образцов

258800

Предмет изобретени я

Состави геги, Ю. Иосилевич

I åäàêòoð В. Ф. Смирягина Техрсд 3. Н. Тараненко Коррекгорви Л. Koporod н М, Коробова

Заказ 781/5 тираж 499 Подписное

11НИИГ1И Комитега ио донага изойрстеиий и огкрытий при Совете .11ипистров СССР

Москва 1К-З5, Раушскан наб., д. 4 5

1 ипография, пр. Сапунова, 2

10 и Il в виде покрытия с соответствующим изменением веса образцов.

Изменение веса кон1рольных образцов приводит к изменению показаний механотронных весов, сигнал с которых поступает на программные регуляторы 14 и 15. Программные регуляторы воздействуют на регулирующие устройства 4 и 5, которые изменяют температуру нагревателей, и тем самым воздействуют на скорость испарения.

Установка для нанесения пскрытий в вакууме путем испарения и последующей конденсации HB обрабатываемом изделии, состоящая из вакуумной камеры, испарительных уcl ройств, вакуумной станции, устройства для крепления образцов над испарителем и 1гх

5 подогрева и вспомогательной аппаратуры для контроля 3а вспомогательными процессами, отличагощаяся тем, что, с целью повышения точности нанесения покрытий по толщине и составу, в ней в качестве датчика количества

lo напыленного вещества использован образецсвидетель, расположенный в зоне напыления и соединенный с весовым устройством с механотронным преобразователем, сигнал с которого используется для программного регулирования

15 интенсивности испарения,

Установка для нанесения покрытий в вакууме Установка для нанесения покрытий в вакууме 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к электротехнике, а именно к использованию электрического разряда для нагрева и химико-термической обработки изделий в электромагнитном поле индуктора

Изобретение относится к средствам наблюдения за процессом нанесения покрытий, в частности к устройству для контроля толщины покрытий в процессе нанесении их в вакууме, и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении для контроля толщины покрытий при нанесении их в вакууме

Изобретение относится к устройствам для нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано для нанесения защитных, упрочняющих и декоративных покрытий на внутренние поверхности изделий

Изобретение относится к машиностроению, в частности к обработке в вакууме поверхности металлических изделий путем воздействия на нее пучком ионов металлов, и может быть использовано в авиационной и газовой промышленности для поддержания оптимального сочетания элементного состава ионов и энергетического уровня воздействия при подготовке поверхности изделий, например компрессорных лопаток, к нанесению на них защитных покрытий, формировании модифицированного поверхностного слоя изделий, повышающего их эксплуатационные характеристики, а также проведении исследовательских работ в области ионно-плазменной технологии

Изобретение относится к устройству для нанесения многослойных оптических покрытий и может быть использовано при изготовлении лазерной техники при создании просветляющих и отражающих покрытий на торцевых поверхностях полупроводниковых лазеров

Изобретение относится к способу и устройству нанесения покрытий и может быть использовано в приборостроении, электронной промышленности и машиностроении

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий

Изобретение относится к устройствам для напыления пористых покрытий на ленту и может быть использовано при производстве электронных компонентов, магнитных носителей записывающих устройств, декоративных покрытий

Изобретение относится к способу осаждения вещества на подложку, импульсному источнику питания для магнетронного реактора и магнетронному реактору
Наверх