Полировальные составы, кроме политуры и лыжные мази (C09G)

Применение сульфоновых кислот в сухих электролитах для полирования металлических поверхностей посредством переноса ионов // 2793181
Изобретение относится к области техники, представляющей отрасли промышленности, связанные с выравниванием, шлифованием и полированием металлических поверхностей. Сухой электролит для полирования металлических поверхностей посредством переноса ионов содержит пористые частицы, удерживающие в себе электропроводящую жидкость.
Агломератное абразивное зерно // 2792805
Изобретение относится к агломератным абразивным зернам. Предложено агломератное абразивное зерно, состоящее из множества отдельных абразивных зерен, которые связаны в неорганической или органической связующей матрице, причем, в расчете на общую массу агломератного абразивного зерна, по меньшей мере 8% по массе абразивных зерен, которые связаны в связующей матрице, являются поликристаллическими алюминий-оксидными абразивными зернами на основе электрокорунда с процентным содержанием более 97% по массе альфа-оксида алюминия, и при этом поликристаллические алюминий-оксидные абразивные зерна, в свою очередь, состоят из множества первичных кристаллов Al2О3 с размером кристалла между 20 и 100 мкм.

Морозостойкие эмульсионные композиции вода-в-масле для очистки и/или полировки // 2785396
Настоящее изобретение относится к эмульсионным композициям вода-в-масле (water-in-oil, W/O). Описана эмульсионная композиция вода-в-масле (W/O) для включения в состав средства для очистки или полировки мебели, обуви или автомобилей, включающая: (а) 3-40% вес.

Композиция для химико-механического полирования поверхности полупроводниковых материалов // 2782566
Изобретение относится к водной композиции для химико-механического полирования (ХМП) поверхности полупроводниковых материалов, в частности Ge, GaAs, PbTe, CdSb, InAs, ZnAs2 и др. Предложена композиция для ХМП при следующем соотношении компонентов в мас.

Композиция для улучшения эксплуатационных качеств лыж, не требующих смазки // 2688762
Изобретение относится к применению композиция для улучшения эксплуатационных качеств лыж, не требующих смазки, в частности, камусных лыж. Композиция содержит C1-6-спирт и смазочное вещество, выбранное из группы, состоящей из простых перфторполиэфиров, полиди(С1-5-алкил)силоксанов и их смесей.

Способ химико-механической полировки толстых слоев кобальтсодержащих сплавов // 2687649
Изобретение относится к химико-механической полировке толстых слоев ферромагнитных кобальтсодержащих сплавов и может применяться при изготовлении элементов приборов и устройств в микро- и наноэлектронике.

Состав для полирования оптического стекла // 2686923
Изобретение может быть использовано для изготовления инструмента для полирования линз из оптического стекла. Описан состав для полирования оптического стекла, содержащий канифоль, пек древесный, мыло канифольное и наполнитель в виде полирующего порошка, отличающийся тем, что в качестве древесного пека он содержит сосновый пек, а в качестве наполнителя - полирующий порошок церокс и дополнительно содержит воск пчелиный и скипидар при следующем соотношении компонентов, мас.

Морозоустойчивые водные композиции, содержащие частицы оксидов металлов // 2681623
Изобретение относится к водным полирующим композициям. Водная полирующая композиция содержит (i) от 10 до 50% по массе воды, (ii) от 0,5 до 20% по массе одной или более солей одной или более С1-С6 карбоновых кислот, (iii) от 0,5 до 10% эмульгаторов, (iv) от 10 до 60% одного или более углеводородов, (v) от 20 до 40% неорганических частиц, содержащих оксиды металлов, (vi) одну или более дополнительных добавок, при этом общее количество ингредиентов выбрано таким образом, чтобы получить 100% по массе.

