Способ контроля чипов на пластине

 

Использование: Изобретение относится к электронно-лучевому контролю изделий микроэлектроники, Целью изобретения яв-. 2 ляется повышение производительности процесса контроля чипов на пластине за счет исключения операции кривизны координат растра к координатам топологии исследуемого чипа. Сущность изобретения: во время контроля чипа пластину жестко фиксируют относительно электронно-оптцческой системы, а переход от одного участка поверхности чипа к следующему осуществлякэт путем перемещения анализатора энергии электронов относительно неподвижной пластины в направлении движения электронного пучка, перемещающегося от узла к узлу. Искомые величины определяются по спектральным характеристикам вторично-эмиссионного сигнала.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК,, 1Ц,, 1798834 А1

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (54) СПОСОБ КОНТРОЛЯ ЧИПОВ НА ПЛАСТИНЕ (57) Использование: Изобретение относится к электронно-лучевому контролю изделий микроэлектроники, ЦельЮ изобретения явИзобретение относится к области алек- лах первого участка. Подают через зондотронно-лучевоготехнологическогоконтроля. вую головку йа чип питающие и рабочие. иэделий микроэлектроники. напряжения и начинают последовательное

Целью изобретения является повыше- зондирование узлов, постепенно переме- д ние производительностй способа, щая пучок s сторону следующего контролиПримером конкретного выполнения руемого участка, Причем при облучении способа является процедура контроля рас- каждого узла измеряют величину сдвига пределения потенциалов в электрйческих спектра вторичных электронов и определя- О© цепях чипов для ИС К133, ют по этой величине потенциал узла. Одно- ©©

Кремниевую пластину устанавливают в .временно с этим, по мере перемещения Од. объектодержатель и совмещают центр пер- пучка, осуществляют перемещение знали- .фЬ лого контролируемого участка первого чипа автора внергиа алектро нов. И твк до тех пор, с центром приемного окна анааиваторв. пока есе учвсткй поверхности чипа не будут далее опускают на пластину асндоаую го- просканированы и протестирсваны. Затем .ловку до образования омических контак-.. осуществляют переход к следующему чипу тов между зондами головки и контактными и повторяют- всю последовательность опеплощадками чипа. После этого сканируют раций. поверхность чипа электронным пучком:; ре- - Ф о р м ул а и з о б р е т е н и я гистрируют видеосигнал топологиси участка Способ контроля, чипов на пластине, чипа и по видеосигналу определяют коцорди- твлключающгий размещение пластины относинаты тестируемых узлов, лежащих в праде- тельно анализатора энергий электронов, 1 (21) 4780040/24-21.

{22) 09.01,90 (46) 28,02.93, Бюл, N. 8 (71) Московский институт электронного машиностроения (72) B.Â.Ðûáàëêî (56) Авторское свидетельство СССР

Nã 1507119, кл. Н 01 J 37/26, 1986.

Патент CWA

М 4532423, кл, 250 — 310, 6 01 и 23/00, 1985. ляется повышение производительности процесса контроля чипов на пластине за счет исключения операции кривизны координат растра к координатам топологии исследуемого чипа. Сущность изобретения: во время контроля чипа пластину жестко фиксируют относительно электронно-orngueской системы, а переход от одного участка поверхности чипа к следующему осуществляют путем перемещения анализатора энергии электронов относителЬно неподвижной пластины в направлении движения электронного пучка, перемещающегося от узла к узлу. Искомые величины определяются по спектральным характеристикам вто- рично-эмиссионного сигнала.

1798834 подачу на контактные площадки чипа питающих и рабочих напряжений, формирование с помощью электронно-оптической системы электронным пучком растра на поверхности чипа, расположенной в пределах приемной апертуры анализатора энергии электронов, последовательное облучение электронным пучком контролируемых узлов электрической цепи чипа, лежащих в пределах участка поверхности, ограниченно о приемной апертурой" анализатора, регист-. рацию спектральных характеристик вторично-эмиссионного сигнала, определение по эарегистрированным данным йскомйх ве

4 личин и переход к следующему участку поверхности чипа путем относительного перемещения пластины и анализатора энергий электронов, отл ич а ю щи и с я тем, что, 5 с целью повышения производительности способа, во время контроля чипа пластину жестко фиксируют относительно электрон.но-оптической системы, а-переход от одного участка поверхности чипа к следующему

1О осуществляют путем перемещения аналиэатора энергии электронов относительно неподвйжной пластины в направлении электронного пучка, перемещающегося от узла к узлу.

Составитель 8л "ыбалао

Редактор С.Егорова Техред M.Ìîðãeíòàë . Корректор П.Гереши

Заказ 775 Тираж: -:: ..: Подписное

8НИИПИ Государственного комитета по иэобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж 35. Раушская наб., 415

Производственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гагарина, 101

Способ контроля чипов на пластине Способ контроля чипов на пластине 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к способам подготовки образцов для анализа методами электронной микроскопии

Изобретение относится к исследованию поверхности методом туннельной микроскопии

Изобретение относится к структурным исследованиям поверхности с использованием туннельного эффекта

Изобретение относится к устройствам для микроанализа образца, Целью изобретения является расширение диапазона изменении и точности микроанализа образца зи счет изменения в ходе эксперимента выхода вторичного излучения в двух или более противоположно-симметричных направлениях относительно точки возбуждения

Изобретение относится к электронной микроскопии и может быть использовано при документировании результатов исследований

Изобретение относится к электронным вакуумным приборам, в частности к эмиссионным микроскопам и видеоусилителям, и раскрывает способ визуализации и увеличения изображений исследуемых объектов

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, а более конкретно к устройствам, обеспечивающим наблюдение, измерение и модификацию поверхности объектов в туннельном и атомно-силовом режимах

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, а именно к устройствам, обеспечивающим наблюдение, измерение и модификацию поверхности объектов в туннельном и атомно-силовом режимах

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, к устройствам, обеспечивающим наблюдение, измерение и модификацию поверхности в многоигольчатом комплексном режиме работы

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, к устройствам, обеспечивающим наблюдение, измерение и модификацию поверхности объектов в туннельном и атомно-силовом режимах в условиях сверхвысокого вакуума и в широком диапазоне температур

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, а именно к устройствам, обеспечивающим наблюдение, изменение и модификацию поверхности объектов в туннельном и атомно-силовом режимах

Изобретение относится к нанотехнологическому оборудованию, к устройствам, обеспечивающим наблюдение, измерение и модификацию поверхности объектов в режиме сканирующего туннельного микроскопа (СТМ) или атомно-силового микроскопа (АСМ)
Наверх