Приборы с ионным пучком (H01J27)

H01J     Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы (искровые разрядники H01T; дуговые лампы с расходуемыми электродами H05B; ускорители элементарных частиц H05H) (10498)
H01J27                 Приборы с ионным пучком (H01J25,H01J33 и H01J37 имеют преимущество; ускорители элементарных частиц H05H)(240)

Устройство для обработки изделий быстрыми атомами // 2778246
Изобретение относится к устройству для обработки изделий быстрыми атомами. Устройство содержит вакуумную камеру, установленный внутри вакуумной камеры анод, включенный между анодом и вакуумной камерой источник питания разряда, установленный на вакуумной камере полый корпус, установленный в торце полого корпуса съемный фланец-держатель обрабатываемых изделий, установленный на полом корпусе высоковольтный ввод напряжения, генератор высоковольтных импульсов напряжения, соединенный положительным полюсом с вакуумной камерой, а отрицательным полюсом с высоковольтным вводом напряжения.

Трехэлектродная ионно-оптическая система // 2766430
Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к ионным системам, и может быть использовано в области ракетно-космической техники при разработке и сборке ионно-оптических систем (ИОС) ионных двигателей, ионных пушек и ионных ускорителей.

Магнетронное распылительное устройство // 2761900
Изобретение относится к устройствам ионно-плазменного распыления в скрещенных магнитном и электрических полях и может быть использовано в качестве базового распылительного оборудования. Технический результат изобретения - повышение эффективности использования оборудования в составе системы вакуумного распыления в магнетронах и установках катодного осаждения за счет повышения общего эксплуатационного ресурса мишени, а также упрощение конструкции устройства и повышение надежности при эксплуатации.

Устройство для усиления и генерации свч сигналов в водной среде // 2759447
Изобретение относится к области усиления и генерации электромагнитного излучения. Технический результат – повышение выходной мощности.

Плазменный эмиттер импульсного форвакуумного источника электронов на основе дугового разряда // 2759425
Устройство относится к области плазменной техники и может быть применено при разработке электронно-лучевых устройств, а также использовано в электроннолучевой технологии, экспериментальной физике, плазмохимической технологии.

Устройство для обработки диэлектрических изделий быстрыми атомами // 2752877
Изобретение относится к области обработки диэлектрических изделий ускоренными ионами или быстрыми атомами и предназначено для травления канавок с высоким аспектным отношением и получения изделий с повышенными механическими и электрофизическими характеристиками поверхности за счет имплантации в нее легирующих элементов.

Газоэлектрическая развязка газоразрядного узла ионного источника и способ изготовления её основных деталей // 2752857
Изобретение относится к системам газоснабжения газоразрядных узлов ионных источников и может быть использовано для газоразрядных источников ионов, применяемых в электроракетных ионных двигателях, технологических изделиях, обрабатывающих материалы в вакууме, и космических ионных источниках, взаимодействующих с объектами космического мусора.

Источник ионов // 2749668
Изобретение относится к плазменной технике. Технический результат - увеличение ресурса, повышение надежности и упрощении конструкции источника ионов за счет исключения сеточных или перфорированных электродов, при этом обеспечивается независимое регулирование плотности тока и энергии ускоренных ионов.

Устройство и способ устранения колебаний оптического разряда // 2738461
Изобретение относится к области широкополосного оптического излучения и может быть применено в микроэлектронике, спектроскопии, фотохимии и других областях. Устройство устранения колебаний оптического разряда состоит из разрядной камеры, прозрачной для входного лазерного излучения и выходного оптического излучения, заполненной газовой смесью, одного или нескольких лазеров, расположенных снаружи разрядной камеры, излучение которых сфокусировано вблизи центра разрядной камеры.

Способ подавления неустойчивостей оптического разряда // 2735948
Изобретение относится к способам подавления неустойчивостей оптического разряда для стабилизации широкополосного оптического излучения с высокой спектральной яркостью и представляет интерес для приложений в микроэлектронике, спектроскопии, фотохимии и других областях.

Способ предотвращения колебаний оптического разряда // 2734111
Изобретение относится к способу предотвращения колебаний оптического разряда с целью стабилизации широкополосного оптического излучения с высокой спектральной яркостью и представляет интерес для приложений в микроэлектронике, спектроскопии, фотохимии и других областях.

Устройство для нанесения наночастиц оксидов металлов на металлическую поверхность при нормальных условиях // 2733530
Изобретение относится к области масс-спектрометрии и найдет широкое применение при решении аналитических задач органической и биоорганической химии, иммунологии, биотехнологии, криминалистике, протеомике, метаболомике и медицины, метабономики и посттрансляционной модификации.

Способ регулирования выходной мощности в резонансных высокочастотных генераторах источников плазмы // 2729778
Изобретение относится к области плазменной техники. Способ включает разделение работы генератора на две чередующиеся фазы, при этом во время первой фазы на выходе усилителя формируют прямоугольный сигнал, отслеживают и компенсируют фазовый сдвиг между выходным напряжением полумоста и выходным током, обеспечивая резонансный режим работы, а во время второй фазы на выходе усилителя формируют нулевое напряжение, при этом управляют длительностью обоих фаз и обеспечивают регулировку средних значений выходного тока и выходной мощности генератора.

Магнетронное распылительное устройство // 2726223
Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано для осаждения покрытий на изделия в вакууме. Магнетронное распылительное устройство содержит плоскую круглую мишень, являющуюся катодом тлеющего разряда, магнитную систему, один из полюсов которой прилегает к центру внешней поверхности мишени, вакуумную камеру, являющуюся анодом тлеющего разряда, и источник питания тлеющего разряда, соединенный отрицательным полюсом с мишенью, а положительным полюсом - с вакуумной камерой, снабжено охватывающим мишень и соединенным с ней электрически цилиндрическим электродом, а второй полюс магнитной системы прилегает к внешней поверхности цилиндрического электрода.

Устройство для обработки изделий быстрыми атомами // 2726187
Изобретение относится к машиностроению, в частности к устройствам для обработки поверхности изделий быстрыми атомами с целью получения изделий с повышенными механическими и электрофизическими характеристиками поверхности за счет имплантации в нее легирующих элементов и формирования в ней субмикрокристаллической структуры.

Источник интенсивных пучков ионов на основе плазмы эцр разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2726143
Изобретение относится к области формирования интенсивных пучков ионов с высокой яркостью путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.

Источник пучков ионов с высоким током на основе плазмы эцр разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2725615
Изобретение относится к области формирования непрерывных сильноточных пучков ионов путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.

Устройство и способ формирования пучков многозарядных ионов // 2716825
Изобретение относится к области ускорительной техники и может быть использовано для формирования пучков (потоков) низкоэнергетических двух- и трехзарядных ионов щелочноземельных и редкоземельных металлов в установках для ионной имплантации и литографии, микрозондового анализа, в ионно-лучевых приборах для модификации поверхности, а также при разработке квантовых компьютеров и атомных часов.

Электротермический ускоритель твердых тел // 2716276
Изобретение относится к ускорительной технике, а именно, технике моделирования воздействия микрометеоритов и частиц космического мусора на элементы конструкции и конструкционные материалы космических аппаратов.

Источник быстрых нейтральных молекул // 2716133
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, а именно к источникам быстрых нейтральных молекул, преимущественно к источникам потоков большого поперечного сечения быстрых нейтральных молекул для травления и нагрева изделий в рабочей вакуумной камере, в частности, перед нанесением на них покрытий с целью повышения адгезии и качества покрытий.

Устройство источника плазмы несамостоятельного газового разряда с эффектом полого катода // 2711344
Изобретение относится к области ионно-лучевой вакуумной обработке материалов и может быть использовано в плазменных источниках заряженных частиц и, в частности, в машиностроении для упрочнения режущего инструмента, повышения эксплуатационных свойств деталей машин и механизмов.

Газоэлектрическая развязка // 2703848
Изобретение относится к плазменной технике. Газоэлектрическая развязка (ГЭР) входит в состав тракта подачи рабочего тела в газоразрядную камеру источника заряженных частиц.

Устройство для синтеза покрытий // 2702752
Изобретение относится к машиностроению, в частности к устройствам для синтеза покрытий на изделиях в рабочей вакуумной камере. Устройство для синтеза покрытий содержит рабочую вакуумную камеру, установленное внутри последней с образованием зоны вращения изделий устройство планетарного вращения изделий, источник напряжения смещения, соединенный положительным полюсом с рабочей вакуумной камерой, а отрицательным полюсом с устройством планетарного вращения изделий, мишени планарных магнетронов на стенках рабочей вакуумной камеры и источники электропитания магнетронов, соединенные отрицательными полюсами с соответствующими мишенями, дополнительно снабжено установленным внутри зоны вращения изделий на оси рабочей вакуумной камеры и изолированным от нее стержневым анодом, соединенным с положительными полюсами источников электропитания магнетронов.

