Устройства для крепления или управления положением объекта или материала и устройства для регулирования диафрагм или линз, конструктивно сопряженных с опорой (H01J37/20)
H01J37/20 Устройства для крепления или управления положением объекта или материала; устройства для регулирования диафрагм или линз, конструктивно сопряженных с опорой (подготовка образцов для исследований G01N1/28)(49)
Группа изобретений относится к приготовлению образца для минералогического анализа в электронно-лучевой системе в нефтегазовой и горнодобывающей отраслях. По первому варианту способа забирают минералогический образец для анализа, сушат его и отделяют от собранного образца более мелкую представительную аликвоту и помещают вместе аликвоту и оба компонента быстросхватывающегося двухкомпонентного фиксирующего состава на основе эпоксидной смолы в форму образца.
Изобретение относится к области литографии и касается опорной структуры подложки. Прижатие подложки к поверхности опорной структуры осуществляется посредством капиллярного слоя жидкости.
Изобретение относится к области микроэлектронной техники и может быть использовано при разработке технологического и тестового оборудования. .
Изобретение относится к области научного приборостроения и может быть использовано при выпуске просвечивающих электронных микроскопов. .
Изобретение относится к области оптики и предназначено для использования в качестве дефлектора в системах управления положением оптического луча в пространстве. .
Изобретение относится к технике электронной микроскопии, в частности к устройствам для наклона столиков объектов в растровых электронных микроскопах. .
Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано в электронной спектроскопии. .
Изобретение относится к электроннозондовой технике и может быть использовано для исследования слоистых материалов. .
Изобретение относится к вакуумным манипуляторам высоковакуумных установок для электронной спектроскопии. .
Изобретение относится к устройствам для точного дистанционного позиционирования образца и может быть использовано, например, в растровых туннельных микроскопах. .
Изобретение относится к технике электронной микроскопии. .
Изобретение относится к диафрагмирующим управляемым устройствам электронной микроскопии и может использоваться в качестве исполнительного механизма, работающего автономно в вакууме. .
Изобретение относится к области вакуумного машиностроения и может быть использовано в вакуумных установках для нанесения пленочных материалов и для проведения исследований материалов в сверхвысоком вакууме.
Изобретение относится к туннельной электронной микроскопии и может быть использовано в приборах для исследования физических свойств поверхностей твердых тел с разрешающей способностью порядка размеров атомов.
Изобретение относится к электровакуумным приборам и может быть использовано для управления положением объектов в растровом электронном микроскопе. .
Изобретение относится к электронной технике. .
Изобретение относится к области приборостроения и может быть использовано при анализе эмиттированных поверхностью твердого тела частиц по направлению, энергии и массе в сверхвысоковакуумных установках .
Изобретение относится к электронной спектроскопии. .
Изобретение относится к приборостроению . .
Изобретение относится к области электронной микроскопии и может быть использовано при конструировании устройств для перемещения объектов в просвечивающих электронных микроскопах . .
Изобретение относится к технике микроскопии и может быть использовано при исследовании физических свойств металлов в условиях сочетания ультразвукового и статического воздействий на кристаллы и непосредственного изучения этих структур в ,..
Изобретение относится к приборостроению . .