Композиция для химико-механической полировки (cmp), содержащая бензотриазольные производные в качестве ингибиторов коррозии // 2669598
Изобретение относится к композиции для химико-механической полировки. Описана композиция для химико-механичекой полировки, содержащая(А) одно или более соединений формулы (1)где пары пунктирных линий в формуле (1) либо каждая обозначает двойную связь, либо обозначает одинарную связь, где (i) когда каждая пара пунктирных линий в формуле (1) обозначает двойную связь, один из R1 и R2 представляет собой водород и другой из R1 и R2 выбирается из группы, включающей хлор, бром, алкил, содержащий от трех до шести атомов углерода, бензоил и -COOR3, где R3 выбирается из группы, включающей алкилы, содержащие от трех до шести атомов углерода, или R3 представляет собой заместитель, содержащий структурную единицу, выбранную из группы, включающей -(СН2-СН2-O)n-Н и -(CH2-CH2-O)n-CH3, где n, в каждом случае, представляет собой целое число в интервале от 1 до 15, или R1 и R2 оба независимо выбираются из группы, включающей бром и хлор, и (ii) когда каждая пара пунктирных линий в формуле (1) обозначает одинарную связь, R1 и R2 представляют собой водород, или один из R1 и R2 представляет собой водород, и другой из R1 и R2 выбирается из группы, включающей хлор, бром, алкил, содержащий от трех до шести атомов углерода, бензоил и -COOR3, где R3 выбирается из группы, включающей алкилы, содержащие от трех до шести атомов углерода, или R3 представляет собой заместитель, содержащий структурную единицу, выбранную из группы, включающей -(СН2-СН2-O)n-Н и -(СН2-СН2-O)n-СН3, где n, в каждом случае, представляет собой целое число в интервале от 1 до 15, или R1 и R2 оба независимо выбираются из группы, включающей бром и хлор, причем общее количество одного или нескольких соединений формулы (1) лежит в диапазоне от 0,0001 до 1 мас.% на основе общей массы соответствующей композиции для химико-механической полировки,(В) неорганические частицы, органические частицы, или их композит, или смесь, которые находятся в форме кокона, где общее количество катионов, выбранных из группы, включающей магний и кальций, составляет менее 1 части на миллион на основе общей массы соответствующей композиции.

Композиция для смр, содержащая абразивные частицы, содержащие диоксид церия // 2661571
Группа изобретений относится к полимерной химии и может быть использована в полупроводниковой промышленности. Композиция для химико-механической полировки содержит (А) абразивные частицы диоксида церия; (В) один или более полимеров.

Композиция химического механического полирования для полирования поверхности сапфира и способы ее применения // 2661219
Изобретение относится к композиции химического механического полирования для обработки наружной сапфировой поверхности и способу полирования сапфировой подложки. Предлагается способ полирования наружной сапфировой подложки с использованием полирующей суспензии, содержащей в качестве исходных компонентов: коллоидный диоксид кремния в качестве абразива, где коллоидный диоксид кремния имеет отрицательный заряд поверхности и где коллоидный диоксид кремния имеет многомодальное распределение частиц по размеру с первым максимумом размера частиц между 2 и 25 нм и вторым максимумом размера частиц между 75 и 200 нм.

Полировальная суспензия // 2655902
Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано для обработки оптических материалов. Полировальная суспензия содержит водную суспензию полирующего порошка - полирита, полиоксиалкиленгликоль в качестве пеногасящей добавки и цинк сернокислый семиводный, сокращающий время обработки оптических заготовок, при следующем соотношении компонентов, вес.%: цинк сернокислый 0,5; полиоксиалкиленгликоль 0,01-0,03; водная суспензия полирующего порошка в виде 10%-ной суспензии с плотностью 1,02-1,04 г/см3 - остальное.

Композиция для химико-механической полировки (смр), содержащая неионное поверхностно-активное вещество и карбонатную соль // 2643541
Изобретение относится к композиции для химико-механической полировки (СМР). Композиция содержит (А) неорганические частицы, органические частицы или их смесь, или их композит, где частицы находятся в форме кокона, (В) амфифильное неионное поверхностно-активное вещество на основе полиоксиэтилен-полиоксипропиленового алкилового простого эфира в виде смеси молекул, содержащих в среднем алкильную группу, имеющую от 10 до 16 атомов углерода, от 5 до 20 оксиэтиленовых мономерных звеньев (b21) и от 2 до 8 оксипропиленовых мономерных звеньев (b22) в случайном распределении, (C) карбонатную или гидрокарбонатную соль, (D) спирт и (М) водную среду.