Источник быстрых нейтральных молекул // 2702623
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, а именно к источникам быстрых нейтральных молекул, преимущественно к источникам потоков большого поперечного сечения быстрых нейтральных молекул для травления и нагрева изделий в рабочей вакуумной камере, в частности, перед нанесением на них покрытий с целью повышения адгезии и качества покрытий.

Сильноточный источник ионов на основе плотной плазмы эцр разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2697186
Изобретение относится к области создания непрерывных пучков ионов путем их экстракции из плотной плазмы, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн. Технический результат - повышение тока пучков ионов при сохранении заданного среднего заряда ионов.

Фотонный нейтрализатор для инжекторов пучков нейтральных частиц // 2696268
Изобретение относится к безрезонансному фотонейтрализатору для инжекторов пучков нейтральных частиц на основе отрицательных ионов. Конструкция безрезонансного фотонейтрализатора предусматривает безрезонансное накопление фотонов, при этом траектория фотона становится запутанной и заключенной в определенном объеме пространства, т.е.

Устройство ввода энергии в газоразрядную плазму // 2695541
Изобретение относится к устройствам высокочастотного возбуждения и поддержания разряда газоразрядной плазмы в ионных источниках, ионных двигателях космических аппаратов с преобразованием энергии источника постоянного напряжения в радиочастотную электромагнитную энергию поля индуктора, взаимодействующего с объемом плазмы через взаимную индуктивность.
Электрод ионного двигателя и способ его изготовления // 2692757
Изобретение относится к космической технике и касается высокочастотных ионных двигателей. Электрод ионного двигателя, содержит равномерно распределенные по поверхности круглой или прямоугольной формы отверстия размером 1,2-4,6 мм и перемычки между ними шириной 0,4-2,4 мм и выполнен из (УУКМ) на основе каркаса слоистой структуры из высокомодульных углеродных волокон и коксо-пироуглеродной матрицы; при этом углеродные волокна (УУКМ) входят в состав однонаправленной ленты толщиной 0,07-0,11 мм и расположены в УУКМ детали под углом 60 или 90 градусов друг к другу для отверстий круглой и квадратной формы соответственно.Технический результат изобретения - повышение ресурса работы ускоряющего электрода и эмиссионного электрода ИОС, а также повышение их прочности и размерной точности, высокой чистоты поверхности и упрощение технологии изготовления.

Способ генерации широкополосного оптического излучения с высокой яркостью // 2680143
Изобретение относится к способам генерации широкополосного оптического излучения с высокой спектральной яркостью и представляет интерес для приложений в микроэлектронике, спектроскопии, фотохимии, медицине и других областях.

Устройство для формирования квазинейтрального пучка противоположно заряженных частиц // 2676683
Изобретение относится к области плазменной техники. Устройство содержит: камеру (20); набор средств (31, 30, 40, 58) для формирования ионно-электронной плазмы в камере (20); средство (50) для извлечения и ускорения заряженных частиц плазмы из камеры (20), причем указанные частицы могут формировать пучок, а средство (50) извлечения и ускорения содержит набор по меньшей мере из двух сеток (51, 54), расположенных на одном конце камеры; радиочастотный источник (52) переменного напряжения для генерации сигнала, радиочастота которого составляет величину между ионной плазменной частотой и электронной плазменной частотой, причем радиочастотный источник (52) напряжения соединен последовательно с конденсатором (53) и соединен одним из своих выходов, через указанный конденсатор (53), с одной из двух сеток (51, 54) указанного набора из по меньшей мере двух сеток (51, 54), причем по меньшей мере одна другая сетка из набора по меньшей мере двух сеток (51, 54) находится под опорным потенциалом, либо она соединена с другим выходом радиочастотного источника (52) напряжения.

Импульсный источник водородных ионов с осцилляцией электронов в неоднородном продольном магнитном поле // 2671960
Изобретение относится к области ускорительной техники. Использование кольцевого концентратора продольного магнитного поля на антикатоде для ограничения расширения канала разряда в водороде с целью интенсификации плотности разряда по оси отверстия ионной эмиссии и выполнение торцевых скосов на аноде для устранения возможных «закороток» анод-катод продуктами распыления катода и антикатода.

Сильноточный источник пучков ионов на основе плазмы электронно-циклотронного резонансного разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2660677
Изобретение относится к средствам формирования сильноточных пучков ионов путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.

Устройство для синтеза покрытий на диэлектрических изделиях // 2658623
Изобретение относится к устройству для синтеза покрытий на диэлектрических изделиях. Устройство содержит рабочую камеру, устройство планетарного вращения изделий, установленное внутри камеры с образованием зоны вращения изделий, мишени планарных магнетронов на стенках камеры, источники их электропитания, соединенные отрицательными полюсами с мишенями, а положительными полюсами - с камерой, дополнительно содержит изолированную от камеры и установленную внутри зоны вращения изделий полую цилиндрическую электропроводную сетку, ограниченную на торцах дисками из электропроводящего материала, и источник импульсов высокого напряжения, положительным полюсом соединенный с камерой, а отрицательным полюсом соединенный с сеткой.

Устройство для осаждения покрытий // 2656480
Изобретение относится к машиностроению, в частности к устройствам для осаждения износостойких покрытий на изделиях в вакуумной камере. Устройство для осаждения покрытий на изделиях 3 содержит рабочую вакуумную камеру 1, мишени 4-7 планарных магнетронов на стенках камеры, источники питания 8-11 магнетронных разрядов, отрицательными полюсами соединенные с мишенями, дополнительный изолированный от камеры 1 и установленный внутри нее электрод 12 и источник постоянного тока 13, отрицательным полюсом соединенный с камерой 1, а положительным полюсом соединенный с электродом 12 и с положительными полюсами источников питания магнетронных разрядов.

Источник пучка ионов на основе плазмы электронно-циклотронного резонансного разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2650876
Изобретение относится к области формирования сильноточного пучка ионов путем его экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.

Сильноточный источник пучка ионов на основе плазмы электронно-циклотронного резонансного разряда, удерживаемой в открытой магнитной ловушке // 2649911
Изобретение относится к области формирования сильноточных пучков ионов путем их экстракции из плотной плазмы ЭЦР разряда, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн.

Дуоплазматронный источник газовых ионов // 2647887
Изобретение относится к источникам газовых ионов, применяемых в ускорителях заряженных частиц. Дуоплазматронный источник газовых ионов состоит из соосно расположенных: катода, промежуточного электрода с отверстием и анода с отверстием эмиссии.

Устройство для стационарной генерации ионного пучка // 2642852
Изобретение относится к области создания ионных источников, предназначенных для работы инжекторов быстрых атомов водорода в стационарном режиме (атомные пучки большой мощности - до 2 мегаватт), которые могут использоваться для нагрева плазмы в магнитных ловушках.

Ионный источник // 2630426
Изобретение относится к газоразрядным электронным приборам с ионным пучком и может использоваться при обработке материалов, в частности при ионной полировке оптических деталей до дифракционного качества поверхности.

Высокотемпературный источник поверхностной ионизации // 2625728
Изобретение относится к вакуумной технике и может быть использовано для получения пучков ионов при разделении изотопов или масс-спектрометрии. Высокотемпературный источник поверхностной ионизации из монокристаллического материала с объемно-центрированной кубической решеткой снабжен цилиндрическим сквозным отверстием, которое выполнено вдоль кристаллографического направления [111] монокристалла.

Плазменный источник и способ генерирования лучей заряженных частиц // 2621323
Изобретение относится к области плазменной техники, в частности к плазменным источникам для генерирования пучка заряженных частиц. Источник содержит: плазменную камеру, оборудованную впускным патрубком для впуска газа и отверстием для вывода заряженных частиц из плазменной камеры; радиочастотный модуль генерирования плазмы для генерирования плазмы внутри плазменной камеры, причем радиочастотный модуль генерирования плазмы содержит первый и второй резонансные контуры, каждый из которых настроен на, по существу, одну и ту же резонансную частоту, причем первый резонансный контур содержит первую антенну и первый, радиочастотный, источник питания, выполненный с возможностью приведения первого резонансного контура в действие на частоте, по существу, равной его резонансной частоте, а второй резонансный контур содержит вторую антенну, причем в рабочем режиме первый резонансный контур индуцирует во второй антенне радиочастотный сигнал благодаря наличию между ними резонансной связи, причем второй резонансный контур выполнен с возможностью подачи индуцированного радиочастотного сигнала в плазменную камеру для генерирования в ней плазмы; и модуль ускорения частиц для вывода заряженных частиц из плазмы и ускорения заряженных частиц для формирования пучка, причем модуль ускорения частиц содержит второй источник питания, выполненный с возможностью создания разности потенциалов между плазменной камерой и ускоряющим электродом, причем область, расположенная между плазменной камерой и ускоряющим электродом, образует ускорительную колонну.

