Патент ссср 234821

 

ОПИСАНИЕ

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

23482I

Сома Советских

Социалистическими

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Заявлено 16.IV.1964 (№ 895433/22-1) Кл. 48b, 13/08 с присоединением заявки ¹

МПК С 23с

УДК 621.793.1 (088.8) Приоритет

Опубликовано 10.1.1969. Бюллетень ¹ 4

Дата опубликования описания 28Х.1969

Комитет оо делам изобретений и открытий пои Совете Министров

СССР

Фйч

А. Ф. Первеев и В. Ф. Суетин ° Мер

Авторы изобрс1ения

Заявитель

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИСПАРЕНИЯ ВЕЩЕСТВ В ВАКУУМЕ

Предмет изобретения

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.

Известно устройство для испарения веществ в вакууме, содержащее питатель и объемный испаритель.

Предложенное устройство отличается от известного тем, что питатель выполнен в виде удлиненной трубки, оканчивающейся конусом с отверстием, через которую протянута проволока, закрепленная на бойке, связанном с электромагнитом.

Данное устройство обеспечивает направленную подачу веществ микропорциями в испарптель.

На чертеже схематически изображено описываемое устройство в общем виде.

Устройство состоит из питателя, выполненного в виде удлиненной трубки 1, оканчивающейся конусом 2 с отверстием 8, и объемного испарителя 4. Через трубку проходит проволока

5, которая закреплена на бойке б, связанном с электромагнитом 7.

При включении электромагнита боек б вместе с проволокой 5 поднимается и открывает отверстие 3 в удлиненной трубке 1. Из отверстия в объемный испаритель 4 поступает микропорция вещества, находящегося в удлиненной трубке 1.

При выключении электромагнита 7 боек б падает и проволока 5 закрывает отверстие 8, препятствуя закупориванпю последнего, вследствие конденсации пспаряемого вещества на

5 нижнем конце удлиненной трубки 1. При попадании микропорции вещества на дно объемного испарителя 4, нагретого до относительно высокой температуры, частицы вещества отражаются во все стороны, но вылетают из испа10 рителя лишь те частицы, которые отражаются вертикально вверх. Меняя высоту поднятия проволоки 5 и диаметры отверстия 3 и проволоки 5, можно менять величину мпкропорции вещества.

20 Устройство для испарения веществ в вакууме, содержащее питатель и объемный испаритель, отличающееся тем, что, с целью направленной подачи веществ микропорциями в испаритель, питатель выполнен в виде удлинен25 ной трубки, оканчивающейся конусом с отверстием, через которую протянута проволока, закрепленная на бойке, связанном с электромагнитом.

234821

Составитель И. Резник

1 сдактор Г. К. Гончарова Гехред Л, Я. Левина Корректор С. Х. Сигал

Заказ 675!10 Тираж 465 Г!одписное

Lll-111ИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР

Москва, Центр, пр. Серова, д. 4

Типография, пр. Сапунова, 2

Патент ссср 234821 Патент ссср 234821 

 

Похожие патенты:

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме
Наверх