Композиция для химико-механической полировки (смр), содержащая неионное поверхностно-активное вещество и ароматическое соединение, содержащее по меньшей мере одну кислотную группу // 2636511
Изобретение по существу относится к композиции для химико-механической полировки (СМР). Композиция содержит: (А) неорганические частицы, органические частицы, или их смесь, или их композит, где частицы находятся в форме кокона, (В) амфифильное неионное поверхностно-активное вещество полиоксиэтилен-полиоксипропилен алкиловый простой эфир как смесь молекул, содержащую, в среднем, алкильную группу, имеющую от 10 до 16 атомов углерода, от 5 до 20 оксиэтиленовых мономерных звеньев (b21) и от 2 до 8 оксипропиленовых мономерных звеньев (b22) в случайном распределении, (С) ароматическое соединение, содержащее на ароматическое кольцо по меньшей мере одну кислотную группу (Y) и по меньшей мере одну другую функциональную группу (Z), которая отлична от кислотной группы (Y), и (М) водную среду.

Полировальная суспензия для сапфировых подложек // 2635132
Изобретение относится к водным суспензиям для полирования сапфировых подложек. Полирующая суспензия содержит, мас.

Композиция для химико-механического полирования (смр), содержащая белок // 2631875
Изобретение относится к композиции для химико-механического полирования (СМР) и ее применению при полировании подложек полупроводниковой промышленности. Композиция содержит частицы оксида церия, белок, содержащий цистеин в качестве аминокислотной единицы, и водную среду.

Абразивный порошок для обработки поверхностей и его применение // 2627413
Изобретение относится к составам на основе оксидов для абразивной обработки поверхностей и может быть использовано для удаления загрязнений и коррозии, окалины, старой краски, струйной очистки зданий и сооружений, нефтеналивных емкостей, отложений морских и речных судов.

Жидкая полировальная паста для обработки изделий на основе алюминия // 2624317
Изобретение относится к механической обработке изделий на основе алюминия. Описана жидкая полировальная паста для обработки изделий на основе алюминия, включающая абразивный материал, триэтаноламин, стеариновую кислоту, жидкое натриевое стекло и воду, в которой в качестве абразивного материала используют отходы от полирования и шлифования оптических стекол при следующем соотношении компонентов, мас.%: отходы от полирования и шлифования оптических стекол - 30, стеариновая кислота - 7, жидкое натриевое стекло - 2, триэтаноламин - 2, вода - остальное.

Абразивные частицы, способ получения абразивных частиц и абразивные изделия // 2621085
Изобретение относится к формованной керамической абразивной частице. Формованная керамическая абразивная частица содержит первую поверхность, вторую поверхность и периферийную поверхность.
Полирующий состав // 2620836
Изобретение относится к полирующим составам и может быть использовано при полировке подложек из твердых и хрупких материалов. Полирующий состав содержит, по меньшей мере, воду и диоксид кремния.

Жидкая полировальная паста // 2619709
Изобретение относится к механической обработке деталей из цветных, нержавеющих и твердых сплавов. Жидкая полировальная паста включает абразивный материал, триэтаноламин, стеариновую кислоту, жидкое натриевое стекло и воду.

Паста для полирования материалов // 2615408
Изобретение относится к области изготовления пигментированных паст для доводки и полирования поверхности металлов, сплавов и неметаллических материалов. Паста для полирования материалов включает абразивный компонент, органические добавки и порошок цветного шлакокаменного литья на основе химических соединений кремния, алюминия, кальция, магния, титана, натрия, калия и бария.

Водные полирующие композиции, содержащие n-замещенные диазений диоксиды и/или соли n -замещенных n'-гидрокси-диазений оксидов // 2608890
Изобретение относится к водным полирующим композициям для полирования материалов подложек электрических, высокой точности механических и оптических устройств. Водная полирующая композиция содержит (A) по меньшей мере одно растворимое в воде или диспергируемое в воде соединение, выбранное из солей N-замещенных N'-гидрокси-диазений-оксидов, и (В) абразивные частицы, содержащие оксид церия или состоящие из него.