Источник ионов // 2620442
Изобретение относится к ионно-плазменной технологии и может быть использовано при разработке источников ионов. Технический результат - повышение эффективности работы источника ионов путем обеспечения температуры ионизируемого рабочего вещества, достаточной для получения необходимого давления паров и ионизации этого вещества.

Способ ионно-лучевой обработки изделий с большой площадью поверхности // 2619460
Изобретение относится к способам ионно-лучевой обработки изделий с большой площадью поверхности. Обрабатываемые изделия перемещают поперек большой оси пучка, формируемого с помощью ионно-оптической системы, содержащей плазменный и ускоряющий электроды, каждый из которых содержит большое число щелевых апертур.

Высоконадежный, с большим сроком службы источник отрицательно заряженных ионов // 2615756
Изобретение относится к источнику отрицательно заряженных ионов. Заявленный источник ионов содержит плазменную камеру, микроволновой источник, устройство преобразования в отрицательно заряженные ионы, магнитный фильтр и приспособление для формирования пучка.

Устройство ионного распыления (варианты) // 2595266
Изобретение относится к области ионно-плазменного распыления, в частности к ионно-лучевому распылению мишеней для получения тонкопленочных проводящих, полупроводниковых и диэлектрических покрытий на движущихся или вращающихся подложках большой площади.

Устройство для синтеза наноструктурных покрытий // 2583378
Изобретение относится к устройствам для синтеза износостойких нанокомпозитных покрытий на изделиях в вакуумной камере. Устройство для синтеза покрытий, содержащее рабочую вакуумную камеру, соединенный с камерой анод, полый катод, эмиссионную сетку, перекрывающую полый катод, мишень, установленную на дне полого катода напротив эмиссионной сетки, источник питания разряда, положительным полюсом соединенный с камерой и анодом, а отрицательным полюсом - с полым катодом и мишенью, и генератор импульсов высокого напряжения, положительным полюсом соединенный с камерой и анодом, а отрицательным полюсом - с эмиссионной сеткой, дополнительно содержит вторую сетку и полый электрод, охватывающий пространство между сетками и соединенный с ними электрически, кроме того, устройство дополнительно содержит магнитную систему с арочной конфигурацией силовых линий, установленную за мишенью на дне полого катода.

Способ генерации широкополосного оптического излучения с высокой яркостью // 2571433
Изобретение относится к области оптического приборостроения и касается способа генерации широкополосного оптического излучения с высокой спектральной яркостью. Способ включает в себя создание начальной ионизации в камере, заполненной газовой смесью высокого давления, и освещение камеры сфокусированным лазерным лучом.

Устройство для стабилизации катодного плазменного потока // 2529879
Изобретение относится к области плазменной техники. Технический результат - повышение стабильности плазменного потока и устойчивости протекания тока в межэлектродном промежутке, что обеспечивает существенное уменьшение времени коммутации и увеличение амплитуды разрядного тока.

Плазменный генератор и способ управления им // 2525442
Изобретение относится к плазменной технике, в частности к плазменным генераторам. Технический результат - сокращение потерь мощности, вызванных рекомбинацией ионов/электронов на стенках. В заявке описан плазменный генератор, имеющий корпус, который охватывает ионизационную камеру с по меньшей мере одним имеющимся у нее выходным отверстием, по меньшей мере один входящий в ионизационную камеру подвод для подачи рабочего газа и по меньшей мере одну электрическую катушечную систему, охватывающую по меньшей мере часть ионизационной камеры и электрически соединенную с источником переменного тока высокой частоты, от которого к по меньшей мере одной катушке катушечной системы подводится переменный электрический ток высокой частоты, при этом предусмотрен еще один источник тока, от которого к по меньшей мере одной катушке катушечной системы подводится постоянный ток или переменный ток меньшей частоты, чем у переменного тока высокой частоты от его источника.

Устройство для осаждения металлических пленок // 2510984
Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, а именно к источникам атомов металла преимущественно для осаждения тонких металлических пленок на диэлектрические подложки в вакуумной камере, и к источникам быстрых атомов и молекул газа.
 
.
Наверх