Ретуширование (G03C11/04)

G   Физика(403185)
G03C     Светочувствительные материалы для фотографических целей (фотомеханические способы и процессы G03F); фотографические способы и процессы, например кинематографические, рентгенографические, цветные, стереофотографические; вспомогательные способы и процессы в фотографии (фотографические способы, отличающиеся применением аппаратов, как таковых, отнесенных к G03B, см. G03B; фотомеханическое изготовление рельефных поверхностей или поверхностей с рисунком G03F; электрография, электрофотография, магнитография G03G) (2822)
G03C11/04                     Ретуширование(16)

Состав для ретуширования фотошаблонов // 1559324
Изобретение относится к фотографии, в частности к составу для ретуширования фотошаблонов. .

Состав для ретуширования фотошаблонов // 1553948
Изобретение относится к фотографии, в частности к составу для ретуширования фотошаблонов, применяемых при изготовлении гибридных интегральных схем с размерами элементов 50 мкм и более, и для печатных плат.

Способ устранения дефектов фотошаблонов // 1365036
Изобретение относится к микроэлектронике и позволяет повысить качество восстановленных фотошаблонов, Облучсчют дефектное место фотошаблона сфокусированным лазерным излучением со стороны маскирующего слоя и со стороны основания а Осаждают продукт фоторазложения со стороны основания фотошаблона до уменьшения мощности лазерного излучения на 70- 85%, а со стороны маскирующего слоя - до получения оптически плотного слоя Показателем качества ремонта дефектов является интегральная оптическая плотность дефектного места после осаждения , определяемая фотометрированием.

Состав для ретуширования фоторезистивных слоев фотошаблонов // 1303989
Изобретение относится к микроэлектронике и радиоэлектронике и позволяет повысить точность ретуширования фоторезистивных слоев. .

Способ изготовления фотошаблонов // 1215081
Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов для микросборок, устройств функциональной электроники и печатных плат. .
 
.
Наверх