Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов

 

Изобретение относится к получению сцинтилляционных монокристаллов и может быть использовано для регистрации ионизирующих излучений, Целью изобретения является увеличение и стабилизация конверсионной эффективности сцинтилляционных кристаллов и улучшение энергетического разрешения детекторов по их основе, а также обеспечение безотходной технологии. Для достижения цели окрашенные в процессе изготовления или эксплуатации детекторов и фосвичей кристаллу Csl(Tl), а также кристаллы Csl(Tl) и NalO l). не соответствующие техническим условиям (брак), нагревают до 600-750 К со скоростью 0,1-0,3 К/мин, выдерживают при этой температуре 80-150 ч и охлаждают со скоростью 0,2-0,5 К/мин. 3 ил., 2 табл.

СОЮЗ СОВЕТСКИХ

СОЦИАЛИСТИЧЕСКИХ

РЕСПУБЛИК (я)л С 30 В 33/ОО, 29/12

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ

ВЕДОМСТВО СССР (ГОСПАТЕНТ СССР) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ (21) 4657584/26 (22) 03.01.89 (46) 30.11.92 Бюл. № 44 (72) А.В, Долгополова, Н.Г. Кравченко, Н.H.

Смирнов и В,И. Бобыр (56) Гуревич H.Þ., Никулина P.À„Öèðëèí

Ю.А., Говорова P.À, Исследование факторов, влияющих на изменение оптических и сцинтилляционных характеристик монокристаллов иодистого натрия, активированных таллием, при облучении их у-радиацией.

Монокристаллы и техника, ВНИИМ, Харьков, 1970, ¹ 3, с. 188 — 192. .(54) СПОСОБ ТЕРМООБРАБОТКИ СЦИНТИЛЛЯЦИОННЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ НА

ОСНОВЕ ГАЛОГЕНИДОВ ЩЕЛОЧНЫХ МЕТАЛЛОВ

Изобретение относится к получению сцинтилляционных монокристаллов и может быть использовано для регистрации ионизирующих излучений.

Целью изобретения является увеличение и стабилизация конверсионной эффективности сцинтилляционных кристаллов и улучшение энергетического разрешения детекторов на их основе, а также обеспечение безотходной технологии.

Предлагаемый способ включает следующую последовательность операций.

Окрашенные в процессе изготовления или эксплуатации детекторов и фосвичей кристаллы Csl(TI), а также кристаллы Csl(TI) и Йа1(Т1), не соответствующие техническим. Ж,; 1589695A1 (57) Изобретение относится к получению сцинтилляционных монокристаллов и может быть использовано для регистрации ионизирующих излучений, Целью изобретения является увеличение и стабилизация конверсионной эффективности сцинтилляционных кристаллов и улучшение энергетического разрешения детекторов по их основе, а также обеспечение безотходной технологии. Для достижения цели окрашенные в процессе изготовления или эксплуатации детекторов и фосвичей кристалль(Сз1(Т1), а также кристаллы Сз1(Т1} и Иа1(Т1), не соответствующие техническим условиям (брак), нагревают до 600-750 К со скоростью

0,1 — 0,3 К/мин, выдерживают при этой температуре 80-150 ч и охлаждают со скоростью 0,2 — 0,5 К/мин. 3 ил., 2 табл. условиям (брак), нагревают до температуры

600-750 К со скоростью 0,1-0,3 К/мин; выдерживают при этой температуре 80 — 150 ч; охлаждают до исходной со скоростью 0,20,5 К/мин.

На фиг, 1 представлены спектры поглощения кристаллов Сзl(Т1) с различной концентрацией активатора и кислородсодержащими примесями до и после отжига при различных температурах; на фиг. 2 — спектры поглощения кристаллов

Свl(Т1) с высоким содержанием активатора и двухвалентных кислородсодержащих примесей до и после отжига при различных температурах; на фиг. 3 — спектры поглощения кристаллов Йа!(Т1), не соответствующих тех1589695 ническим условиям (брак), до и после отжига.

