Фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм

 

О П И С А=Й И

ИЗОБРЕТЕНИЯ пц 440"9 53

Союа Советских

Социалистических

Республик

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (61) Зависимое от авт. свидетельства (22) Заявлено 15.02.72 (21) 1749568/23-4 с присоединением заявки № (32) Приоритет

Опубликовано 25.09.74. Бюллетень № 35

Дата опубликования описания 23.04.75 (51) М. Кл. С 03f 7/10

Государстееииый комитет

Совета Министров СССР ло делам изобретеиий и открытий (53) УДК 775.19(088.8) (72) Авторы изобретения

С. В. Анисимова, В. И. Демков, В. А. Дудяк, Б. В. Коваленко и Э. T. Лазаренко

Украинский полиграфический институт им. Ивана Федорова (71) Заявитель (54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ

ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ

Изобретение касается технологии изготовления фотополимеризующихся,пластин и на их основе фотополимерных печатных форм высокой и типоофсетной печати и может быть использовано в полиграфической промышленности.

Известны фотополимеризующиеся композии на основе полиамидов, включающие,в свой состав мономеры акрилового ряда, фотоинициаторы, фотосенсибилизаторы и ингибиторы термополимеризации.

При изготовлении фотополимеризующихся пластин на основе известных ком позиций невозможно интенсифицировать процесс сушки при повышенных тем пературах (120 — 140 С), так как такие композиции не обладают достаточной термоустойчивостью. Кроме того, печатные формы, изготовленные из этих пластин, прозрачны, что затрудняет визуальный ко нтроль их качества.

Цель изобретения — повышение термостойкости фотополимеризующихся пластин, позволяющий каландрировать их при повышенной температуре, обеспечение высокой светочувствительности этих пластин и улучшение визуального контроля качества готовых фотополимерных печатных форм.

Для этого в фотополимеризующуюся композицию предлагается, вводить нигрозин в количестве 0,015 — 0,030 вес, ч, по отношению к весу полиамида.

Пример. При 40 С и нормальном давлении путем тщательного перемешивания полу5 чают однородную композицию.

Состав ком позиции, вес. ч.;

25%-ный раствор смеша нной полиамидной смолы в 75%-ном этиловом спирте 100

Акриловая кислота 10 — 15

Диметакрилат этиленгликоля 8 — 12

Бензоин 0,3 — 0,5

15 Бензофено|н 0,08 — 0,1

Нигрозин 0,015 — 0,030.

Приготовленную композицию используют для получения фотополимеризующихся пластин. Они обладают повыше иной термостойкостью. После выдержки в термокамере при

120 — 140 С в течение часа не обнаружено явле ния термополимеризации, в то время как контрольные образцы фотополимеризующихся пластики, изготовленные из такой же композиции, не содержащей нигрозина, полностью теряют способность к растворению.

Образцы фото полимеризующихся пластин, выдержанных в термокамере, экспонируют люминесцентными лампами УФ-свечения типа

440953

Составитель П, Абраменко

Редактор Н. Джарагетти Техред T. Курилко Корректор Н. Лебедева

Заказ 950 6 Изд. Мз 405 Тираж 50о Подписное

Ц11ИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий

Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

ЛУФ-80 в копировальной раме с пленочным (полиэтиленовым) покрытием под модельным негативом в течение 20 ми;;. После растворения неосвещенных участков фотопо "ièìåð;.îé

Koпии в 75% -Howl эти IGI3c Hypo JiH3!ID% спирте с использованием струйчой вымывной машины в течсние 10 мин получены фотополимерные печатные формы высокой разрешающей способности (150 лин/см), высокой выделяющей способности (50 мкм), устойчивым трапециевидным профилем печатающих элементов и достаточной глубиной в широких и узких пробелах. Эти пробелы легко измеряются с помощью известных оптико-механических приборов, что обеспечивается наличием черной окраски фотополимерных форм. Контрольный образец (без нигрозина), не подвергавшийся термообработке, обеспечивает показатели качества при времени экспонирования 12 мин, но не позволяет достаточно надежно измерить глубину его пробелов.

Фотополимеризующиеся композиции, в которых используют известные термоипгибпторы (гидрохинон, метиленовый синий и др.), обладающие указанной термостойксстью, позволяют получить требуемые показатели качества фотополимерных печатных форм только при времени экспонирования 50 — 60 мин. Печатающие элементы формы прозрачны.

Введение нигрозина обеспечивает, таким об5 разом, термостойкость фотополимеризующихся пластин, достаточную для калибровки их термомеханичеоким путем, осущес пвляемого при температуре не более 140 С и времени действия пе более 60 мин, сохраняемость выI0 сокой чувствительности и облегчение |визуа7bпого контроля качества печатных форм, так как печатающие элементы окрашены IB темпосерный цвет.

Предмет изобретения

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм, состоящая из полиамида, мономера, фотоинициатора, фотосенсибилизатора и ингибитора термопо.тиме20 ризации, отлич ающа я ся тем, что, с целью повышения термоустойчивости фотополимеризующихся пластин и улучшения визуального контроля качества фотополимерной печатной формы, B состав композиции введен нигрозин

25 в количестве 0,015 — 0,030 вес. ч. по отношению к IBecy полиамида.

Фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм Фотополимеризующаяся композиция для изготовления печатных форм 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к химико-фотографическим фоторезистивным формным материалам, в частности к фотополимеризующимся композициям (ФПК) для изготовления эластичных печатных форм для флексографической печати в полиграфии

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к радиационно-чувствительной фоторезистной композиции

Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения
Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии

Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат

Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности
Наверх