В п т бфонд знсиертоеполиграфин

 

Союз Советских

Социалистинеских

Республик

О П И С А Н И Е 406I83

ИЗОБРЕТЕН ИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Зависимое от авт. свидетельства №вЂ”

Заявлено 14.Х11.1971 (№ 1724617!28-12) М. Кл. G 03f 7 10 с присоединением заявки №вЂ”

Государственный комитет

6овета Министров СССР оо делам изобретений и открытий

Приоритет—

Опубликовано 05.XI.1973. Бюллетень № 45

Дата опубликования описания 20.VIII.1974

УДК 655.22(088.8) ПТБ

Авторы изобретения

Г. Я. Крикман, Е. А. Никанчикова и В. П. Сорокин

Заявитель Всесоюзный научно-исследовательский институт комплексных проблем полиграфии

СОСТАВ ДЛЯ КОРРЕКТУРЫ ОФСЕТНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ (Предмет изобретения

Изобретение относится к одному из разделов полиграфии, а .именно к,корректуре офсетных,печатных форм на предварительно очувствленных пластинах с применением светочувствительных хинондиазидов.

При осуществлении, известного способа корректуры офсегных,печатных форм после проявления копию промывают водой, удаляют

;избыток воды, сушат, затем устраняют дефекты нанесением тонкого слоя щелочного состава, сгущенного натр иевой солью карбоксиметилсселлюлозы с добавлением органического растворителя. По окончании корректуры сосгав удаляют водой. Вследствие травящего действия щелочи, содержащейся в составе, возможно повреждение печатающих .элементов. Кроме того, этот состав для корректуры, имеет замедленное действие из-за ограниченной возможности введения в него органического растворителя.

Целью изобретения является повышение качества корректуры.

Поставленная цель достигается тем, что предлагаемый состав содержит 1 — 1,2 вес. ч, полиэтиленгликоля-35 и 1 вес. ч. диметилформам;ида.

Способ состоит в следующем.

После, проявления копию тщательно промывают водой, затеы избыток воды удаляют резиновой раклей. Дефекты на копии устраняют,нанесением с помощью кисти тонкого слоя состава, содержащего 1 — 1,2 вес. ч. полиэтнленгликоля-35,и 1,вес. ч. диметилформами1р да. По оконча нии,корректуры .копии состав удаляют струей воды. Последовательность .операций по дальнейшей обработке коп ии остается той же, которая принята при изготовлении форм с .использованием копироваль15 ного слоя на основе хинондиазидов.

Состав для корректуры офсетных печатных

20 форм на предварительно очувствленных плаcTIHH3x íà ос нове хинондиазидов, отличаюu1uucÿ том, что, с целью .повышения качества корректуры, он содержит 1 — 1,2 вес. ч. полиэтиленгликоля-35,и 1 вес. ч. диметнлформамида.

В п т бфонд знсиертоеполиграфин 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии

Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат

Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Наверх