В табл. 1 приведены оптические и спектрометрические характеристики сцинтилляционных детекторов Csl(TI) и фосвичей

Nal(Tt) + Csl(TI), изготовленных из кристаллов, не соответствующих ТУ (бракованных), окрашенных в процессе изготовления и эксплуатации детекторов Csl(TI) до и после от жига при различных температурах.

Детектор Nal(TI) размерами 63х20 мм использовался один и тот же. В строке ХП приведены технические условия на комбинированные детекторы Cs t(TI) (130x50 мм) +

Nat(Tl).

В табл. 2 приведены оптические и спектрометрические характеристики детекторов

Mat(Tl), не соответствующих ТУ (бракованн ых), размерами 50 х 50 мм до и после отжига. В строке УП приведены технические условия на детектор Nal(TI) размерами

50х50 мм во временной упаковке, Пример 1. Кристалл Csl(TI) с концентрацией таллия 8 10 — 2 мас. без кислородсодержащих примесей размерами 63х63 мм после измерения спектрометрических параметров (табл. 1, 1) и спектров поглощения (фиг. 1, кривая 2) помещают в печь; нагрева ют до 600 K со скоростью 0,2 К/мин, выдерживают при этой температуре в течение 80 ч, охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,4 К!мин.

Спектр поглощения кристалла после отжига представлен на фиг. 1 (кривая 4). Спектрометрические и оптические параметры детектора Csi(TI) и фосвича Nai{TI) + Сз!(Т!) после отжига кристалла Csi(TI) представлены в табл. 1, 11.

Как видно из фиг. 1 (кривая 2) сложные активаторные центры окраски образуются при сравнительно малых концентрациях таллия даже при отсутствии кислородсодержащих примесей. При этом концентрация сложных активаторных центров окраски незначительна, но эти центры, поглощения в области 360-980 нм, ухудшают прозраччость как основного сцинтиллятора Nai(TI) в области 420 нм, так и защитного сцинтиллятора Cst(TI), в области 550 нм, уменьшают число Tl - центров, ухудшая конверсионную эффективность. После отжига при 600 К эти центры разрушились. Коэффициенты поглощения в полосах излучения основного и защитного сцинтилляторов уменьшаются.

Улучшилось энергетическое разрешение и световой выход как самого детектора Csl(TI), так и фосвича Nat(TI)+ Cst(TI), Пример 2. Окрашенный в процессе обработки кристалл Сз!(Т ) с концентрацией активатора 2 10 мас. и следами кисло.родсодержащих примесей размерами 63х63 мм после измерения спектра поглощения (фиг, 1, кривая 1) и спектрометрических параметров (табл..1, III) помещают в печь; нагревают до 600 К со скоростью 0,2 К/мин; выдерживают при этой температуре 80 ч; охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,4 К/мин, Спектр поглощения кристалла после отжига представлен на фиг. 1 (кривая 3), Оптические и спектрометрические параметры детектора и фосвича Nal(TI) +

CsS(TI) после отжига кристалла Csl(TI) представлены в табл. 1, IV.

Как видно из фиг. 1 (кривая 1), концентрация сложных активаторных центров окраски, поглощающих в области 360-980 нм, выше, чем в примере 1. Спектрометрические параметры до отжига хуже, чем в примере 1, Как следует из представленных в табл. 1 и фиг. 1, кривая 3, результатов в процессе отжига при 600 К не все сложные активаторные центры окраски разрушались, что обусловило незначительное улучшение оптических и спектрометрических параметров детектора Csl(TI и фосвича

Nal(Ti) + Csl{Tl).

Ввиду того, что концентрация сложных активаторных центров окраски больше, чем в примере 1, необходимо увеличение температуры отжига для полного разрушения сложных активаторных центров окраски.

Для этого кристалл помещают в печь; нагревают до 750 К со скоростью 0,2 К/мин, вы35 держивают при этой температуре 80 ч и охлаждают со скоростью 0,3 К/мин.

Оптические и спектрометрические параметры детекторов Сз!(Т!) и фосвича после отжига при 750 К представлены в табл, 1, V.

40 Спектр поглощения кристалла Csl(TI) после отжига при 750 K представлен на фиг.

1 (кривая 5), Как следует из представленных результатов, все сложные активаторные центры окраски разрушаются, конверсионная эффективность улучшается, улучшается энергетическое разрешение детектора Csi(Tt) и . фосвича Nal(TI + Csl(TI).

Пример 3. Интенсивно. окрашенный в процессе обработки и изготовления детекторов кристалл Csi(TI) с концентрацией активатора 3,5 х 1C мас. таллия и кислородсодержащими примесями размерами 130х50 мм после измерения спектра поглощения (фиг, 2, кривая 1) и спектрометрических параметров (табл. 1, И), помещают в печь, нагревают до 550 К со скоростью 0,2

К/мин, выдерживают при этой температуре

100 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,3 К/мин, 1589695

Спектр поглощения кристалла после отжига представлен на фиг. 2 (кривая 2). Оптические и спектрометрические параметры детектора Csl(TI) и фосвича Мэ!(Т!) + Csl(TI) после отжига представлены в табл. 1 (строка

Vl 1).

Как видно из фиг. 2 (кривая 2), концентрация сложных активаторных центров окраски, поглощающих в области 360 нм — 980 нм, намного выше, чем в примере 2.

Спектрометрические параметры детектора Csl(TI) и фосвича Nal(TI)+Cst(TI) намного хуже, чем в примерах 1 и 2. Отжиг кристалла при 550 К разрушает только часть сложных активаторных центров окраски, что незначительно улучшает спектрометрию.

Для разрушения сложных активаторных центров окраски кристалл помещают в печь; нагревают до 650 К со скоростью 0,2

К/мин выдерживают при этой температуре

80 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0.3 К/мин.

Спектр поглощения кристалла Csl(TI) 5

20 после отжига при 650 К представлен на фиг, 25

2 (кривая 3). Оптические и спектрометрические параметры детектора Cst(TI) и фосвича

Nal(TI) + Csl(Ti) представлены в табл. 1, Ч1И.

Как видно из представленных результатов, не все сложные активаторные центры окра- 30 ски разрушаются. При этом спектрометрические и оптические параметры детектора

Csl(TI) и фосвича Nal(TI) + Csl(TI) улучшаются.

Чтобы разрушить все сложные активаторные центры окраски, которые еще проявляются в спектрах поглощения и снижают конверсионную эффективность и энергетическое разрешение как детектора Csl(TI), так и фосвича Nal(TI) + Csl(TI), кристалл 40

CsI(TI) помещают в печь, нагревают до 750

К со скоростью 0,2 К/мин, выдерживают при этой температуре 150 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,3

К/мин. 45

Спектр поглощения кристалла Сзl(ТI) после отжига при 750 К представлен нэ фиг, 2 (кривая 4). Оптические и спектрометриче-. ские параметры детектора Cs!(TI) и фосвича после отжига при 750 К представлены в 50 табл. 1, IX.

Как видно из представленных результатов, после отжига при 750 К разрушаются все стабильные сложные активаторные центры окраски, увеличивается число одиноч- 55 ных активаторных центров, тем самым улучшается конверсионная эффективность.

Значительно, по сравнению с исходными, улучшаются разрешение как детектора

Csl(TI), так и фосвичэ Nat(TI)+ Csi(TI).

Пример 4. Кристаллы Nai(TI) размерами 50х50 мм с концентрацией таллия 9,5х х10 2 и 10 мас, $ и наличием следов кислородсодержащих примесей, не соответствующие техническим условиям (брак), после измерения спектрометрических характеристик (табл. 2, 1 и III) и спектров поглощения (фиг. 3, 2 и 4) помещают в печь, нагревают до 750 К со скоростью 0,2 К/мин, выдерживают 150 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,2 К/мин.

Оптические и спектрометрические параметры детекторов Nal(TI) представлены в табл. 2, II u IV. Спектры поглощения кристаллов Nal(TI) после отжига при 750 К представлены на фиг. 3 (кривые 5 и 6).