Водная полирующая композиция и способ химико-механического полирования подложек для электрических, механических и оптических устройств // 2607214
Изобретение относится к водной полирующей композиции, имеющей pH от 3 до 11. Композиция содержит (А) по меньшей мере один тип абразивных частиц, которые положительно заряжены при диспергировании в водной среде, свободной от компонента (В) и имеющей pH в интервале от 3 до 9, что подтверждается электрофоретической подвижностью.

Полирующие композиции, устойчивые к воздействию отрицательных температур // 2606607
Настоящее изобретение относится к водным композициям, содержащим один или более углеводородов, обладающим повышенной стабильностью при действии низких температур. Описана полирующая композиция, содержащая от 10 до 50 масс.

Способ изготовления полупроводниковых устройств, включающий химико-механическое полирование элементарного германия и/или материала si1-x gex в присутствии хмп (химико-механической полировальной) композиции, включающей специальное органическое соединение // 2605941
Изобретение относится к композиции для химико-механического полирования (ХМП) и к ее применению для полирования подложек для полупроводниковой промышленности. Способ изготовления полупроводниковых устройств включает химико-механическое полирование элементарного германия и/или материала Si1-xGex, в котором 0,1≤x<1, в присутствии композиции для химико-механического полирования (ХМП), включающей: (A) неорганические частицы, органические частицы или их смесь или их композит, (B) по меньшей мере один тип окислительного реагента, (C) по меньшей мере один тип органического соединения, выбранного из группы, состоящей из альфа-аминокислоты или ее соли, органического соединения, включающего от двух до пяти карбоксигрупп (-СООН), или его соли, моно-, ди-, триалканоламина или его соли, простого аминоэфира, включающего дополнительную аминогруппу, гидроксигруппу, алкоксигруппу, карбоксильный фрагмент, или его соли, органического соединения, включающего от двух до четырех гидроксигрупп (-ОН), или его соли, гетероциклического соединения, включающего 5- или 6-членное кольцо, содержащее от 1 до 3 атомов азота в качестве атомов-элементов кольца, или его соли, N,N,N′,N′-тетракис(2-гидроксипропил)этилендиамина, 4-(2-гидроксиэтил)морфолина, пентаметилдиэтилентриамина, соли или аддукта триэтаноламина (2,2′,2″-нитрилотрис(этанола)) и 4-[(2-этилгексил)амино]-4-оксоизокротоновой кислоты и 2,2′-диморфолинодиэтилового эфира, и (D) водную среду, в котором значение рН ХМП композиции находится в диапазоне от 2,5 до 5,5.

Полировальная паста // 2605118
Изобретение относится к области изготовления паст для финишного полирования поверхности металлов и сплавов. Описана полировальная паста, содержащая абразивный материал, стеарин, парафин и поверхностно-активный компонент, в которой абразивным материалом является порошок синтетического минерального сплава на основе оксида кремния и оксида алюминия в количестве 64,5-71,9 мас.

Применение полиэтиленгликоля для контроля характера распыла распыляемых жидких абразивных чистящих средств // 2600646
Изобретение в основном относится к чистящим средствам для твердых поверхностей и, в частности, к способу контроля характера распыла распыляемой композиции жидкого абразивного чистящего средства, которая распыляется из ручного куркового распылителя.

Композиция для химико-механического полирования, содержащая поливинилфосфоновую кислоту и ее производные // 2598046
Изобретение главным образом относится к композиции для химико-механического полирования (ХМП) и ее применению в полирующих субстратах полупроводниковой промышленности. Композиция содержит (A) неорганические частицы, органические частицы или их смесь, или их композит, (B) по меньшей мере один тип поливинилфосфоновой кислоты или ее соль в качестве диспергирующего агента или агента для обращения заряда, (C) водную среду и (D) сахарный спирт в качестве подавителя SiN.

