Устранение вредных эффектов, вызванных действием температуры, электрического или магнитного полей (H01J37/07)
H01J37/07 Устранение вредных эффектов, вызванных действием температуры, электрического или магнитного полей ( H01J37/073-H01J37/077 имеют преимущество)(31)
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к газоразрядным источникам электронов, и может быть использовано в электрореактивных двигателях, в том числе, работающих на химически активных газах, для нейтрализации ионного потока, а также в вакуумно-плазменной технологии обработки поверхности различных материалов и нанесения функциональных покрытий с использованием химически активных газов, а также в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Изобретение относится к электронной технике и может быть использовано для создания полностью управляемых газоразрядных электронных пушек, применяемых для плавки, сварки и размерной обработки тугоплавких металлов.
Изобретение относится к электронике и электротехнике в области термообработки металлов с целью их вакуумного плавления, испарения, наплавления, сварки, резки, для аддитивных технологий. Технический результат - повышение надежности, возможность реализации длительных технологических процессов, расширение функциональных возможностей электронно-лучевой пушки по обеспечению программно управляемых режимов нагрева в соответствии с заданными требованиями.
Изобретение относится к области генерации электронных пучков большого сечения. Технический результат - повышение эффективности генерации и вывода электронного пучка из вакуума в атмосферу или объем повышенного давления путем использования импульсно-периодического высокочастотного вспомогательного тлеющего разряда.
Изобретение относится к космической технике, в частности к катодам-компенсаторам электрических ракетных двигателей (ЭРД) электростатического типа ускорения (Холловского и ионного типа), в частности к безэлектродным плазменным источникам электронов с волновым источником плазмы.
Изобретение относится к способу генерации электронного пучка для электронно-пучковой обработки поверхности металлических материалов. Используют источник электронов с плазменным катодом с сеточной стабилизацией границы эмиссионной плазмы и плазменным анодом с открытой границей плазмы, генерируют ток электронного пучка амплитудой (5-500 А), при энергии электронов (5-30 кэВ), с диаметром пучка (5-100 мм), и плотности энергии пучка (5-200 Дж/см2), плотность мощности которого варьируют в диапазоне (2·103–106 Вт/см2) в течение импульса микро- и субмиллисекундной длительности (10-1000 мкс) в режиме его одиночных импульсов путем амплитудной и широтной модуляции пучка, пригодного для управления скоростью нагрева, плавления и остывания поверхностного слоя металлических материалов.
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к плазменным полым катодам-компенсаторам, работающим на газообразных рабочих телах. Плазменный полый катод-компенсатор содержит корпус 1, поджигной электрод 2, эмиссионный узел 3 с трубкой подвода газа 4 и размещенный между корпусом 1 и поджигным электродом 2 соосно им керамический колпачок 5, который своей боковой поверхностью 6 сопряжен с поджигным электродом посредством резьбы 7, а с корпусом при помощи клеевого соединения, заполняющего ряд сквозных отверстий 8 в корпусе 1 и канавки 9 на наружной боковой поверхности 6 керамического колпачка, резьба на поджигном электроде выполнена по меньшей мере на двух участках 7а и 7б, между которыми выполнены упругие юбки 10 и 11, расположенные относительно друг друга по схеме «ласточкин хвост», торцевая поверхность сопряжения 12 керамического колпачка выполнена под углом, близким углу наклона сопрягаемой с ним юбки, между корпусом и поджигным электродом соосно им дополнительно размещено поджимающее керамическое кольцо 13, торцевая поверхность сопряжения 14 которого выполнена под углом, близким углу наклона сопрягаемой с ним другой юбки, причем внутренняя поверхность поджимающего керамического кольца сопряжена с корпусом посредством резьбы 15, а наружная поверхность сопряжена с поджигным электродом посредством клеевого соединения.
Изобретение относится к высокояркостному источнику коротковолнового излучения на основе лазерной плазмы. Источник содержит вакуумную камеру (1) с вращающимся мишенным узлом (2), поставляющим в зону взаимодействия (3) со сфокусированным лазерным пучком (7) мишень (4) в виде слоя расплавленного металла.