Как видно и представленных результатов, сложные активаторные центры окраски разрушаются, увеличивается число одиночных активаторных центров, тем самым конверсионная эффективность, и улучшается разрешение детекторов на основе отожженных кристаллов Nal(TI), которые стали не только удовлетворять ТУ, но и быть на уровне детекторов фирмы "Harshaw", Пример 5. Интенсивно окрашенный кристалл Csl(TI), не соответствующий техническим условиям (брак), с концентрацией таллия 4,5 10 " мас.g и наличием двухвалентных кислородсодержащих примесей размерами 130х50 мм после измерения спектрометрических характеристик (табл. 1, Х) помещают в печь, нагревают до температуры 500 К со скоростью 0,5 К/мин, выдерживают при этой температуре 70 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,7 К/мин.

Спектрометрические параметры детек- тора Csi(TI) и фосвича Nal(TI) + CSI{TI) после отжига кристалла CSI(Tt) при 500 К представлены в табл. 1, XI.

Как следует из представленных результатов, параметры детектора Cst(TI) и фосвича Na!(TI) + Csl(Tt) не улучшаются.

Пример 6. Кристалл Nal(TI) размерами

50х50 мм с концентрацией таллия 1 10 мас. и наличием кислородсодержащих примесей, не соответствующий техническим условиям (брак), после измерения спектрометрических оптических характеристик (табл. 2, строка V, фиг. 3, кривая 1), помещают в печь, нагревают до 500 К со скоростью 0,3 К/мин, выдерживают 60 ч и охлаждают до комнатной температуры со скоростью 0,4 К/мин.

Спектрометрические оптические параметры детектора на основе отожженного кристалла Nat(TI) представлены в табл. 2, Ч1 (фиг. 3, кривая 3). Как видно из представлен1589695

Таблица 1

11 % (a сборке с

Nal(Tl) относительно

NaI(Tl) ) R, (энергитическое разрешение

CsI(TI) по у линии

137 С

R, (B сборке с Nal(TI) относительно

Сз!(Т!) ) Кристал Csl(TI) К, см-1(коэффициент поглощения в максимуме полос излучения

Nal{TI) и Csl{TI) СУЕСВ

{в сборке с

Nal{TI) относи тельно

Nal(TI) ) СуесВ (световой выход

CsIPÎ ) Суесв (в сборке с

Nal(Tl) относительно

Сз3(Т3) ) l0 1,06

4/1-87 N. 5

Н После отжига при

Т"600 К

Ч1 0.2 К/мин

Ч20,4 К/мин

1-80ч

Ш 5/1-87 М 5

14,2

12,4

0,965

К цонм=0,062 см

K550Hì=0,05 см

К42онм=0,035 см

2,1

К550 и" 0,03 см1 420нм=0.073 CM

К55онм=0,06 см 1

9,55

10,8

10,5

12,8

14,6

1,09

0,80

1,16

0,90

2,2

2,02

И После отжига при

600 К

V1-0,2 К/мин

Vz 0,4 K/мин с-80ч

Каонм=0,04 см

К550нм=0 038 см 1

10,3 1,11

14,3

1,02

2,15 ных результатов, спектрометрические параметры детектора после отжига при 500 К не улучшаются, Из сопоставления представленных результатов следует, что поставленная цель— увеличение и стабилизация конверсионной эффективности сцинтилляционных кристаллов и улучшение энергетического разрешения детекторов на их основе достигается в примерах 1-3 для кристаллов Csl(TI) и примере 4 — для кристаллов Nal(TI) в заявляемых пределах..

Конверсионная эффективность сцинтилляционных кристаллов и энергетическое разрешение детекторов на их основе ухудшается при повышении концентрации стабильных сложных активаторных центров окраски, которые эффективно разрушаются в заявляемых пределах. При этом, чем больше концентрация сложных активаторных центров окраски, тем выше температура и время отжига (пример 3).