Полировальная паста // 2592798
Изобретение относится к абразивной обработке деталей из черных металлов и твердых сплавов. Полировальная паста включает абразивный материал, в качестве которого используют шламовые отходы шлифовального производства с содержанием карбида кремния 74 мас.%, парафин, стеарин, олеиновую кислоту и керосин, при следующем соотношении компонентов, мас.%: шламовые отходы шлифовального производства с содержанием карбида кремния 74 мас.% - 58, парафин - 12, стеарин - 22, олеиновая кислота - 6, керосин - остальное.
Полирующая композиция // 2591152
Изобретение относится к полирующей композиции, применяющейся для полировки объекта, который необходимо отполировать, состоящего из твердого и хрупкого материала, обладающего твердостью по Викерсу, равной 1500 Hv или более.

Водная полирующая композиция и способ химико-механического полирования подложек, имеющих структурированные или неструктурированные диэлектрические слои с низкой диэлектрической постоянной // 2589482
Изобретение направлено на новую полирующую композицию, которая особенно хорошо подходит для полирования подложек, имеющих структурированные или неструктурированные диэлектрические слои с низкой или ультранизкой диэлектрической постоянной.

Водная полирующая композиция и способ химико-механического полирования подложек, содержащих пленки на основе оксидкремниевого диэлектрика и на основе поликремния // 2588620
Изобретение относится к новым водным полирующим композициям, которые особенно подходят для полирования полупроводниковых подложек, содержащих пленки на основе оксидкремниевого диэлектрика и поликремния, необязательно содержащих пленки на основе нитрида кремния.

Композиция для химико-механической полировки (хмп ), содержащая неорганические частицы и полимерные частицы // 2579597
Изобретение относится к композиции для химико-механической полировки, применяемой при изготовлении интегральных схем и микроэлектромеханических устройств. Композиция содержит (А) по меньшей мере один тип неорганических частиц, которые диспергированы в жидкой среде (В), (Б) по меньшей мере один тип полимерных частиц, которые диспергированы в жидкой среде (В), (В) жидкую среду, где дзета-потенциал неорганических частиц (А) в жидкой среде (В) и дзета-потенциал полимерных частиц в жидкой среде (В) являются положительными.
Водная полирующая композиция и способ химико-механического полирования материалов подложек для электрических, механических и оптических устройств // 2577281
Изобретение направлено на водную полирующую композицию, которая особенно подходит для полирования материалов подложек для электрических, механических и оптических устройств. Композиция содержит (A) абразивные частицы, которые положительно заряжены, когда диспергированы в водной среде, имеющей pH в интервале от 3 до 9; (B) водорастворимые или диспергируемые в воде компоненты, выбранные из (b1) алифатических и циклоалифатических оксикарбоновых кислот, где молярное отношение гидроксильных групп к группам карбоновых кислот составляет по меньшей мере 2; (b2) сложных эфиров или лактонов оксикарбоновых кислот (b1), имеющих по меньшей мере две гидроксильные группы; и (b3) их смесей; и (C) водорастворимые или диспергируемые в воде полимерные компоненты, выбранные из (c1) линейных и разветвленных полимеров алкиленоксидов; (c2) линейных и разветвленных, алифатических и циклоалифатических поли(N-виниламидных) полимеров; и (c3) катионных полимерных флокулянтов, имеющих среднемассовую молекулярную массу менее 100000 Дальтон.

Водная полирующая композиция и способ химико-механического полирования подложек, содержащих пленки диэлектрика оксида кремния и поликремния // 2573672
Изобретение относится к новой водной полирующей композиции для полирования полупроводниковых подложек, содержащих пленки диэлектрика оксида кремния и поликремния, а также необязательно содержащих пленки нитрида кремния.

Агломерированное абразивное зерно, содержащее включенные полые микросферы // 2566791
Изобретение относится к агломерированному абразивному зерну и способу его изготовления. Агломерированное абразивное зерно с открытой пористостью от 5 до 40% по объему содержит множество отдельных абразивных зерен, выбранных из группы, состоящей из корунда, электрокорунда, спеченного корунда, оксида алюминия, циркония, карбида кремния, карбида бора, кубического нитрида бора, алмаза и их смесей, которые включены в матрицу связующего.

