Нанесение светочувствительных слоев на подложку, способы их сушки (G03C1/74)
G03C Светочувствительные материалы для фотографических целей (фотомеханические способы и процессы G03F); фотографические способы и процессы, например кинематографические, рентгенографические, цветные, стереофотографические; вспомогательные способы и процессы в фотографии (фотографические способы, отличающиеся применением аппаратов, как таковых, отнесенных к G03B, см. G03B; фотомеханическое изготовление рельефных поверхностей или поверхностей с рисунком G03F; электрография, электрофотография, магнитография G03G)
(2822) G03C1/74 Нанесение светочувствительных слоев на подложку, способы их сушки (G03C1/496 имеет преимущество)(98)

Изобретение относится к оптоэлектронике, в частности к способу изготовления фоточувствительных материалов и устройств. Способ изготовления фоточувствительной серебро-палладиевой резистивной пленки включает формирование на поверхности диэлектрической подложки слоя резистивной пасты, состоящей из оксида серебра Ag2O, палладия, мелкодисперсных частиц стекла и органической связки.

Изобретение относится к области химии и может быть использовано для формирования нанокомпозитного покрытия на пористом слое оксида алюминия. .
Изобретение относится к области химико-фотографической промышленности и может быть использовано в производстве кинофотопродукции с фотоэмульсионным покрытием с заданными свойствами. .

Изобретение относится к способам получения фоточувствительных слоев сульфида свинца, которые применяют при изготовлении полупроводниковых приборов, чувствительных к инфракрасному излучению. .

Изобретение относится к изготовлению фотобумаги и может быть использовано при нанесении маловодосодержащей фотоэмульсии на фотобумагу. .

Изобретение относится к фотографической промышленности, а именно к способам нанесения фотографических слоев на подложку, например, светочувствительной фотоэмульсии на бумагу; причем решающим качеством нанесения является их равномерность.
Изобретение относится к изготовлению светочувствительных материалов, используемых в голографии и специальной фотографии, предназначенных для изготовления голографических оптических элементов (ГОЭ) сферической формы, требующих высокой оптической точности и чистоты поверхности слоя.

Изобретение относится к технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к способу и устройству для формирования тонких пленок, например пленок фоторезиста на полупроводниковых пластинах.

Изобретение относится к области производства фотокиноматериалов и позволяет повысить качество продукции путем регистрации пропусков полива непосредственно на движущейся подложке. .

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано на операциях фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. .

Изобретение относится к голограммной оптике. .

Изобретение относится к галогенсеребряной фотографии и может найти применение в производстве цветных пленок. .

Изобретение относится к способу формирования защитного слоя резиста и устройству для его осуществления и позволяет повысить качество защитного слоя путем исключения внутренних напряжений и уменьшения его дефектности.

Изобретение относится к технике нанесения тонких слоев жидкости на гибкие подложки и повьппает качество покрытия путем снижения разнотолщинности его по длине подложки. .

Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых иитегральньпс схем, микросборок, устройств на поверхностных акустических волнах и т.п. .

Изобретение относится к кинотехнике и позволяет повысить качество обработки фонограммы путем регулирования ширины наносимого вязкого проявителя . .

Изобретение относится к способам изготовления фотографических материалов на стеклянной подложке (фотопластин) и может быть использовано в химико-фотографической промышленности. .