Устройство для катодного распыления

 

то/;, ОП ИСАН ИЕ

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

3I5723

Свита Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

МПК С 23с 15/00

Заявлено 23.Xll.1969 (№ 1387826/26-9) с присоединением заявки ¹

Приоритет

Опубликовано 01.Х.1971. Бюллетень № 29

Дата опубликования описания 15.XI.1971

Комитет по делаь; изобретений и открытий при Совете Мииистрав

СССР

УДК 539.231(088.8) Авторы изобретения

И. А, Радванский, В. А. Мешков, В. А. Цветков, С. В. Шалимов и В. В. Квасников

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Изобретение относится к области микроэлектроники и может быть использовано для получения катодным распылением многослойных пленок и пленок из смеси компонентов разных материалов.

Известно устройство для катодного распыления с применением нескольких катодов. В известном устройстве катоды выполнены в виде отдельных плоских секторов, изготовленных из разных материалов. Напряжение на каждый катод подается отдельно.

Цель изобретения — избирательное распыление и упрощение процесса распыления iH0гослойных пленок и смесей компонентоз р,33ных материалов в течение одного цикла âàкуумирования. Для достижения цели катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответствии с заданной последовательностью напыления цилиндров из различных материалов, цилиндры соединены между собой торцами, что обеспечивает надежный электрический контакт, а на против части рабочей поверхности катода с возможностью перемещения вдоль оси катода расположен экран.

На чертеже схематически изображено устройство.

Цилиндрический катод 1 состоит из нескольких цилиндров, изготовленных из разных материалов. Экраны 2 и 8, гасящие тлеющий разряд напротив части рабочей поверхности катода, изготовлены в виде цилиндров, расположенных напротив рабочей поверхности катода на расстоянии, меньшем глубины тем5 ного катодного пространства, и заземлены.

Анод (анод-подложкодержатель) 4 расположен напротив катода в том месте, где нет экранов 2 и 8. Лнод заземлен. Экран 5 расположен напротив нерабочей поверхности ка10 тода 1 на расстоянии, меньшем глубины темного катодного пространства. Катод 1, анод 4 и экраны 2, 8 и 5 размещены в вакуумной камере 6. Газ из камеры откачивают через отверстие 7. Высокое напряжение на катод по15 дают через высоковольтный ввод 8. Камеру наполняют рабочим газом через отверсгие 9.

Подложки 10, на которые Hàïûëÿþ T распыляемый материал, расположены напротив центра отверстия между экранами 2 и 3.

20 Устройство для катодного распыления работает следующим образом. После откачки рабочего объема камеры до вакуума 10 о хгл рт. ст. в нее через отверстие 9 нагнетают рабочий газ, например аргон, до давления

25 10 — 10 лл рт. ст. При подаче на катод напряжения порядка 1 — 10 кв возникает тлеющий разряд, следствием которого является распыление материала катода и осаждение его на подложках 10, причем разряд возни30 кает на участке катода, не закрытом экрана315723

Составитель М. Порфирова

Техред Е. Борисова Корректор Л. В. Орлова

Редактор И. Орлова

Заказ 3080/18 Изд. ¹ 1285 Тираж 473 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2 ми 2 и 3. Роль экранов 2 и 3 состоит в подавлении тлеющего разряда напротив тех участков катода, в распылении которых в данный момент нет необходимости. При вертикальном .перемещении экранов 2 и 3 и анода

4 с подложками 10 вдоль катода производится последовательное напыление на подложки слоев различных материалов, из которых сделаны, цилиндры катода. В случае необходимости, возможно одновременное распыление нескольких материалов.

Предмет изобретения

Устройство для катодного распыления, состоящее из вакуумной камеры с расположен.ной внутри нее электродной системой, соедипенной с источником высокого напряжения, анода, цилиндрического катода и экранов для гашения тлеющего разряда, отличающееся тем, что, с целью избирательного распыления и упрощения процесса распыления многослойных пленок и смесей компонентов разных материалов в течение одного цикла вакуумировапия, катод выполнен в виде последовательно расположенных в соответстТ0 вии с заданной последовательностью напыления электрически соединенных между собой торцовыми поверхностями цилиндров из различных материалов, а экран расположен напротив части рабочей поверхности катода с

Т5 возможностью перемещения вдоль оси катода.

Устройство для катодного распыления Устройство для катодного распыления 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии вакуумно-дуговой обработки металлов, в частности к производству многослойных лент

Изобретение относится к оборудованию для нанесения в электрическом поле покрытий
Изобретение относится к области получения функциональных покрытий, стойких к износу, и способам их получения на поверхности изделия и может быть использовано в машиностроении для упрочнения деталей машин и механизмов, изготовления деталей современных высокофорсированных двигателей, нанесения износостойкого покрытия на стержни клапанов и поршневые кольца

Изобретение относится к порошковой металлургии, в частности к мишени для получения функциональных покрытий и способу ее изготовления, и может быть использовано в химической, станкоинструментальной промышленности, машиностроении и металлургии

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано, например, при производстве тонкопленочных элементов многокомпонентных материалов, оптических покрытий, теплозащитных покрытий архитектурного стекла и других покрытий для товаров народного потребления на любых металлических, пластмассовых и других основаниях

Изобретение относится к технике газоразрядных устройств и может быть использовано в плазмохимических реакторах
Наверх