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к полым катодам, работающим на газообразных рабочих телах, и может быть использовано в электрореактивных двигателях, а также в технологических источниках плазмы, предназначенных для ионно-плазменной обработки поверхностей различных материалов в вакууме, а также в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Изобретение относится к электронной технике, а именно к электронным отпаянным пушкам и ускорителям электронов, предназначенным для вывода электронного потока из вакуумной области пушки и ускорителя в атмосферу или иную газовую среду, и может быть использовано в полупроводниковой электронике для создания мощных миниатюрных структур, в квантовой электронике в электроионизационных лазерах, в медицине для стерилизации инструментов и поверхности биологических объектов, в плазмохимии для полимеризации, ускорения химических реакций, а также в других областях техники.
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к полым катодам (катодам-компенсаторам), работающим на газообразных рабочих телах, которые применяются в электрореактивных двигателях для нейтрализации ионного потока, а также в технологических источниках плазмы и в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к полым катодам, работающим на газообразных рабочих телах, и может быть использовано в электрореактивных двигателях для нейтрализации ионного потока, а также в технологических источниках плазмы, предназначенных для ионно-плазменной обработки поверхностей различных материалов в вакууме, а также в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к полым катодам, работающим на газообразных рабочих телах, и может быть использовано в электрореактивных двигателях для нейтрализации ионного потока, а также в технологических источниках плазмы, предназначенных для ионно-плазменной обработки поверхностей различных материалов в вакууме, а также в качестве автономно функционирующего источника плазмы.
Изобретение относится к электронной технике, в частности к вакуумным электронным устройствам, в том числе к СВЧ приборам O-типа с микросекундным временем готовности, в которых используются автоэмиссионные источники тока.
Изобретение относится к устройству с плазменным источником электронов. Применение устройства с плазменным источником электронов для формирования трехмерного изделия путем последовательного плавления частей по меньшей мере одного слоя порошковой основы, нанесенной на рабочий стол, части которого соответствуют последовательным сечениям трехмерного изделия, причем устройство с плазменным источником электронов содержит: разрядную камеру с катодом, в которой сгенерирована плазма, выходное отверстие, которое выполнено в разрядной камере с катодом и из которого электроны из плазмы извлечены ускоряющим полем, образованным между разрядной камерой с катодом и анодом, по меньшей мере одно устройство удержания плазмы, и переключающее средство для переключения по меньшей мере одного устройства удержания плазмы между первым значением, обеспечивающим возможность извлечения электронов из плазмы, и вторым значением, запрещающим извлечение электронов из плазмы.
Изобретение обеспечивает генерацию плотной объемной импульсной плазмы и может быть использовано для интенсификации процессов взаимодействия частиц в объеме и одновременного ограничения температуры поверхности изделий, нагреваемых ионным потоком из плазмы.
Изобретение относится к области физики газового разряда и может быть применено при разработке новых устройств сильноточной электроники, позволяющих получать ленточные пучки ускоренных электронов и мощные наносекундные импульсы тока, в плазменной технологии, электронно-лучевой технологии, экспериментальной физике, в физике газового разряда, в физике и технике газовых лазеров, при разработке коммутаторов, импульсных источников тока наносекундной длительности, импульсных источников оптического излучения с высокой яркостью, большой излучающей поверхностью и высоким КПД, плазмохимической технологии, экспериментальной физике.
Изобретение относится к области электротехники и может быть использовано в устройстве генерирования электронного луча. Техническим результатом является обеспечение возможности генерирования узкого электронного луча с малым диаметром в фокусе и высокой плотности мощности при одновременно простой конструкции и конфигурации устройства.
Изобретение относится к области оптической спектроскопии и может быть применено при разработке новых методов нестационарной оптической спектроскопии, позволяющих исследовать свойства неоднородной плазмы в области аномальной дисперсии.
Изобретение относится к способам регистрации аномальной дисперсии неоднородного протяженного плазменного столба и может быть использовано в спектроскопии в неоднородных газовых и плазменных средах, в лазерной спектроскопии и в спектральном анализе газообразных веществ.
Изобретение относится к области электронных технологий, а именно к способам нанесения рисунков в технологии изготовления полупроводниковых устройств. .
Изобретение относится к микроэлектронике и может быть использовано при производстве интегральных микросхем на активных и пассивных подложках и элементов дифракционной оптики на криволинейных поверхностях.
Изобретение относится к области электрореактивных двигателей, а именно к классу плазменных ускорителей (холловских, ионных), использующих в своем составе катоды. .
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к катодам-компенсаторам, работающим на газообразных рабочих телах, и может быть использовано в электрореактивных двигателях для нейтрализации ионного пучка, а также в технологических источниках плазмы, предназначенных для ионно-плазменной обработки поверхностей материалов.
Изобретение относится к области плазменной техники и может быть применено при разработке электронно-лучевых устройств и использовано в электронно-лучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии.
Изобретение относится к устройству для излучения заряженных частиц и к излучателям. .
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к катодам-компенсаторам на газообразных рабочих телах, и может быть использовано при разработке электрореактивных двигателей для нейтрализации ионного пучка, а также в технологических источниках ускоренных потоков для ионно-плазменной обработки поверхности материалов в вакууме.
Изобретение относится к плазменной технике, а именно к накальным катодам-компенсаторам на газообразных рабочих телах, и может быть использовано при разработке электрореактивных двигателей для нейтрализации ионного пучка, а также в технологических источниках плазмы для ионноплазменной обработки поверхности материалов в вакууме.
Изобретение относится к источникам электронного и рентгеновского излучений, которые могут применяться при исследованиях в области радиационных физики и химии, радиобиологии, а также в радиационных технологиях, например в химической промышленности, медицине и др.
Изобретение относится к области сильноточных вакуумных электродуговых устройств. .
Изобретение относится к электроракетным двигателям и можеи использоваться при их конструировании. .
Изобретение относится к плазменным технологиям нанесения пленочных покрытий и предназначено для очистки плазменного потока дуговых испарителей от микрокапельной фракции. .
Изобретение относится к плазменной эмиссионной электронике, в частности к конструкции плазменных ионных и электронных эмиттеров непрерывного действия с большой поверхностью на основе объемного разряда с холодными электродами, и может быть использовано для термической обработки в вакууме: при спекании изделий из металлических порошков, пайке, закалке, а также в технологических процессах, например, обезгаживания деталей с последующей активизацией и нанесением покрытий, когда требуется комбинация электронных и ионных пучков, решаемая в едином цикле путем переключения полярности ускоряющего частицы напряжения.
Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано при разработке электрореактивных двигателей и технологических источников ускоренных потоков для ионно-плазменной обработки поверхности материалов в вакууме.
Изобретение относится к плазменной технике, а более конкретно к плазменным катодам-компенсаторам при использовании их в плазменных ускорителях типа УЗДП, УАС, ПИУ и др., работающих на агрессивных газообразных рабочих телах (О2, N2, С, углеводороды и др.).
Изобретение относится к плазменным катодам-компенсаторам на газообразных рабочих телах и может быть использовано в электроракетных двигателях для нейтрализации ионного пучка, а также в технологических источниках, например, в ускорителях с замкнутым дрейфом электронов и протяженной зоной ускорения (УЗДП), ускорителях с анодным слоем и узкой зоной ускорения (УАС), плазменно-ионных ускорителях (ПИУ) и т.
Изобретение относится к способам управления током плазменных эмиттеров большой площади и может быть использовано в электронных и ионных источниках, генерирующих пучки с большим поперечным сечением. .
Изобретение относится к сильноточной электронике, в частности к импульсным источникам ионов, может найти применение в ускорительной технике, физике плазмы, в исследованиях по управляемому термоядерному синтезу, промышленной технологии.
Изобретение относится к области сильноточной электроники. .