Как показали эксперименты, при существующих и используемых загрузочных концентрациях таллия при выращивании кристаллов Nal(TI) 0,25 мас.$ и Csl(TI) 0,3 мас. и наличии кислородсодержащих примесей (даже следовых количеств) только в заявляемых пределах температуры отжига обеспечивается достижение цели.

Как видно из примеров, используются кристаллы Nal(TI) и Csl(TI), несоответствующие техническим условиям (бракованные), а предлагаемый способ термообработки

5 обеспечивает их использование по назначению с улучшенными спектрометрическими параметрами по сравнению с техническими условиями.

Таким образом, предлагаемый способ

10 обеспечивает использование бракованных кристаллов и безотходную технологию получения сцинтилляционных детекторов высокого спектрометрического качества.

15 Формула изобретен ия

Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов, включающий их

20 нагрев, выдержку при этой температуре и последующее охлаждение, о т л и ч а ю щ ий с я тем, что, с целью увеличения и стабилизации конверсионной эффективности монокристаллов и улучшения энергетического

25 разрешения детекторов на их основе, а также обеспечения безотходной технологии, нагрев ведут со скоростью 0,1 — 0,3 К/мин до

600-750 К, выдержку осуществляют в течение 80 — 150 ч и охлаждение проводят со ско30 ростью 0,2 — 0,5 К/мин.

1589695

Продолжение таблицы 1

К, см (коэффициент поглощения в максимуме полос излучения

Nal(Tl) и Csl(TI) R; (в сборке с Nal(TI) относительно

Сзl(ТI) ) R, (в сборке с

Nal(TI)

ОтнОСительно

Nal(Tl) ) Кристал Cs1(TI) СУЕСВ (в сборке с

Nal(TI) относительно

Сз1(ТI) ) СУЕСВ (световой выход

Csl(Tl) ) СУЕСВ (в сборке с

NaI(TI) относительно

Nal(TI) ) V После отжига при

750 К

V1=0,2 К/мин

V2=0,3 К/мин т=80ч

Vl 4/4-88 М 2

К42онм=0,028 см

К55онм=0,026 сМ 1

2,38

1,2

1,31

9,5

10,2

К420нм=0,12 СМ

К55онм Ч),117 см

2,0

0,9

14,2

15,4

13,5

К420нм=0.07 См

К55онм=0,063 см

2,1

1,05

12,6

14,6

К420нм=0,048 см

К550нм=-0,042 См

2,39

1,17

1,15

13,5

12.6

К420нм=0,038 См

К550нм=0,037 см

- I

10.8

1,36 i.3

К420нм=0,12 См

-1

М50нм=0,116 см

2,02

1,02

13,3

Xl После отжига при

500 К

Ч1=0,5 К/мин

Ч2=0,7 К/мин

t=70 ч

13.2

К42онм-О 119 см 1

%сонм=0,0116 см 1

2,0

1,08

14,9

Х!! Технические условия на фосвич СДН-63 Csl(TI) 130x50 мм+ Nal(TI) по у- линии Cs

13 12

Примечания:

VlI После отжига при 550 К

V1=0,2 К/мин

V2=0,3 К/мин 100ч

Ч111 После отжига при 650 К

Ч1=0,2 К/мин

Ч2-0,3 К/мин

t=80÷

1Х После отжига при 750 К

Ч1=0,2 К/мин

Ч2=0,3 К/мин

t=150s

Х 4/4-88 N. 1

R, (энергитическое разрешение

Сз!(Т!) по плинии

137 С

V1- скорость нагрева кристала Csl(TI); Ч2- скорость его охлаждения;

1=время его отжига.

Коэффициент поглощения К(см 1) в полосах излучения

Nal(T и Сзl(Т1) приведены без учета отражения.

1589695

Таблица 2

CvEce (световой выход ) К, см (коэффициент поглощения в максимуме полосы излучения Л420 нм

R, $ (энергетическое разрешение) Кристал. Na((TI) I 2А, 124, 87 до отжига

11 После отжига при

Т 750К

Ч1-0,2К/мин

Ч2-0,2К/мин

-150 ч.

