Аппарат для очистки растворов от примесей
Изобретение относится к устройствам для адсорбционной очистки растворов от примесей и может быть использовано в любой отрасли народного хозяйства. Цель изобретения - интенсификация процесса очистки за счет равномерного распределения жидкости по сечению аппарата. Аппарат для очистки растворов от примесей состоит из корпуса с днищем, верхней и нижней решеток, несущей конструкции для нижней решетки, штуцеров для подачи раствора. Нижняя решетка имеет в центре и на периферии различные площади свободного сечения, выбранные из соотношения: S = (0,75-0,85) S<SB POS="POST">1</SB>, где S - площадь свободного сечения кольца решетки, см<SP POS="POST">2</SP>, ограниченной стенкой колонны и окружностью радиусом R<SB POS="POST">1</SB>, равным 0,5-0,6 радиуса аппарата R, S<SB POS="POST">1</SB> - площадь свободного сечения центральной части решетки, см<SP POS="POST">2</SP>, ограниченной радиусом R<SB POS="POST">1</SB>. Несущая конструкция под решетку выполнена в виде цилиндров с прорезями в нижней части, а каждый штуцер для подачи раствора состоит из двух патрубков, расположенных под углом 105-130°. 3 ил.
(19! (11«
4 1. А1 сб>1) 1 В 01 D 15/08
ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ
H А BTOPCHOMV СВИДЕТЕЛЬСТВУ,3<Ф" * («>(< .фР.» Ф, СОЦИАЛИСТИЧЕСНИХ ф == РЕСПУБЛИК .г
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ
ПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИРМ
ПРИ ГКНТ СССР (21 ) 4182884/2 1-2( (22) 17.10.86 (46) 23.07.89. Е1юл. 1) 27 (72) A. И. СTpff« I(If, Л.11.1",î A. В. Вербицк«<й и В.11. Зд! лу< оцкий (53) 66.0/1. 7(088. 8) (56) Лнторское снидете 1«.c Tff<> СССР И 627089, кл. В 01 Е! 53/04. (54) ЛЕПЕЛРЛТ ДЛЯ ОЧИСТЕ11 РЛСТВОЕ>011 ОТ 11РИ1 11:С!:11 (57) 11зо p< тение <>Tlf(>ci(T< к устройствам Длн B«lc t30p0н О Ilримс cell if мОже т быть ((( поль".Ивано B «!(Обоll отрдсл(! ((арОдff(>! о хо:3яйстна. 1(ель !( 11елью I<.fît)ðåòeíèÿ я(!ляется интенсификация проц сс(! очистки зд счет равномерного распределения жидкости по сечению аш(дрдт;I. 11а фиг. 1 изобр((жен аппарат, общий нид; на фиг. 2 — рдзре 3 Л-Л на фи! . 1; «I;l ф!« . 3 — IIII>t tlftft решетка. Лппдрдт с.ос г >(ш ifз корпус I 1, ш(жней р» lite TI(ll и Орхнеи решетки 3, мс>жду кот< рыми <..<< > н<,>н пог (отитель, крышки 4,,(Ill!If(3, ш гуll(р н для пода2 ит из корпуc 3 с дшняем, нерхней и k!It>f ffeIl решеток, нс с ушей конструкции, ×Ï«f tfIt>f(I!et(P(".liC тхtf, !(IT)>tie PC>(3 ДПЯ ПО дачи раствора. 11иж((яя petite TI ft имеет н цс итре и на пе(>ftgepftft p;lçJIIt÷«t(tå пл,>щади свобод((с>го сечения, выбран««te из соотношения: S = (0,750,85) Sf, где S — площадь сff(3бодного г с ечения кольца pet!t<.тки, см, ограниченного стенкой ко:(онны и окружностью радиусом R,, равным 0,5-0,6 pa;Iffy(а аппарата R; S, — площадь сноб(>двого сечения цсигрдльной части и p(шегки, см, of ра(ш (енной радиусом 1(, . 13есущдя конструкция под решетку выполнена в в((де l,It(ièff.>(ðîtf с прорезями в ниж«(е и ч д <- ти, д к аждый штуцер для пода (и p;I(тнора состоит из д в ух пдтруб ко(3, p(IC lio it(»I el«t»tx под угло. 105-1 30 . ил . чи 6 и ныл<од 7 р;(ствKe((ных пОд vl лом 3tpуl и дp) гv< ОГ(Ор 8 в виде ц((чинг((>он <- пр< резями 9 н нижней части. 11д споры 8 уложена с наклоном ш(жняя рс I;ie ãê(f 2, имеющая н <центре и нд пери 1>ер(<и различные IIJI(> щади свободного с .чс IIII «(соотношение 8>< между которыми с< ст<(н (яет -- = О, 750,85, где S — ((л<яя;3,(ь < нободного ce!