Патент ссср 281997

Авторы патента:

C23C14/26 - с использованием источника резистивного или индуктивного нагрева

0 Il И С А Н И Е 28!997

ИЗОБРЕТЕНИЯ

К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ

Союз Советских

Социалистических

Республик

Зависимое от авт. свидетельства №

Кл, 48Ь, 13/08

Заявлено 15Х111.1968 (№ 1262882/22-1) с присоединением заявки №

Приоритет

Опубликовано 14,1Х.1970, Бюллетень № 29

Дата опубликования описашгя 7.XII.1970

МПК С 23с 13/08

Комитет по делам иаооретеиий и открытий при Совете Министров

СССР

УДК 621.793.14(088.8) Авторы изобретения

В. А. Гольдфарб, Э. В. Гончаров и В. Ф. Сынор

Заявитель

СПОСОБ ИСПАРЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области испарения материалов в вакууме.

Известен способ испарения материалов в вакууме путем высокочастотного нагрева.

Однако известный способ не позволяет осуществлять процесс испарения из кольцевого источпика.

Предложенный способ позволяет осуществлять процесс испарения из кольцевого источника, что, в свою очередь, приводит к повышению равномерности и чистоты получаемых при его использовании пленок.

Способ позволяет наносить покрытия на крупногабаритные поверхности.

Данный способ отличается от известного тем, что испарению подвергают материал в форме диска при частоте электромагнитного поля, обеспечивающей появление скин-эффекта на его боковой поверхности.

При осуществлении способа образец распыляемого вещества в виде диска размещают на диэлектрическом основании соосно с индуктором и частоту электромагнитного поля подбирают таким образом, чтобы распыление происходило только с боковой поверхности образца. При этом тонкий слой вещества на боковой поверхности диска плавится и испаряется. Средняя часть образца находится при более низкой температуре и не испаряется.

При необходимости диэлектрическое основание, на котором размещен диск, может охлаж1р даться, что полностью исключит возможность взаимодействия испаряемого материала с материалом диэлектрического основания.

Предмет изобретения

Способ испарения материалов в вакууме путем высокочастотного нагрева, от,гггчагогггггйгся тем, что, с целью осуществления процесса пз кольцевого источника, испарению подвергают

20 материал в форме диска при частоте электромагнитного поля, обеспечивающей появление скин-эффекта на его боковой поверхности.

Устройство для испарения материалов в вакууме // 270432

Испаритель для вакуумных установок // 259596

Патент 256459 // 256459

Устройство для напыления металлов в вакууме // 248420

Устройство для подачи порошковых материалов // 246263

Патент 234821 // 234821

Испаритель порошкообразных материалов // 210604

Патент 208408 // 208408

Патент 201484 // 201484

Способ формирования защитных покрытий графитовых подложкодержателей и устройство для его осуществления // 2165999

Изобретение относится к технологии и оборудованию для получения эпитаксиальных структур кремния методом осаждения из газовой фазы

Испаритель для металлов и сплавов // 2219283

Изобретение относится к устройствам, предназначенным для получения газофазным методом высокодисперсных и ультрадисперсных порошков металлов и сплавов, а также для нанесения металлических покрытий в вакууме на металлические и неметаллические изделия, предназначенные для использования в микроэлектронике, химической технологии и других отраслях промышленности

Испаритель для металлов и сплавов // 2254963

Изобретение относится к устройствам для получения газофазным методом порошков металлов и сплавов, а также для нанесения покрытий

Защитный элемент и способ его изготовления // 2316429

Изобретение относится к защитному элементу для защищенной от подделки бумаги, банкнот, удостоверений личности или иных аналогичных документов, к защищенной от подделки бумаге и ценному документу с таким защитным элементом, а также способу их изготовления

Испаритель для металлов // 2347849

Изобретение относится к области металлургии, а именно к испарителям для металлов, и может быть использовано для изготовления металлических порошков и нанесения покрытий на различные поверхности

Испаритель для металлов и сплавов // 2382117

Изобретение относится к испарителю для металлов и сплавов и может найти применение в порошковой металлургии для получения высокодисперсных и ультрадисперсных металлов и сплавов

Устройство для вакуумного напыления пленок // 2411304

Изобретение относится к технике получения пленок в вакууме, в частности к устройству для вакуумного напыления пленок, и может быть использовано для эпитаксиального выращивания слоев при изготовлении полупроводниковых приборов, устройств интегральной оптики, при нанесении функциональных покрытий из металлов и кремния и т.п

Вакуумное обрабатывающее устройство // 2421543

Изобретение относится к устройству для вакуумного парового осаждения слоя на подложку путем облучения материала напыления

Устройство для нанесения полимерных пленок в вакууме // 2051200

Изобретение относится к вакуумному нанесению слоев и может быть использовано для термического нанесения полимерных пленок из газовой фазы

Испаритель // 2058424

Изобретение относится к технологии микроэлектроники, а именно к устройствам для нанесения покрытий в вакууме