Очистка (C01B7/07)
Изобретение относится к черной металлургии и химической промышленности, в частности к процессам травления углеродистых и специальных сталей оборотной соляной кислотой, и может быть использовано для регенерации отработанных травильных растворов с попутным получением порошка чистого оксида железа.
Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Для получения HCl из HCl-содержащего газового потока указанный HCl-содержащий газовый поток с температурой от -20°C до 25°C подают в установку адиабатической абсорбции, где его приводят в контакт с водой, взятой в качестве абсорбента.
Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Для концентрирования и отделения хлоридов металлов в/из содержащего хлорид железа (III) раствора соляной кислоты хлорид железа (III) превращают путем гидролиза в гематит и осаждают его из указанного раствора.
Изобретение может быть использовано в химической промышленности при очистке отходящих потоков, образующихся в результате фосгенирования аминов с получением соответствующих изоцианатных компонентов. Проводят сепарацию исходного потока текучей среды, включающего в себя фосген и хлорид водорода, на, по меньшей мере, первый и второй потоки текучей среды.
Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Способ производства хлористого водорода высокой чистоты включает очистку водорода и хлора путем удаления из них воды и кислорода.
Изобретение может быть использовано в химической промышленности. Для переработки отходов растворов хлорида железа, содержащего хлорид железа(II), хлорид железа(III) или возможные смеси этих веществ и необязательно свободную хлористоводородную кислоту указанные отходы концентрируют при пониженном давлении до получения концентрированной жидкости, с общей концентрацией хлорида железа, по меньшей мере, 30 мас.%, предпочтительно, по меньшей мере, 40 мас.%.
Изобретение относится к способу совместного получения ароматических изоцианатов и хлора. .
Изобретение относится к основному неорганическому синтезу и может быть использовано в хлорной промышленности. .
Изобретение относится к очистке хлористоводородной кислоты. .
Изобретение относится к технологии получения высокочистых соединений (кислот) с уровнем содержания микропримесей 1-0,01 ррв (10-7-10-9 мас.), которые применяются в качестве травителей при производстве полупроводниковых приборов, в частности волоконной оптики, и в других высоких технологиях.
Изобретение относится к технологии получения оксида железа высокой чистоты, который находит все более широкое применение в различных областях современной техники, например для производства ферритов и аккумуляторов.
Изобретение относится к очистке хлористого водорода, используемого в химической и электронной промышленности, и способствует повышению степени его чистоты. .
Изобретение относится к способам очи стки хлористого водорода, получаемого в качестве побочного продукта при синтезе эфиров ортокремниевой кислоты и содержащего примеси . .
Изобретение относится к области утилизации солянокислых стоков производства кремнийорганических соединений и позволяет получать из них очищенную соляную кислоту. .