— чеш(я копьцд ре(п(гкii, рдииченного стенкой колоншl if . !.ру+If 8, пл<>и((3,(! с !«>б.> > II< 1 <> cс .<(e (и(я )(e нT ральной части реги ткii, <>грдниченной ради"сом Rt, рднн(м О,;-0,7 R. 3 149492 При соотношении площадей S,< 0,75 S не достигается оптимальная равномерность распределения потока, так как поток будет двигаться в центре аппарата быстрее, при соотношении S ) 0,85 S поток будет двигаться в центре медленее и отставать от фронта его у стенок. Вводной штуцер 6 выполнен иэ двух патрубков с углом между ними 105О 130 для создания равномерного распределения потока очищаемого раствора по площади днища. Если угол между патрубками меньше о 105, то очищаемый раствор будет подаваться около стенки аппарата и скорость движения потока у стенки будет больше, чем в центральной части; если угол больше 130, то раствор будет подаваться ближе к центру аппарата и скорость движения потока в центральной части будет больше, чем у стенок. Лппарат работает следующим образом. На нижнюю решетку 2 засыпан адсорбент, например модифицированный комплексообраэователем и немодифицированный уголь (послойно). На сорбент укладывают решетку 3 и аппарат закрывают крьш кой 4. Подачу раствора в аппарат осуществляют через угловые штуцера 6, расположенные под углом 120 в плане. Раствор выходит из штуцеров 6 и, попадая на поверхность днища 5, рассекается о его поверхность, за счет чего происходит выравнивание потока раствора на площади наружного кольца днища. Затем раствор проникает через прорези 9 опор 8, проходит решетку 2 и адсорбент. При прохождении раствора через угловые штуцера 6, прорези 9 и ре30 1 4 шетку 2 происходит выравнивание потока раствора по всему сечению колонны. При этом не наблюдается смещения модифицированного слоя сорбента по высоте аппарата. Очищенный раствор непрерывно выводится через штуцера 6. Использование изобретения позволит обеспечить равномерность подачи раствора по сечению колонны, что приведет к более эффективному использованию адсорбента по всему сечению аппарата и следовательно, к более высокой степени очистки раствора от примесей. Ф о р м у л а и э о б р е т е н и я Лппарат для очистки растворов от примесей, включающий вертикальный цилиндрический корпус со штуцерами для подачи и вывода раствора, внутри которого размещены верхняя и нижняя перфорированные решетки со сЛоем поглотителя между ними и опоры для нижней решетки, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью интенсификации процесса очистки за счет равномерного распределения жидкости по сечению аппарата, нижние .части опор имеют прорези, штуцера для подачи раствора выполнены иэ двух патрубков с о углом между ними 105-130, а нижняя решетка имеет в центре и на периферии различные площади свободного сечения, соотношение между которыми Я составляет — = 0 75-0 85 где S 1 1 1 1 площадь свободного сечения центральной части решетки, ограниченной радиусом R > равным О, 5-0, 72 R, где R — радиус аппарата; S — площадь свободного сечения периферийной части решетки. 1494921 Фие. 2 14 9-4921 Составитель И. Рог 3 ft H l Редактор 0.Урковецкая Техред A.Êðàâ÷óê Корректор И.Иаксимишинец Заказ 41 5/3 Тираж 600 Подписное ВНШ1ПИ Государственного комитета по иаобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Иосква, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5 11роизводственно-иадательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул. Гагарина, 101