П(17/7-88 до отжига (Ч После отжига при

Т-750 К .Ч1-0,2 К/мин

V2-О,2 К/мин

t-150 ч

Ч 16/ 1-86 Q 2

Vl После отжига при

500 К

Ч1 О,ЗК/мин

V2&,4Ê/мин

К42онм 0,1 см

10,22

1,77

К420нм 0,06 СМ

2,51

8,9

К42онм 0,118 см

1,49

13,61

К42онм 0,082 см 1

1,89

9,86

К42Онм 0,128 СМ 1

15,2

К420нм 0,12 см

1.0

14,9

t 60ч

Vll Технические условия на детектор размерами 50х50 мм во временной упаковке

ЫО (1,5

fl р и м е ч а н и я: V>- скорость нагрева кристала Na((TI) Ч2- скорость его отжига;

t-время его отжига.

ttet- Коэффициент поглощения К(см ) в полосе излучения кристал1589695

02 см о о яо аю ао воо гаа ац

Фиг.д

Составитель А. Серебряков

Техред М,Моргентал Корректор Q.Густи

Редактор Т,Куркова

Производственно-издательский комбинат "Патент", r. Ужгород, ул,Гагарина, 101

Заказ 559 Тираж Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР

113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., 4/5

Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов Способ термообработки сцинтилляционных монокристаллов на основе галогенидов щелочных металлов 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к исследованию доменной структуры ниобата лития путем химического травления, может быть использовано при изучении реальной структуры монокристаллов

Изобретение относится к обработке кристаллов танталата лития методом травления, в частности к исследованию реальной и доменной структуры кристаллов методам оптической и электронной микроскопии

Изобретение относится к полупроводниковой технике, в частности к технологии производства полупроводниковых приборов на основе арсенида индия

Изобретение относится к способам обработки активных элементов лазерной и нелинейной оптики и может быть использовано при изготовлении нелинейных элементов на основе монокристалла иодата лития -LilO3 например параметрических преобразователей длины волны лазерного излучения

Изобретение относится к изготовлению ферромагнитных монокристаллических изделий для электронной техники, в частности к технологии изготовления сферических резонаторов из монокристаллов феррогранатов

Изобретение относится к обработке твердых и хрупких материалов, в частности к устройствам для обработки монокристаллов, которые применяются в химической промышленности при порезке кристаллов , и позволяет улучшить качество поверхности резания кристаллов

Изобретение относится к квантовой электронике и позволяет повысить качество щелочно-галоидных монокристаллов

Изобретение относится к технн- .ке люминофоров на основе монокристаллов фторида кальция, используемых для регистрации поглоп1енньгх доз рентгеновского , гамма-излучения -и другюс видов ионизирующего излучения в медицине , радиационной технике, и обеспечивает увеличение отношения чувствительностей к о( - и J) -излучениям и сн ижение фединга

Изобретение относится к техно-, логни получения материалов для изготовления оптических элементов ИК- техники и позволяет упростить способ получения кристаллов и удалить из камеры .токсичные и агрессивные гйзы Способ получения щелочногалоидных кристаллов включает нагрев Исходного сьфья в герметичной кймере под давлением инертного газа 1-2 атм до расплавления, снижение давления инертного газа до 0,01-0, 2 атм и выращи- ;йание кристалла

Изобретение относится к технологии получения сцинтилляционного материала на основе щелочНо-галоидных монокристаллов , может быть использовано в химической промышленности и обеспечивает улучшение спектрометрических характеристик материала за счет снижения концентрации продуктов неполного сгорания органических примесей

Изобретение относится к получению кристаллов для инфракрасной техники используемых в качестве оптических элементов о Обеспечивает увеличение предела текучести кристаллов при сохранении оптических свойств,

Изобретение относится к области выращивания активированных монокристаллов и может быть использовано при производстве сцинтилляторов, применяемых в приборостроении для ядерных, космических, геофизических исследований, для медицинской и промышленной компьютерной томографии
Наверх