Паста для полирования ювелирных изделий из благородных металлов и их сплавов с цветными металлами // 2561089
Изобретение относится к полированию ювелирных изделий из благородных металлов и их сплавов с цветными металлами. Полировальная паста включает абразивный материал, в качестве которого используют абразивный микропорошок на основе гидроксида алюминия и оксида железа, парафин, стеарин, олеиновую кислоту и асидол.

Жидкая полировальная паста // 2561086
Изобретение относится к механической обработке деталей из цветных, нержавеющих и твердых сплавов. Жидкая полировальная паста включает абразивный материал, триэтаноламин и воду.

Полировальная композиция // 2540302
Изобретение относится к химической промышленности и может быть использовано для обработки оптических материалов. Полировальная композиция содержит водную суспензию полирующего порошка - полирита и полиоксиалкиленгликоль в качестве пеногасящей полиоргансилоксановой добавки при следующем соотношении компонентов, вес.
Полировальная паста // 2530072
Изобретение относится к полировальным пастам для механической обработки деталей из цветных и нержавеющих сплавов, а также декоративных изделий. Полировальная паста включает, мас.%: абразивный микропорошок на основе гидроксида алюминия и соединений железа (III) 40, окись хрома (III) 15, алюминиевую пудру 5, стеарин 15, парафин 20, олеиновую кислоту 5.
Отделочная глазурь для декоративной фактурной среды // 2528725
Изобретение относится к строительным отделочным покрытиям для стен и потолков и касается отделочной глазури для декоративной фактурной отделки. Композиция глазури для нанесения на субстрат содержит сухой порошкообразный латекс, жидкую латексную эмульсию, коалесцирующий растворитель, воск, загуститель и воду.
Композиция для связанного полировального инструмента // 2526982
Изобретение относится к оптико-механической обработке широкого класса материалов, используемых в приборостроительной, электронной и других отраслях промышленности при полировании стекла, керамики, кварца и других материалов.

Полировочная паста для термопластических полимеров стоматологического назначения // 2525434
Изобретение относится к области медицины, а именно к стоматологии, и может быть использовано для окончательной обработки съемных конструкций зубных протезов из термопластических полимеров. Полировочная паста содержит мелкодисперсный порошок частиц электрокорунда белого со средним размером частиц 1,5 мкм, стеариновую кислоту, олеиновую кислоту, твин-20 и красители-пигменты в следующем соотношении, мас.%: Олеиновая кислота 2,50-4,50, Стеариновая кислота 20,0-35,0, Твин-20 4,0-6,0, красители-пигменты 0,05-0,20, Электрокорунд белый со средним размером частиц 1,5 мкм - остальное.
Полировальная паста // 2522351
Изобретение относится к механической обработке деталей из цветных, нержавеющих и твердых сплавов, используемых в различных отраслях народного хозяйства. Полировальная паста включает, мас.%: абразивный микропорошок на основе гидроксида алюминия и оксида железа - 65, парафин - 15, стеарин - 10, олеиновую кислоту - 5, жидкое синтетическое мыло - остальное.
Способ получения лыжной смазки на основе перфторуглеродов // 2506295
Изобретение относится к способу получения лыжной смазки для обработки пластиковых лыж на основе перфторуглеродов. Способ характеризуется тем, что включает отгонку хладона, измельчение и сушку.

Способ изготовления лыжной мази // 2500705
Изобретение относится к способу изготовления лыжной мази на основе перфторуглеродов. Способ характеризуется тем, что декарбоксилированием и димеризацией перфторированных кислот C6-C9 получают перфторуглероды, которые обрабатывают в течение 0,5-2 часов раствором этанола или изопропанола, содержащим 0,5-4,5 мас.% фторсодержащих ПАВ общей формулы где RF представляет собой, по выбору, радикал C6F13-, C8F17-, или где n=1-2.

Фторсодержащий парафин в качестве смазки для обработки поверхности пластиковых лыж и способ его получения // 2473532
Изобретение относится к области спорта и отдыха, а именно к разработке новых лыжных парафинов, предназначенных для нанесения на скользящую поверхность лыжи с целью улучшения скоростных и эксплуатационных характеристик.
Абразивно-притирочная паста // 2467047
Изобретение относится к производству абразивных паст. .
 
.
Наверх