Испаритель для вакуумных установок

 

259596

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл. 48Ь, 13/08

Заявлено 28.Х.1968 (№ 1279273/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

МПК С 23с

Комитет по делзхт изобретений и открытий ори Совете Министров

СССР

УД К 621.793.14.002.51 (088.8) Опубликовано 12.Х!1.1969. Бюллетень ¹ 2 за 1970

Дата опубликования описания 4Х1.1970

Автор изобретения

Заявитель

Г. А. Чепахин

Казанский ордена Трудового Красного Знамени авиационный институт

ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ВАКУУМНЫХ УСТАНОВОК пус 1 оборудован экраном-насадкой 5, изготовленным в виде усеченного конуса с отверстиями на конической поверхности.

При нагреве пары иопаряемого вещества

5 заполняют внутренн ш объем испарителя. Паровой погок после многокрапных отражений выходит через отверстия в экране-насадке, образуя равномерньш конденсат на поверхности конденсации. Для лучшей равномерности кон10 двнсата рекомендуется использовать экраннасадку с конической поверхностью, образующая которой составляет угол в 60 с основанием конica.

Испаритель для вакуумных установок, содержащий цилиндрический терморадиацпон,ный корпус, в основании которого укрвплен

20 перфорированный контейнер для иопаряемого материала с расположенным, вокруг него резистивным нагревателем, отличающийся тем, что, с целью получения равномврного конденсата, корпус снабжен экраном-насадкой, вы25 полненным в виде усеченного конуса с отверстиями на конпчеокой поверхности.

Изобретение используется в камерах вакуумного напыления тонких пленок и различных покр ытий.

Известен |испаритель для вакуумных установок, содержащий цилиндрический терморадиационный корпус, в котором расположены перфорированный контейнер для испаряемого, материала и резистивный нагреватель.

Однако известное устройство не обеспечивает достаточной равномерности конденсата.

Описываемьш испаритель позволяет получать равномерный конденсат, что особенно важно в серийном производстве, так как можно иметь одновременно большое количество равномерных по толщине пленок.

Это достигается тем, что корпус снабжен экраном-насадкой, выполненным в виде усеченного конуса с отверстиями на конической ,повврхоости, На чертенке показан описьзваемый иопаритель.

Он включает цилиндрический терморадиационный корпус 1, в основании 2 которого укреплен .перфорированный контейнер 8 для испаряемого материала с расположенным вокруг него резистивным нагревателем 4. КорПредмет изобретения

259596

Составитель Е. Кубасова

Редактор Н. Л. Корченко Техред Т. П. Курилко

Корректор Г. П. Шильман

Заказ 1299/3 Тираж 500 Подписное

ЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Типография, пр. Сапунова, 2

Испаритель для вакуумных установок Испаритель для вакуумных установок 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх