Известна жидкая фотополимеризующаяся композиция иа основе олигомера, мономера акрилового ряда, фотоинициатора, фотосенсибилизатора и наполнителей, предназначенная для изготовления печатных форм. Однако при использовании известных фотополимеризующихся композиций при недостаточно высокой светочувствительности не обеспечиваются необходимые показатели качества печатных форм.

Предлагается жидкая фотополимеризующаяся композиция, имеющая более высокую светочувствительность и обеспечивающая хорошие показатели качества печатных форм: гибкость, эластичность устойчивых к растворителям красок (на основе спирта, ацетона и этилацетата) печатных форм флексографской печати с высокими репродукционно-графическими свойствами и, в том числе, с более пологим профилем печатающих элементов.

Это достигается введением в состав жидкой фотополимеризующейся композиции жидкого каучука, например полисульфидного, пиридииового, полиуретаиового.

В качестве олигомеров используют, например, олигоэфиракрилаты, олигоэфирмалеинаты, а в качестве мономеров вЂ” эфиры метакриловой кислоты, в частности метилметакрплат.

Для фотосенсибилизации композиций применяют бензоин и другие соединения.

Пример. Приготавливают (при тщательном перемешивании компонентов) жидкую фотополимеризующуюся композицию следующего состава, вес. ч:

10 n,ñî-Диметакрил- (бисдиэтиленгликоль) -фталат (тип МДФ-2) 100

Полисульфидный каучук (тип I, II или НВБ-2)

15 Метилметакрилат

Бензоин

После удаления пузырей композицию заливают в полость формующе-копировального

20 устройства из двух стекол (к внутренней стороне одного из них прикреплен негатив), резиновых ограничителей растекания композиции и металлических калибров-ограничителей роста печатной формы и подвергают экспони25 рованию люминесцентными лампами с ультрафиолетовым свечением типа ЛУФ-80 на расстоянии 70 мм в течение 12 вЂ” 14 мин для фор. мирования печатающих элементов (со сторо ны негатива) и в течение 2 вЂ” 4 мин для формнПредмет изобретения

Составитель П. Абраменко

Техред М. Семенов Корректоры: В, Петрова и О. Данишева

Редактор Т. Загребельная

Заказ 944/2 Изд. № 1166 Тираж 506 Подписное

ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр, Сапунова, 2 рования основы печатной формы (с противоположной стороны).

Затем незаполимеризовавшуюся композицию сливают, пробель: печатной формы дополнительно очищают .-месью ацетона и спир- 5 та в соотношении 1: 1 (по объему).

Получают печатныс формы, характеризующиеся устойчивым трапециевидного сечени, профилем печатающих элементов, высокой разрешающей (свыше 100 лип/см) и выделяю- 10 щей (менее 50 мкм) способностью, стойкостью к растворителям красок, гибкостью и эластичностью. жидкая фотополимеризующаяся композиция дл5I изготовления фотополимерных флсксографских печатных форм на основе олигомера, мономера акрилового ряда, фотоинпциатора, фотосенспбилизатора и наполнителя, о тл и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью повышения свето упствитсльности и обеспечения улучшения показателей качества печатных форм, в состав композиции введен жидкий каучук, !! апримср полисульфпдпый, пириднногый, по, пурстаповый.

Похожие патенты:

Негативный фоторезист // 427906

В п т бфонд знсиертоеполиграфин // 406183

Способ получения светочувствительного материала1 // 379110

Патент 373973 // 373973

Фотополимеризующаяся композиция // 362269

Изготовления форлу плоской печати // 351395

Способ изготовления печатных форм из жидких фотополимеризующихся композиций // 322754

Способ изготовления печатных форм // 283100

Фотополимеризующаяся композиция для получения рельефных изображений // 275739

Фотополимеризующаяся композиция // 272814

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления эластичных фотополимерных печатных форм // 2114454

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Фоторезистная композиция и полимер // 2194295

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Фоторезистная композиция // 2199773

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Чувствительная к облучению композиция с изменяющимся показателем преломления и способ изменения показателя преломления // 2239859

Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения

Фотополимеризующая композиция для лазерной стереолитографии видимого диапазона // 2244335

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии

Чувствительная к излучению композиция с изменяемым показателем преломления и способ изменения показателя преломления // 2272054

Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор

Чувствительная к облучению композиция, изменяющая показатель преломления // 2281310

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации

Чувствительные к излучению композиции с изменяющейся диэлектрической проницаемостью и способ изменения диэлектрической проницаемости // 2281540

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат

Дренаж для антиглаукомных операций // 2309781

Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы

Пленочный фоторезист для трафаретной печати и способ его изготовления // 2321037

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности