Способ определения параметров носителей заряда в полупроводниках

 

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения параметров носителей заряда в полупроводниках. Целью изобретения является обеспечение определения Холловской подвижности, дрейфовой подвижности и времени жизни неосновных носителей заряда. На образец, имеющий выпрямляющий контакт, воздействуют магнитным полем и монохроматическим излучением. Измеряют зависимости фототока от длины волны монохроматического излучения в длинноволновой области спектральной чувствительности образца при отсутствии и при наличии воздействия магнитным полем. Строят графики зависимостей обратного фототока от обратного коэффициента поглощения. По этим графикам определяют диффузионные длины неосновных носителей заряда при отсутствии и наличии воздействия магнитным полем и по полученным значениям вычисляют Холловскую и дрейфовую подвижности, а также время жизни неосновных носителей заряда. Способ может быть использован для определения параметров неосновных носителей заряда, генерируемых при облучении полупроводника поглощаемым светом. 1 ил.

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения параметров носителей заряда в полупроводниках. Цель изобретения обеспечение определения Холловской подвижности, дрейфовой подвижности и времени жизни неосновных носителей заряда. На чертеже приведена схема устройства для реализации предлагаемого способа. На схеме обозначены образец 1, полюса электромагнита 2, источник 3 монохроматического света, выпрямляющий контакт 4 и измеритель фототока 5. П р и м е р. Определяют параметры неосновных носителей заряда в кремниевой пластине n-типа проводимости с удельным сопротивлением 250 Омсм. Выпрямляющий контакт получают в виде p+-слоя на поверхности образца путем диффузии глубиной порядка 0,2 мкм. Другой контакт осуществляют с противоположной стороны. Образец помещают в зазор между полюсами электромагнита постоянного тока, освещают монохроматическим светом в длинноволновой области спектральной чувствительности и измеряют фототок при различных значениях длины волны света. Результаты измерений приведены в таблице (В индукция магнитного поля). По данным, приведенным в таблице, строят зависимости 1/I=f(1/K) и f сглаживая их по методу наименьших квадратов. По точкам пересечения этих зависимостей с отрицательной полуосью 1/K определяют диффузионные длины неосновных носителей заряда в отсутствие магнитного поля L= 252,80847 мкм и при наличии магнитного поля с индукцией В= 1,606 Тл, Lв=251,60833 мкм. Холловскую подвижность неосновных носителей заряда вычисляют по формуле 1 Зная величину Холловской подвижности, вычисляют дрейфовую подвижность неосновных носителей заряда для данного образца по формуле др= / и время жизни неосновных носителей заряда вычисляют по формуле: L2/ др= 53,5 мкс где К постоянная Больцмана; Т температура образца; q заряд электрона.

Формула изобретения

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ПОЛУПРОВОДНИКАХ, основанный на измерении тока через образец, имеющий выпрямляющий контакт при отсутствии и при наличии воздействия на образец магнитным полем, вектор индукции которого параллелен поверхности образца, отличающийся тем, что, с целью обеспечения определения Холловской подвижности, дрейфовой подвижности и времени жизни неосновных носителей заряда, образец освещают монохроматическим светом в длинноволновой области спектральной чувствительности, изменяют длину волны света и определяют зависимости коэффициента поглощения и фототока от длины волны света при наличии и отсутствии воздействия на образец магнитным полем, строят графики зависимостей обратного фототока от обратного значения коэффициента поглощения, по полученным зависимостям определяют диффузионные длины неосновных носителей заряда и вычисляют Холловскую подвижность по формуле

дрейфовую подвижность др вычисляют по формуле
др=r,
время жизни неосновных носителей заряда вычисляют по формуле

где B - индукция магнитного поля;
L - диффузионная длина неосновных носителей заряда при отсутствии магнитного поля;
LB - диффузионная длина неосновных носителей заряда при воздействии на образец магнитным полем;
K - постоянная Больцмана;
T - температура образца;
q - заряд электрона;
r - Холл-фактор.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2

MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Номер и год публикации бюллетеня: 36-2000

Извещение опубликовано: 27.12.2000        




 

Похожие патенты:

Изобретение относится к метрологии электрофизических параметров полупроводников

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения кристаллографической неоднородности полупроводниковых кристаллов

Изобретение относится к измерительной технике

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для контроля электрической однородности поверхности полупроводников и диэлектриков

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повьппение достоверности контроля качества проработки линий субмикронной ширины

Изобретение относится к технике контроля параметров полупроводников и предназначено для локального контроля параметров глубоких центров (уровней)

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения геометрических размеров плоских изделий, и может быть использовано при измерении толщины плоских изделий из диэлектриков, полупроводников и металлов, в том числе полупроводниковых пластин, пластических пленок, листов и пластин

Изобретение относится к полупроводниковой технике и направлено на повышение точности измерения параметров эпитаксиальных слоев на изотипных проводящих подложках и применение стандартных образцов, изготовленных по технологии, обеспечивающей существенно более высокий процент выхода годных и более высокую механическую прочность

Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для выявления и анализа структурных дефектов (ростовых и технологических микродефектов, частиц второй фазы, дислокаций, дефектов упаковки и др.) в кристаллах кремния на различных этапах изготовления дискретных приборов и интегральных схем

Изобретение относится к области силовой полупроводниковой техники и может быть использовано при изготовлении тиристоров и диодов
Изобретение относится к неразрушающим способам контроля степени однородности строения слоев пористого кремния

Изобретение относится к области измерительной техники, в частности к области измерения электрофизических параметров материалов, и может быть использовано для контроля качества полупроводниковых материалов, в частности полупроводниковых пластин
Наверх